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19件 - メーカー・取り扱い企業
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15件 - カタログ
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ＣＶＤ装置用真空排気装置（塩素系ガス対応真空ポンプユニット）
熱ＣＶＤ装置の排気に実績多数。Ｃｌ系ガスの排気に特に有効、大量排気と塩…
ケミカルプロセスに多大な実績を持つ真空ポンプ（水封式真空ポンプとメカニカルブースタ）をユニット化。 ＣＶＤ装置のプロセス特性・ガス種・排気量に合わせてポンプ材質と周辺機器を最適化。 主排気ポンプの水封式真空ポンプを封液循環式とし、循環式封液にアルカリ性溶液を使用し、塩素系ガスの排気と中和を両立。後段のガス処理装置の負荷を大きく削減。 特に表面処理用の熱ＣＶＤ装置の塩素系ガスの排気系に有効で工...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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化合物半導体プロセス用 ICPエッチング装置
RIE-330iPCは、放電形式に誘導結合方式（Inductively Coupled Plasma）を 採用した化合物半導体プロセス用多数枚処理エッチング装置 【特徴】 ○Φ330mmの大型トレーに対応 Φ2インチウェハーなら27枚、Φ2.5インチウェハーなら17枚、 Φ3 インチウェハーなら12枚、Φ4インチウェハーなら7枚、 Φ6インチウェハーなら3枚同時の処理が可能 ...
メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社
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真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機...◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理 ・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能 ・専用ソフトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング ・USBケーブル接続，PC...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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ラボ用、高精度スリットコータ『リサーチコータ』LC-R300G
企業や大学の研究室等での実験用途に！様々な塗布条件や材料に対応し、高精…
液晶や有機ELディスプレー製造工程の要となる『コーターデベロッパー』は、最大で約3m角の巨大なガラス基板に薬液を高速かつ１マイクロメートルレベルで均一に塗布現像する装置で、当社は世界トップシェア（※）を獲得しています。（※アレイ用コータ―デベロッパー、2022年当社調べ） 『リサーチコータ』は、この塗布技術をラボスケールに展開したスリットコーター（ダイコーター）。 小型ながらも非常に高精度な均一...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ
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小径ウェハ（４インチ）や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセ…
化合物半導体のエピタキシャル層や研磨後のＳｉウェハのアニールなど特殊な用途に対応した専用アニール装置。 高真空排気後に大気圧まで水素のみで雰囲気置換を実施、高純度還元雰囲気中で高温（１０００℃）均一加熱 ...横型石英管タイプのホットウォール型の専用アニール装置。 ターボ分子ポンプとドライ真空ポンプによるクリーンバキューム＆大気圧水素雰囲気による高純度還元熱処理を実現。 石英管急冷機構を標...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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コンパクト・ローコスト・充実機能、研究開発用ローコストスパッタリング装…
少量生産対応可能な上位機種の能力を手動操作型の簡易実験機で実現 ８インチ対応の多元高周波スパッタリング装置。高速排気と高いプロセス性能によりＭＥＭＳ・化合物半導体・電子デバイスの基礎研究に対応 電子部品の量産対応実績を持つバッチタイプスパッタリング装置シリーズ...標準仕様 ４インチカソード３元装備による多層成膜 ターボ分子ポンプ＋油回転ポンプの高速排気 逆スパッタと基板加熱機構の標準装...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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Better Pumps for Better Yields !
BPS-4Hポンプシステムは消耗品となる軸受やシールを使わない革新的な遠心ポンプです。 磁気浮上の原理に基づいて、ポンプのインペラは密閉されたポンプケーシングの中で非接触に浮上し、モータの回転磁界によって駆動されます。 インペラとポンプケーシングは、共に耐薬液性の高純度フッ素樹脂で造られています。これらはロ－タ磁石とともにポンプヘッドを構成しています。 電子的にロータ回転数を制御するので、...
メーカー・取り扱い企業： Levitronix Japan株式会社
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『無料サンプル』を入手可能！ 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…
YH Research株式会社（本社：東京都中央区）は調査レポート「グローバル真空ターボポンプのトップ会社の市場シェアおよびランキング 2023」を10月23日に発行しました。本レポートでは、真空ターボポンプ市場の製品定義、分類、用途、企業、産業チェーン構造に関する情報を提供します。また、真空ターボポンプ市場の開発方針と計画、製造プロセスとコスト構造についても考察します。主要生産地域、主要消費地域...
メーカー・取り扱い企業： YH Research株式会社
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コンパクトコーター「SVC-700TMSG/Adexcel」
ターゲットは3種類同時に装着可能！多層膜を作製することが可能です。
マルチコンパクトコーター「SVC-700TMSG/Adexcel」は、低真空領域において、マグネトロンカソードを用いた直流放電によりプラズマを発生させ、プラズマ中のイオンによってカソードに装着した金属ターゲットをスパッタし、試料表面に薄膜を作製する小型の成膜装置です。 ターゲットは3種類同時に装着可能であるため、真空中においてターゲットを選択でき、多層膜を作製することが可能です。 【特長】...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
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スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…
nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。 顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。 ガス系統最大3系統（プロ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…
各種研究開発、材料開発等の小規模実験用途から要求される様々な機能に対して、アルバックの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる低価格のＲ&Ｄ装置。 【特徴】 ○低圧力プロセス ○多元同時/多積層膜スパッタ成膜 ○良好な膜厚分布 ○LTSの採用 ○磁性体薄膜への対応 ○フロントアクセス 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【成膜室】 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.
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樹脂外装品の成膜に実績豊富な大型蒸着装置 長尺樹脂成形品の成膜に最適 …
１ⅿ以上の長尺樹脂成形品の全面成膜に対応。高速排気と低温蒸着が特徴。短タクト処理で量産ラインに対応。成膜前のイオンボンバード処理により高い膜の密着性を実現。電子銃の複数台使用により各種金属の高速成膜に対応。 水晶振動式膜厚計による制御で不連続膜も安定した全自動成膜を実現。 高い安定性を備えた全自動蒸着装置。...電子銃２～３台を使用。最大１８００ｍｍＬの基板の成膜が可能。基板の自公転回転機構に...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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ICPエッチング装置 RIE-800iPC/RIE-400iPC
真空カセット室を備え、プロセス再現性や安定性に優れた本格生産用装置をご…
『RIE-800iPC/RIE-400iPC』は、SiCトレンチ形状の25枚連続加工の安定性を 誇るICPエッチング装置です。 高RFパワー(2 kW以上)を効率よく安定して印加可能で、良好な均一性を実現。 また、反応室に直結した排気システムを採用することで、小流量・ 低圧力域から大流量・高圧力域の幅広いプロセスウィンドウを実現しています。 【特長】 <RIE-800iPC...
メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタカソード x 3：自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：基板回転・昇降、基板加熱（Max500℃）、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ3源+3系統（MFC制御）、RF/DC ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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小型成膜装置！ターゲットは3種類同時に装着可能です。
マルチターゲットコンパクトコーター SVC-700TMSG/Adexcelは、低真空領域において、マグネトロンカソードを用いた直流放電によりプラズマを発生させ、プラズマ中のイオンによってカソードに装着した金属ターゲットをスパッタし、試料表面に薄膜を作製する小型の成膜装置です。 ターゲットは3種類同時に装着可能であるため、真空中においてターゲットを選択でき、多層膜を作製することが可能です。 ...
メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社
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