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水添など気液混合の動力低下を防ぐ!気液プロセス用撹拌機/解説あり
PR気液混合の効率を大幅UP!水添などの課題解決のカギは撹拌設計にあるかも…
産業用撹拌機のマーケットリーダーであるEKATOが、気液混合時に起こる「動力低下」を最小限に抑え混合効率の最大化を実現する 気液混合のための攪拌システムを開発。 内部循環システムにより、水素など高価なガス資源の使用量を削減し、コストダウンを実現します。 攪拌・混合プロセスの研究を続けて90年となるEKATOは、「攪拌のスペシャリスト」として プロセスの課題を解決します。 内部循環システムとは...
メーカー・取り扱い企業: エカート株式会社 日本支社
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【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)
PR【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄-
書籍名:先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 --------------------- ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか! 新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 --------------------- ■ 本書のポイント 1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社技術情報協会
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高速開閉・高い応答安定性!特殊面間寸法や弁形状、耐腐食性材料ボディなど…
『TDFシリーズ』は、ALD(原子層堆積)プロセスに必要な高速開閉、高耐久、耐食性、耐熱性、Cv安定性を兼ね備えた高純度ガス対応ダイヤフラムバルブです。 アクチュエータへの熱伝導を低減する構造を採用し、最高220℃までの 高温流体に使用可...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー
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高純度ガス系ダイヤフラムバルブ『高温(250℃)対応バルブ』
高性能、コンパクト、低価格を実現!均熱性を必要とする有機金属系の半導体…
極力減少させ、 高性能、コンパクト、低価格を実現。 また、接ガス部だけでなく、アクチュエーターを含むバルブの 構成部品全てが高温環境下で使用可能なため、均熱性を必要とする 有機金属系のプロセスで好適に使用することが出来ます。 【特長】 ■バルブ構成部品全てオールメタル化により、250℃での使用が可能 ■Cv値の落ち込みを極力減少させ、高性能、コンパクト、低価格を実現 ■アク...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー
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『事例』 高温・ALDプロセスで使用可能なバルブ ※無料進呈中
『流路まるごと事例集』バルブ全体を最高200℃ の高温環境で使用できる…
バルブ全体をヒーティングしたい、ハンドルを付けたまま恒温槽に入れられるバルブ、ガス量の安定と再現があるバルブ欲しいなど、お困りごとはありませんか? KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。気になる事例がありましたらイプロスまたは当社ホームページ経由でお問い合わせください。 ホームページ:https://www.kitzsct.com/con...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー
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高温対応バルブ SCVサブマージブルバルブ『KD-Sシリーズ』
高温環境(最高200℃)で半導体製造プロセスの多種多様なガスに使用可能…
『KD-Sシリーズ』は、独自の技術を取り入れ高温環境下で使用が可能な ダイヤフラムバルブです。 流量の再現性を求められる原子層堆積(ALD)プロセスのプリカーサー (前駆体)供給に好適。 樹脂シートの採用によりメタルシートタイプと比べ高温環境下での シートリークやライフサイクルなどの耐久性能が向上しました。 【特長】 ■高温...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー
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『事例集』固体材料供給における高温化の課題への提案※無料進呈中
半導体材料メーカー様 必見!固体材料供給における高温化の課題への提案の…
250℃の供給プロセスでオールメタルバルブを使用しているが、耐久回数に不満がある。 200℃の供給プロセスでシート交換できないバルブを使用しているため、バルブを交換しなければならず、ランニングコストがかさんでしまう。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー
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材料容器・半導体製造プロセスに適した、高純度ガス系バルブ。シート部脱着…
高純度ガス系バルブ『ZDシリーズ』『ZD-Kシリーズ』(高温リプレイサブルバルブ)は、 シート部脱着交換可能かつ、高温環境下で使用可能なダイヤフラムバルブです。 【特長】 ■お客様自身でバルブシート交換が可能! バルブ内洗浄の際などにシート部のみの脱着交換が可能なためバルブを再利用できます。材料容器用など、バルブを洗浄・交換する用途に適しています。 ※メンテナンス後は製品保証外と...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー
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1.125"C-SEAL対応 コンパクト設計のバルブ!誤作動防止LOT…
25" C-seal用のサーフェスマウント向けとして手動・自動弁を揃えている ■手動弁は90°回転ハンドルとなっており、誤作動防止のLOTO機構付きもある ■接ガス部は、Chrome richプロセスを施し、Cr/Fe>2.0を達成(オプション) ■ブロックとのシール部硬度はHv300に管理され、繰返し着脱でのシール性能を高める ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みに...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー
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半導体製造プロセスの高圧ガスラインや装置内配管等に!全サイズの高さを従…
『VRDシリーズ』は、封入ガス圧20.6MPaに対応する1/4"高圧用 ダイレクトダイヤフラムバルブです。 従来品の「RDシリーズ」の性能そのままに、部品点数の削減を行い 低プライス化を実現。全サイズの高さを従来品より6mm短縮し コンパクト化しています。 高圧及び高度の真空保持や外気への漏れを完全に防止したい ガスラインや装置内配管等にご使用いただけます。 【特長】 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー
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チャンバー内を汚染しにくい構造!Oリングへのストレス低減、高い耐久性能…
気、調圧が可能 ■低真空から高真空まで圧力調整が可能 ■新開発のシートリング機構を採用 ■高耐久:全開・全閉動作 300万回 ■独自ヒーティングによる内部副生成物の低減 ■副生成物の多いプロセスへ優れた適応性を発揮 ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー
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半導体製造プロセス用高純度ガスに対応!高いシール性能と高耐久化、脱ガス…
『KDシリーズ』は、高いCv値を実現し、半導体用高純度ガスに対応できる 品質を備え、高耐久・高耐蝕性能を両立させた信頼性の高いバルブです。 ボディ縦穴寸法を最小限にし、内容積を1.36cm3まで小さくする事により 優れたガス置換特性を実現。 最高レベルの製造環境と内面研磨処理により、半導体用高純度ガスに 対応しパーティクル性能を極限まで追及しました。 【特長】 ■内容積を...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー
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高純度ガス用ベローズバルブ「SBBシリーズ」に真空用KFフランジ接続タ…
ブです。 高純度ガス用・真空用各種バルブをラインアップする当社の特長を 生かし、技術・ノウハウを融合させた加圧から真空までワイドレンジに 対応可能。 半導体製造などでのCVD等常圧プロセスの排気系ライン加圧検査用ガス導入ライン用にご使用いただけます。 【特長】 ■真空用KFフランジ接続タイプ ■大型チャンバー用のリークバルブ排気系検査用バルブに好適 ■加圧から真空までワ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー
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高温対応バルブ SCVサブマージブルバルブ『TD-Sシリーズ』
高温環境(最高200℃)で多種多用なガスに使用可能な集積化ガスシステム…
ガスシステム対応のダイヤフラムバルブです。 バルブ全体を最高200℃までの高温環境で使用できることにより 効率の良いヒーティングが可能。 流量の再現性が求められる原子層堆積(ALD)プロセスのプリカーサ (前駆体)供給に適しています。 【特長】 ■高温環境に対応 ■安定したCv値 ■PFAシートの採用 ■多種多用なガスに使用可能 ■高耐久 ※詳しくはPDF資料...
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