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PRプロセス装置に連続で薬液を供給
本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法:W1720*D810*H2010 ○重量:約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクノメイト
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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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【資料】『半導体製造装置における 現状の課題と対策』※実例掲載
半導体製造装置開発におけるそのお困りごと、コネクタで解決できるかもしれ…
ペース減少による耐熱性能の確保 市場において、このような背景があります。 ■半導体の微細化・多種開発、立上げ時間の短縮 ■スループットの向上、装置の小型化、カスタム対応 ■歩留り改善、プロセスユニットの増加、大口径化 こういった背景で、 装置のヒーターは拡大しつつも装置自体は小型化させる傾向にあります。 装置内のスペースが限られることによりコネクタやケーブルは以前よりヒーター...
メーカー・取り扱い企業: レモジャパン株式会社
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