• ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』 製品画像

    ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』

    PR課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…

    『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • Micro Point Pro(マイクロポイントプロ)株式会社 製品画像

    Micro Point Pro(マイクロポイントプロ)株式会社

    PRウェッジボンディングツールをはじめ、世界で9000台以上の実績を持つ卓…

    Micro Point Pro(マイクロポイントプロ)株式会社は、設立から40年の経験と専門知識を保有し、 半導体およびマイクロ電子デバイスアセンブリ業界向けの商材を幅広く取り扱っています。 イスラエルに拠点を構え、150名の従業員とグループ企業600名の従業員がサポート。 MPPでは原材料から完成品まで全ての製造プロセスがあり、多くのグローバル企業との実績も多数ございます。 【取扱製品】 ■...

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    メーカー・取り扱い企業: Micro Point Pro ltd株式会社 本社

  • ALDプロセス用高速高耐久バルブ『TDFシリーズ』 製品画像

    ALDプロセス用高速高耐久バルブ『TDFシリーズ』

    高速開閉・高い応答安定性!特殊面間寸法や弁形状、耐腐食性材料ボディなど…

    『TDFシリーズ』は、ALD(原子層堆積)プロセスに必要な高速開閉、高耐久、耐食性、耐熱性、Cv安定性を兼ね備えた高純度ガス対応ダイヤフラムバルブです。 アクチュエータへの熱伝導を低減する構造を採用し、最高220℃までの 高温流体に使用可...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー

  • 『事例』 高温・ALDプロセスで使用可能なバルブ ※無料進呈中 製品画像

    『事例』 高温・ALDプロセスで使用可能なバルブ ※無料進呈中

    『流路まるごと事例集』バルブ全体を最高200℃ の高温環境で使用できる…

    バルブ全体をヒーティングしたい、ハンドルを付けたまま恒温槽に入れられるバルブ、ガス量の安定と再現があるバルブ欲しいなど、お困りごとはありませんか? KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。気になる事例がありましたらイプロスまたは当社ホームページ経由でお問い合わせください。 ホームページ:https://www.kitzsct.com/con...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー

  • 『事例集』固体材料供給における高温化の課題への提案※無料進呈中 製品画像

    『事例集』固体材料供給における高温化の課題への提案※無料進呈中

    半導体材料メーカー様 必見!固体材料供給における高温化の課題への提案の…

    250℃の供給プロセスでオールメタルバルブを使用しているが、耐久回数に不満がある。 200℃の供給プロセスでシート交換できないバルブを使用しているため、バルブを交換しなければならず、ランニングコストがかさんでしまう。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー

  • 高温対応バルブ SCVサブマージブルバルブ『TD-Sシリーズ』 製品画像

    高温対応バルブ SCVサブマージブルバルブ『TD-Sシリーズ』

    高温環境(最高200℃)で多種多用なガスに使用可能な集積化ガスシステム…

    ガスシステム対応のダイヤフラムバルブです。 バルブ全体を最高200℃までの高温環境で使用できることにより 効率の良いヒーティングが可能。 流量の再現性が求められる原子層堆積(ALD)プロセスのプリカーサ (前駆体)供給に適しています。 【特長】 ■高温環境に対応 ■安定したCv値 ■PFAシートの採用 ■多種多用なガスに使用可能 ■高耐久 ※詳しくはPDF資料...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー

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