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PR産業用途向けMU-3無線モデムを搭載した連続通信の8接点 入力・出力ボ…
MU3-IN8、MU3-OUT8は特定小電力無線モジュールMU-3(429MHz帯/1216MHz帯)を搭載した8接点入力・出力ボードです。産業用途向けのMU-3にて連続で接点情報を伝送しますので、テレコントロールなどで要求される連続的な接点制御が可能です。入力はフォトカプラ、出力はフォトMOSリレーを搭載し、高いアイソレーションと高容量負荷の接続が可能です。また入出力は端子台になっており簡単に配...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サーキットデザイン 営業部
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フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】
PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…
本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部
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材料中の微量成分を熱脱着GCMSにて分析!様々な材料のキャラクタリゼー…
脱着GCMSにて分析し同定することで 様々な材料のキャラクタリゼーションを行います。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【感光剤の例】 ■光ラジカル重合開始剤 ■ポジ型フォトレジスト用感光剤 ■ネガ型フォトレジスト用光架橋剤 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社アイテス
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顕微EL/PLイメージング装置 PVX1000+POPLI-μ
太陽電池セル製造工程中のWaferの微細な構造を顕微PL観測
PVX1000+POPLI-μは、太陽電池セル製造工程中のWaferの微細な構造を顕微鏡でフォトルミネセンス観測ができます。PERCであれば、PL強度で個々のLocal-BSFの評価、レーザーコンタクトホール周辺のパッシベーション層のダメージが評価可能です。 また、直流電源を用いたモジ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社アイテス
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構造物の維持管理の基礎資料作成に!照明不要で写真撮影ができます
アペオ技研では、超高感度カメラによりトンネル等の暗闇で連続写真を撮影します。 写真測量の技術を用い、個々の写真を繋げてオルソフォト(正射投影画像) として構造物全体の写真を調整します。 全景写真からひび割れ等の位置・範囲、おおよその大きさの計測が可能です。 また、トンネルの概略縦横断面図も作成可能です。 【特長】...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社アペオ技研
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熱分解GC/MS法により感光剤の構造解析が可能
ポジ型フォトレジストは、半導体デバイス製造時のフォトリソグラフィー材料として広く用いられています。 レジストに使用される素材は露光光源によって大きく異なりますが、g線、i線用のレジストでは一般にベース樹脂と...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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顕微EL/PLイメージング装置 PVX1000+POPLI-μ
太陽電池セル製造工程中のWaferの微細な構造を顕微PL観測
PVX1000+POPLI-μは、太陽電池セル製造工程中のWaferの微細な構造を顕微鏡でフォトルミネセンス観測ができます。PERCであれば、PL強度で個々のLocal-BSFの評価、レーザーコンタクトホール周辺のパッシベーション層のダメージが評価可能です。 また、直流電源を用いたモジ...
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