真空ポンプに捕捉フィルターをつけてポンプトラブルを事前に防止！

PR捕捉フィルターがカギ！樹脂・化学業界にもドライポンプが使用可能に。ドラ…

当社がご提供する「HSコレクター」は、パーティクルを98%以上捕捉する高性能・コンパクトな捕捉フィルターシステムです。 ポンプトラブルを事前に防ぐ方法はないかと多々ご相談を頂くことが多くあったので、真空ライン中のオイルミスト・溶剤・モノマー・オリゴマー等を最も効率よく捕捉し、メンテナンス性・耐薬品性にも考慮して開発しました。 また、ドライ真空ポンプとセットでご提供も可能です。 省エネ・低...

メーカー・取り扱い企業： エイチアールディー株式会社 本社・大阪第一支店・大阪第二支店・名古屋支店・豊田支店・東京支店・HRD-THAI

【ドライアイス】角ドライアイス・ビーズドライアイス・ペレット

PR多種多様に利用可能！高い冷却能力により蓄冷剤よりも低温冷却が可能。長時…

当社では、炭酸ガスのスペシャリストとして優れた冷却物性のあるドライアイスに着目！ 冷却能力－78.9℃の個体ドライアイスは、今やコールドチェーンには欠かせない存在です。製造・流通・保存・研究等、様々な用途に幅広く利用され、今後ますます需要の拡大が見込まれている分野です。 【ラインアップ/特長】 ■ビーズドライアイス ◎直径3～9ｍｍ、長さ10～25ｍｍビーズ状にカットしたイワタニ独自開...

メーカー・取り扱い企業： 東日本イワタニガス株式会社 開発本部

ドライエッチング装置

MRAM用ドライエッチング装置！

反応性イオンエッチング装置(RIE)、誘導結合プラズマ (ICP)エッチング装置、イオンビームエッチング装置(IBE)等のドライエッチング装置など各種取り揃えております。...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対応…

当社は汎用性の高いエッチング装置や、低温低圧条件でも緻密に成膜できる堆積式の成膜装置を取り揃えております。 【ドライエッチング機種（一例）】 Pishowシリーズ： ■シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能 ■幅広い温度の工程に対応可能 ■エッチングの速度と均一性を精密制御 ■BOSO...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

ドライエッチング装置

RIEモードとDPモードの切り替えが可能！特殊表面処理によるメタルコン…

『ドライエッチング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動で 連続処理することができる量産装置です。 2周波独立印加方式で、特殊表面処理によるメタルコンタミ低減。 マルチチャンバ仕様や各種オーダー...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

イオンビームミリング・エッチング装置-伯東/エヌエス

Au, Pt, 磁性材料等の難エッチング材料の加工に最適なドライエッチ…

イオンビームミリング装置は、ドライプロセスでの微細加工装置として、研究開発から生産まで幅広い用途で使用されています。化学反応を伴わない物理的なエッチングプロセスの為、Au, Pt, 磁性材料、金属多層膜なども簡単に加工可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

ドライエッチング装置・XeF2エッチング装置

XeF2エッチング装置

●完全ドライプロセスであるため、スティクションによる自立デバイスの破壊を抑制することが可能。 ●ウエットプロセスにおける前処理、後処理が不要。 ●ガスを断続的に流し、エッチングすることによりエッチングのス...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

ドライエッチング装置・リアクティブイオンエッチング装置・コンパクトエッチャー・アッシング装置・クリーナー(クリーニング装置)

ドライエッチング装置・リアクティブイオンエッチング装置・コンパクトエッ…

FA-1は、ICチップ上の各種不良解析のためのパッシベ-ション膜の剥離や各種シリコン薄膜のエッチング、フォトレジストのアッシングなどを効率よく、かつ低損傷で行うドライエッチング装置です。操作方法は簡単で、試料をセットしてボタンを押すだけで使用できます。また、省スペースで場所を選ばず、床置型、卓上型のどちらにも対応が可能です。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

ドライエッチング装置 RIE-10NR（平行平板型RIE装置）

数百台の実績を誇る汎用性に優れたドライエッチング装置。

● 高い選択比と高精度のエッチングが可能。 ● PLCコントロールによる自動運転およびプロセスパラメータの保存が可能。 ● 試料はφ8インチまで対応可能。 ● 高速排気エッチングが可能。 ● コンパクト設計...RIE-10NRは、Si、Poly-Si、SiO2、Si3N4などの各種シリコン薄膜の高精度エッチングを目的としたリアクティブイオンエッチング装置です。本装...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

ドライエッチングの受託加工

Siやカーボン膜の受託エッチングサービス

Siやカーボン膜のドライエッチングを受託加工致します！！ 条件出しやデモ処理は無償対応。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

最大基板サイズ：Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4源） ◉ 有機蒸着ソース：1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3源） ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能（オプション 要仕様協議） ◉ その他オプション： 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

プラズマ装置 プラズマクリーナー プラズマ洗浄装置カタログ

ドライ洗浄のプラズマ技術で環境を守り、半導体デバイスの生産性を大幅に向…

置を掲載したカタログです。 デモ機や、プラズマ装置のラインアップの他、「RIE プラズマ処理のしくみ」や、 「DP プラズマ処置のしくみ」などもご紹介しています。 当社では、プラズマドライクリーナー、エッチャー（エッチング）、アッシャー（アッシング）の処理目的に合った プラズマ装置を、標準品以外にもカスタムメイドで対応。 企画から提案まで一環してお引き受けしています。 ...

メーカー・取り扱い企業： ヤマトマテリアル株式会社

プラズマドライクリーナー 　プラズマクリーナー　プラズマ洗浄装置

ご要望に合わせてカスタマイズ出来るプラズマクリーナー

ドライ洗浄のプラズマ技術で環境を守り、半導体　電子デバイス製造工程のアッシング、エッチングをはじめ、レンズ、医療処置具、チューブ、粉体洗浄、表面改質による印刷やコーティング材の密着(親水)性の改善により 生産性や品質を大幅に向上させることを目的とした装置です。 ...

メーカー・取り扱い企業： ヤマトマテリアル株式会社

【エージング時間が大幅短縮！】耐プラズマ耐食性YOF保護膜

時代はY2O3からYOFへ！エッチング装置のエージング時間を大幅短縮、…

イオンアシスト蒸着法によるYOF膜（酸フッ化イットリウム膜）は、ドライエッチング装置部品の保護膜としてパーティクル低減、装置稼働時間を大幅にアップさせるだけでなく、これまで要したエージング時間を大幅に短縮させることができます。半導体不足が問題となっている昨今、歩留ま...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

【独自のイオンアシスト蒸着法による超緻密な厚膜】酸化イットリウム

イオンアシスト蒸着法による超緻密で厚膜形成で半導体歩留と装置稼働時間が…

化イットリウム）膜』についてご紹介します。 「Y2O3」を独自のイオンアシスト蒸着法でアルミナ基板上では15μm、石英ガラス上では10μmの密着性が高く、緻密性の高い厚膜ができます。 用途は、ドライエッチャー部品向け耐プラズマの保護膜です。 ドライエッチャー部品の成膜で良い膜をお探しの方はぜひ、ご相談ください。 【特長】 ■エッチング装置のRFウィンドウの再生市場価格1/2実現 ...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

現像・エッチング・剥離装置

設置場所に合わせて各チャンバーやポンプのレイアウトを設計致します

株式会社ファイコーポレーションでは『現像・エッチング・剥離装置』を 取り扱っております。 ドライフィルムのパターン形成において、現像後のワークを投入する事により 塩化第二銅にてエッチングを行いその後、苛性ソーダによって ドライフィルムを剥離。 この時、ドライフィルムは膨潤剥離型のフ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ファイコーポレーション

ＤＬＣ除膜装置（精密金型用プラズマクリーナー）

非球面レンズのＤＬＣ膜の除去に実績豊富なプラズマクリーニング装置。高付…

２５０ｍｍ□の処理ステージに均一なプラズマを実現したプラズマクリーニング装置。 従来機「ＰＯＥＭ」よりイオンエネルギーを向上。より強いイオン衝撃とＯ２イオンでＤＬＣを除膜。ドライプロセスで基板ダメージと廃液処理の不要なクリーンプロセスを実現。 プラズマエッチングで蓄積されたマルチガスプロセスで多様なＤＬＣ膜の除去に対応するとともに微細加工モールドの作成にも実績。ＤＬＣだ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

小型イオンビームエッチング装置

イオンソースを使用し、加工対象物にイオンビーム照射をし、ドライエッチン…

○シングルステージ →水冷機構 →3軸動作 自転・入射角度・円弧移動 →不定形基板～Max 6inchまで選択可能 ○排気系 →主排気：TMP または Cryo-pump →粗挽き：ドライポンプ または ロータリーポンプ ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

Druck 半導体アプリケーション用圧力センサ

半導体製造装置の流量制御に必要な高精度の圧力センサ各種。モジュールのカ…

【半導体製造装置向け圧力センサ各種】 半導体製造装置に使われるガスの圧力制御には高い精度が要求されます。ドラックでは半導体装置のサブシステム内の圧力を計測するセンサ、ドライ・エッチングのマスフロー・コントローラに使用できる高精度の圧力センサ、大気圧計など。 ■ADROITシリーズ:　今年登場の新製品。デジタル温度補正機能を搭載したアナログ圧力センサ。温度変化の...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

フォトリソ工程洗浄剤　NDシリーズ

フォトリソ工程装置内（ノズル、 搬送ローラー、 槽壁等）に固着したレジ…

ドライフィルムレジスト(DFR)現像槽、剥離装置、ソルダーレジスト(SR)現像装置に付着したスカムをスプレイ処理により擦らず、簡単に除去可能なフォトリソ工程洗浄剤です。消泡剤不要であり、溶解許容量まで繰り返し使用する事が可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ADEKA

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

Φ3"（最大4） ・プラズマ電源：RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基板バイアスに...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

大型プラズマエッチング装置

ウェハやガラス・大型基板のエッチング・アッシングに実績豊富なバッチタイ…

カット済みのフィルム基板のエッチング・クリーニング・表面処理にも実績豊富。 電子デバイスだけでな半導体製造装置部品や材料などくクリーンネスと繊細な表面処理が求められる大型製品の処理にも最適な新型ドライプロセスツール...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

銅表面処理剤　アデカテックCA-1、テックCL-8

銅の表面処理を施し、様々な機能を付与することで各種レジスト材料との密着…

-1＞ 過酸化水素が主成分である銅箔化研処理剤です。硫酸との混合比を変えることで削り量と粗さを変えることができるため、複数の工程用途に対し柔軟に対応することができます。また、低化研量域においてもドライフィルムレジスト(DFR)との高い密着性を維持することができます。 ＜テックCL-8＞ 水との希釈倍率を変更することで、 任意のエッチング速度を得ることができる１液タイプの銅表面処理剤です...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ADEKA

卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』

独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能な卓上プラズマエッチング装置

【仕様（抜粋）】 ■装置寸法：240mm(W)×390mm(D)×350mm(H) ■重量：20kg ■真空ポンプ：ドライポンプ（15L） ■加工範囲：28mm×28mm(オプションステージ使用時) 0.5~4mm ■対応可能ガス：CF4、N2、D.A、Ar、O2等 ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三友製作所 テクノセンタ

【デモ実施中！】小型実験用イオンビームエッチング装置

【デモ実施中！】使用ニーズに合わせてカスタマイズできるイオンソースを搭…

●シングルステージ 　水冷機構 　3軸動作　自転・入射角度・円弧移動 　不定形基板からMax 6inchiまで選択可能 ●排気系 　主排気　TMPまたはCryo-pump 　粗引き　ドライポンプまたはロータリーポンプ その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜

Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…

半導体製造工程の一つであるドライエッチングプロセスにおいてウェハ処理を行うと、プロセスガス自体からの生成物やエッチング時の副生成物がチャンバ内壁やチャンバ内のパーツ表面に付着するといった現象が発生すします。これら堆積物の付着によ...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

耐プラズマ性Oリング フロロパワーDPR (特殊フッ素ゴム)

Oリングの桜シールによる配合材無使用の特殊（フッ素ゴム+フッ素樹脂）材…

優秀な耐プラズマ性を有しながらコスト優位性の高い特殊材質です。配合剤を使用していないことから低パーティクル性に優れ、半導体や液晶関連機器などのドライプロセスに於いて、優秀な耐プラズマ性を発揮します。ノンフィラータイプの耐熱パーフロ材質「フロロパワーFFN（FFKM-耐プラズマ）」の下位互換として有効です。桜シール株式会社は、JIS規格による一...

メーカー・取り扱い企業： 桜シール株式会社 日本本社

樹脂製多目的スピンプロセッサ『POLOS』＊デモ機貸有り

１台あればコーティング・洗浄・エッチングなど様々なプロセスに対応ができ…

プ、ミニウェットステーションとタイプも選べます。 【特　長】 ■全て樹脂製のスピンプロセッサだから… ・使いやすい＝汚れても簡単に洗浄できる ・多目的に使える＝エッチング、現像、スピンドライなど ・薬品に対して強い！(ポリプロピレン or テフロン) ■ブラッシュレスモーター採用だから ・重い基板でも正確に回転 ・加速スピード設定や逆回転・パドル操作の設定が可能 ・回転数は...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社協同インターナショナル

ナノインプリント装置「TEXシリーズ」＊デモ相談可能

従来のフォトリソグラフィーと比較して、研究開発から量産用途まで扱いやす…

【特徴】 ○真空・加圧の無いシンプルな装置構成 ○耐久性に優れた独自素材のモールドを使用 ○フォトニックレベル(φ250nm)まで可能 ○120枚／時間の高速処理を実現 ○ドライエッチング後サファイア基板断面選択比：0.8を実現 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社協同インターナショナル

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ 発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対…

・ドライエッチング機種 Pishowシリーズ： シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能； 幅広く温度の工程に対応可能； エッチングの速度と均一性を精密制御； BOSOH工程に対応...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

【オーダーメイド製作実績】ドライエッチング装置

「XeF2エッチング装置」「バッチ式アッシング装置」などの実績を保有し…

ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『ドライエッチング装置』の オーダーメイド製作実績をご紹介します。 「研究開発用ICPエッチング装置」や「ICPプラズマエッチング装置」 「XeF2エッチング装置」「バッチ式アッシング装置」など...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

【主仕様】 ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可） ・真空排気：真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着：最大4源点（Model. TE1～TE4蒸着源） ・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社