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PR産業用途向けMU-3無線モデムを搭載した連続通信の8接点 入力・出力ボ…
MU3-IN8、MU3-OUT8は特定小電力無線モジュールMU-3(429MHz帯/1216MHz帯)を搭載した8接点入力・出力ボードです。産業用途向けのMU-3にて連続で接点情報を伝送しますので、テレコントロールなどで要求される連続的な接点制御が可能です。入力はフォトカプラ、出力はフォトMOSリレーを搭載し、高いアイソレーションと高容量負荷の接続が可能です。また入出力は端子台になっており簡単に配...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サーキットデザイン 営業部
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フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】
PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…
本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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化学合成における強力なツール!これらの触媒反応によって合成ルートの幅が…
Sigma-Aldrichでは、触媒スクリーニングからスケールアップ検討まで対応するリアクター3種類の取り扱いがあり、反応開発の各段階に好適なフォトリアクターをご選択いただけます。 【特徴】 ■Photo KitAlysis(TM) Starter Kit(Z742612-1KT) ・触媒スクリーニングに好適 ・24 種類の秤量済...
メーカー・取り扱い企業: メルク株式会社ライフサイエンス(シグマ アルドリッチ ジャパン合同会社)
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耐薬品性に優れ、微細加工に適したネガ型フォトレジスト電着処理剤
3次元性のものに薄膜でメッキマスク・エッチングマスクが可能!※製品カタ…
『ハニレジストEシリーズ』は、当社が世界に先駆けて開発したアルミ建材用電着塗装技術(電着樹脂合成技術、電着液管理技術、電着プロセス技術)を基本とし、開発した微細加工用ネガ型フォトレジスト電着処理剤です。 他の電着液より密着性が優れているため、従来の不可能であった、 めっき用マスク、エッチング用として好適です。 【特長】 ■3次元構造物への付き回り性 ■優...
メーカー・取り扱い企業: ハニー化成株式会社
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微細加工用ポジ型フォトレジスト電着処理剤『ハニレジストAP』
電子部品などの微細加工に適したフォトレジストタイプの電着処理剤!
『ハニレジストAP』は、ハニー化成の長年に亘り培われてきた、当社が世界に先駆けて開発したアルミ建材用電着塗装技術(電着樹脂合成技術、電着液管理技術、電着プロセス技術)を基本とし、開発された微細加工用ポジ型レジスト電着処理剤です。 プリント基板やCOF・TCPへの Reel to Reelによる高速処理(通電時間10秒で 膜形成が可能)・微細加工が可能です。 スルーホール内の処理能力に...
メーカー・取り扱い企業: ハニー化成株式会社
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揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要なフォトマスク洗浄剤をご紹介!
『アンラスト RC-2』は、ガラスやドライフィルムなどの対象物に 適用可能な、工業用洗浄剤です。 揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要。 フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能です。 【特長】 ■フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能 ■揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要 ■適用法...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三若純薬研究所
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光により固-液相転移する再利用可能な感光性材料
接着した部位を紫外光(365nm)照射により液体状態に戻すことで脱着 接着力は最大で60 N cm-2(0.6MPa)程度であり、Rが炭素数12 のB4598において接着力が最大に ■フォトパターニング用レジスト 液体部分は吹き飛ばしたり、洗浄したりすれば容易に除去(現像)可能であるため、 簡便なフォトリソグラフィープロセスとして応用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いた...
メーカー・取り扱い企業: 東京化成工業株式会社
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ポジ型フォトレジストPAC原料
ポジ型フォトレジストPAC原料 詳しくは、お気軽にお問い合わせください: sales06@chemfish.com...
メーカー・取り扱い企業: CHEMFISH TOKYO株式会社
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世界のフッ素化エチレンプロピレン市場は、予測期間中に5%以上の推定CA…
優れた半導体です。 FEPコーティングは、工業製造プロセスで使用される過酷な化学物質を保持および輸送できるため、化学工業における重要なコーティング材料の1つです。 半導体の集積回路は、フォトリソグラフィー、エッチング、洗浄、薄膜堆積、研磨などのプロセスを使用して製造されます。典型的な集積回路を製造するには、約270の化学物質とガスが必要です。硝酸、塩酸、フッ化水素酸、オゾンなど、これ...
メーカー・取り扱い企業: SDKI Inc.
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フッ素化エチレンプロピレン(FEP)コーティングの市場は、予測期間中に…
ィングは、製造プロセスで使用される過酷な化学物質を保持および輸送できるため、電気および電子産業における重要なコーティング材料の1つです。ワイヤー上で収縮したときの抵抗。 半導体の集積回路は、フォトリソグラフィー、エッチング、洗浄、薄膜堆積、研磨などのプロセスを使用して製造されます。 FEPコーティングは、半導体製造で高純度の化学物質を輸送するのに最適なウェーハキャリア、チューブ、フィ...
メーカー・取り扱い企業: SDKI Inc.
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光材料で最先端の電子部品に貢献
半導体の微細加工用フォトレジストの原料となる感光材料及び周辺材料、LCD用モノマー及びポリマーなどの材料を提供。進化し続ける電子部品の精密化をサポートしています。 電子材料分野の製品としては、TCNA、SANBO AR...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三宝化学研究所
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Cr膜を良好にエッチングします。微細パターン形成を検討される場合には、…
本製品の特長は以下のとおりです。 ・ サイドエッチが少なく、微細パターンの形成が可能です。 ・ エッチング速度とエッチング形状の面内均一性が良好です。 ・ BM(ブラックマトリクス)やフォトマスクのCrエッチングに適しています。 キーワード:ウェットエッチング、クロム...
メーカー・取り扱い企業: 林純薬工業株式会社 電子材料部
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