リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

位置補正機構付きテストソケット

PRスマホ/車載などのカメラモジュールの光学中心を常に一定の位置に補正する…

安定したコンタクトは安定した生産を実現します。 カメラモジュール用のテストソケットは弊社が最も得意とする分野です。 【特徴】 ・様々な形状のモジュールに合わせた設計が可能 ・FPCやB to Bコネクタに直接コンタクトが可能 量産ラインの自動検査から評価用の製品検査に対応したソケットを提案/提供致します。その他評価、検査でお困りごとがございましたらぜひご相談ください！ ...当...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＫ

バッチタイププラズマリフロー装置（フラックスリフロー）

微細ウェハバンプのフラックスレスリフロー装置 サンプルテスト対応　省…

フラックスフリーのバンプリフローを実現。 フラックスの塗布・洗浄工程を削減。リフロー前後のウェット工程を削減。ウェット装置のスペース・処理・ユーティリティーを削減する省エネ・省スペース・クリーンプロセス。 ３００ｍｍウェハ対応の処理ステージによる最先端量産プロセスをバッチタイプのハードで小径基板のニッチデバイスに対応 短タクトのバッチ処理で多品種少量生産やR&D用途に対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

イットリアコーティング装置（ＡＦ－ＩＰ装置）

耐プラズマ性に優れたイットリア（Ｙ２Ｏ３）膜をＰＶＤ法で形成。 新開…

型イオンプレーティング法により緻密な酸化膜の厚膜（１０μｍ）を低温で形成 半導体製造装置部品に対応した優れた耐プラズマ性をもつイットリア膜の成膜に対応。 イオンプレーティング法によるシンプルなプロセスで緻密な膜質を実現。 イットリア膜だけでなくＳｉＣやＴｉＣ、ＣｒＮなどの各種反応膜を固体金属材料より形成可能。 独自開発イオンプレーティング法により表面処理の新たな用途を開拓...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ＣＶＤ装置用真空排気装置（塩素系ガス対応真空ポンプユニット）

熱ＣＶＤ装置の排気に実績多数。Ｃｌ系ガスの排気に特に有効、大量排気と塩…

ケミカルプロセスに多大な実績を持つ真空ポンプ（水封式真空ポンプとメカニカルブースタ）をユニット化。 ＣＶＤ装置のプロセス特性・ガス種・排気量に合わせてポンプ材質と周辺機器を最適化。 主排気ポンプの水封式真空ポ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

枚葉式プラズマリフロー装置（フラックスレスリフロー）テスト受付中

フラックスレスウェハバンプリフロー装置。微細バンプのリフローをウェット…

ンフロー型表面波プラズマの強還元性Ｈ２ラジカル雰囲気でフラックスレスリフロー　フラックス塗布、洗浄工程　塗布装置、洗浄装置を削減。完全ドライＣｔｏＣシステム。ファインピッチバンプの短タクトリフロープロセスを実現。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

真空排気装置（真空ポンプユニット）

実績と信頼の排気系ユニット。単一のポンプでは困難な用途に対応。目的に合…

プの組合せユニット。 長年に渡り多数の納入台数を誇る水封式真空ポンプ/油回転式真空ポンプ/ドライポンプとメカニカルブースタの組合せにより新たな性能と価値を実現。 乾燥・蒸留・脱気などのケミカルプロセス、脱ガスなどの冶金用途、硬質膜コーティング装置やＣＶＤ装置、樹脂成型などの一般工業用途など、幅広い用途の真空排気の問題を解決！...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店