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    超低湿度用防湿庫『ドライ・キャビ HYP2シリーズ』

    PR新型デジコンと高精度湿度センサー採用!ドライユニット内の特殊乾燥剤は半…

    『ドライ・キャビ HYP2シリーズ』は、新型デジコンにより庫内の湿度を 正確にコントロールできる超低湿度用防湿庫です。 高精度湿度センサーの採用により正確に表示することが難しかった5%RH以下の 湿度を正確に表示。超高速除湿のHYP・DUSに湿度設定と自動省エネの機能が 付いて高性能化しました。 使い易い全面ワイドドア(マグネットパッキン式)で、中央支柱がないので、 横長のもの...

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    メーカー・取り扱い企業: トーリ・ハン株式会社

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    中量機用二流体ノズル  ※2024年3月導入済!

    PR300種類超の製造実績!1987(昭和62)年運転開始以来コンタミクレ…

    ラボ機での反響を踏まえ、平均粒子径5~20μmの微粒子造粒粉をつくる 中量機用二流体ノズルを2024年3月に導入致しました。 2022年12月に、微粒子生産試験用として二流体ノズル噴霧機構を 導入してから約一年、お客様からのフィードバックが良好であること、 またその結果を踏まえスケールアップをご希望の声があることなどをかんがみ、 中量機(大川原・OC-16型)向けにも二流体ノズル噴霧...

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    メーカー・取り扱い企業: 日華化成有限会社

  • 洗浄装置・UV/O3洗浄装置・ドライ洗浄装置・クリーナー(クリーニング装置)・ストリッパー(ストリッピング装置) 製品画像

    洗浄装置・UV/O3洗浄装置・ドライ洗浄装置・クリーナー(クリーニング装置)・ストリッパー(ストリッピング装置)

    洗浄装置・UV/O3洗浄装置・ドライ洗浄装置・クリーナー(クリーニング…

    UV-1は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された研究開発用の洗浄装置です。...

    メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社

  • 小型オゾン発生装置『パーフェクト・クリーンモア PCM-10F』 製品画像

    小型オゾン発生装置『パーフェクト・クリーンモア PCM-10F』

    オゾンウェットまたは石油ドライ溶剤の除菌消臭。低NOxタイプなので排出…

    オゾン発生方式を採用。オゾン濃度が均等化されるため、 チューブ内の結露を軽減します。 クリーンなオゾンの力で衛生的なクリーニングを実現します。 【特長】 ■オゾンウェットまたは石油ドライ溶剤の除菌消臭 ■コンパクト&高出力設計 ■ランプ交換時期がわかる ■結露防止&クリーンガス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: ワイズプラント株式会社

  • UV(紫外線)オゾン洗浄装置| UV-208/UV-312 製品画像

    UV(紫外線)オゾン洗浄装置| UV-208/UV-312

    UV光源に高密度グリッド形状の低圧水銀ランプを採用

    する紫外線(UV)オゾン洗浄装置UV-208、UV-312は、UV光源に高密度グリッド形状の低圧水銀ランプを採用し、 ワーク全エリアを均一に照射することができ、複雑な機構を必要としない、シンプルなドライ洗浄装置です。 ファイナル洗浄として威力を発揮します。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノビジョン 本社

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