ローカルIoTサーバー

PR音で異常を通知！プログラムはインストール済み、即使用可能です

当社で取り扱う『ローカルIoTサーバー』をご紹介いたします。 デバイス(IoT機器)とPC・スマホ間で通信しデータを集積・可視化。 スマートフォンへは音での通知となります。(アンドロイド端末のみ対応) また、マイコン単体でも異常を音で通知可能です。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■プログラムインストール済み ■音で異常を通知 ■Wi-Fi仕様 ...

メーカー・取り扱い企業： テックトレーディング株式会社

ギ酸還元対応　卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

PR課題解決事例を進呈中！ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ（還元方式）・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理 ・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能 ・専用ソフトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング ・USBケーブル接続，PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能 ・最大試料サイズ：40 x 40mm：銅...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

反応管内 ◉ 最高使用温度1100℃ ◉ 試料サイズ：10x10mm, （Φ2.5inch）100 x 100mm（Φ4inch） ◉ PID温度コントロール：Eurotherm 2416プログラム温度調節計 ◉ 流量制御：±1%F.S. 0sccm 〜 100, or 1000sccm（ガス種による） ◉ ロータリーポンプ付属...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

Aera Transformer　デジタルマスフローコントローラ

コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC

特長 ・マルチガス・マルチレンジ ・高速応答性 ・100％メタルシール・高純度設計 ・フィールドでプログラム可能 ＊ ・再校正をしなくても様々なガス選択が可能 ＊ ・DeviceNet、RS-485、アナログ制御対応 ・多彩な警告・診断機能 ・RoHS適合 ＊ マルチガス・マルチレンジTra...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

ＣＡＲＢＯＺＥＮハイブリッドＰＶＤシステム

製膜スピードＵＰ＆高い密着性！導入コストや維持費も低いＤＬＣコーティン…

み合わせで、基材との密着性が高い、様々なDLC膜をコーティングすることができます。 【特長】 ■装置とオペレーターのためのロック機能 ■MS Windows OSベースのソフトウェア・プログラムで 　カンタンに半自動・全自動で工程制御が可能 ■コーティング工程中の作業内容を自動記録 ■コーティングの全工程をデータ化 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせくださ...

メーカー・取り扱い企業： パーカー熱処理工業株式会社 川崎事業所

Aera PI-980　プレッシャーインセンシティブＭＦＣ

明日のプロセスニーズに応える次世代PI技術

プレッシャーインセンシティブ（圧力の影響を受けにくい）制御が可能 ・高い計測精度と再現性 ・IGS方式対応 ・実ガスによる精度検証済み、マルチガス・マルチレンジにも対応 ・フィールドでのプログラムが可能 ・DeviceNet、RS-485、アナログコントロール ・ディスプレイ搭載 ・自己診断機能内蔵 ・100％メタルシール、高純度仕様...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

PLAD-250R PLDシステム

PLAD-250R PLDシステム

レーザショット数、ターゲット切替等々）を簡易に行えます。 独自のSiC式回転基板加熱により、基板面上で800度以上の加熱が行えます。 ターゲットは1 inch径を6個有し、自転およびプログラム式公転により、ターゲット上の照射が均一になる様に補正されます。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-261PG PLDシステム

PLAD-261PG PLDシステム

（レーザショット数、ターゲット切替等々）を簡易に行えます。 独自のSiC式回転基板加熱により、基板面上で850度以上の加熱が行えます。 ターゲットは1inch径を6個有し、自転およびプログラム式公転により、ターゲット上の照射が均一になる様に補正されます。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-271PE PLDシステム

PLAD-271PE PLDシステム

膜（レーザショット数、ターゲット切替等々）を簡易に行えます。 独自の回転式SiC基板加熱により、基板面上で850度以上の加熱が行えます。 ターゲットは20mm径を6個有し、自転およびプログラム式公転により、ターゲット上の照射が均一になる様に補正されます。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社