薬液供給装置（連続式）　P112

PRプロセス装置に連続で薬液を供給

本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

ギ酸還元対応　卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

PR課題解決事例を進呈中！ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ（還元方式）・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

メーカー・取り扱い企業： ユニテンプジャパン株式会社

超音波ナノインプリント装置　FP300LS

超音波で低温高精度成形が行える超音波ナノインプリント装置

超音波ナノインプリント装置　FP300LSは、ナノインプリントなどの高精度成形に最適です。 超音波アシストで成形の低温化、低荷重化を実現します。 レシピのデジタル設定とプロセスモニタ機能を搭載しております。 【特徴】 ○高精度成形制御 ○成形プロセス管理機能 ○容易な平面出し 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アドウェルズ

超音波高精度溶着装置　PW300LS

超音波とエアサーボ技術で高精度溶着を実現する超音波高精度溶着装置

超音波高精度溶着装置　PW300LSは、高精度溶着やナノインプリントに最適です。 応用範囲を広げる詳細な条件設定で加工制御ができます。 レシピのデジタル設定とプロセスモニタ機能を搭載、ジャイロステージによる正確で簡単な平面合わせが可能です。 【特徴】 ○高精度加工制御 ○プロセス管理機能 ○容易な平面出し 詳しくはお問い合わせ、またはカタログ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アドウェルズ