超低消費 村田製作所製 BLEモジュール

PR長距離通信、スリープモード時 36nAの超低消費電力ワイヤレスモジュー…

村田製作所製『Type2EG』は、onsemi社RSL15搭載の通信(BLE）モジュールです。 業界リードする超省電力(Sleep modo時36nA）と長距離通信（往来の４倍）を実現。 ARMCortex-33を搭載のため、より高度な処理能力とTrustZoneによる高度なセキュリティ機能を提供いたします。 また、AoAとAoDに対応しているため、位置特定を容易にする機能も提供しております。 ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

多機能振動計測・分析ソフト『SVRシステム Fシリーズ』

PR1ch～128chの振動計測に対応。異常振動の監視や、振動モード分析な…

多機能振動計測・分析ソフト『SVRシステム（収録システム） Fシリーズ』は、簡単な設定入力だけで、計測やアウトプットが手軽に行える製品です。 スペクトル計測、ウォーターフォール計測、打撃試験・モード計測といった 各種振動計測をこのソフトでカバーできます。 ソフトウェアのオリジナルカスタマイズも承っておりますので、 計測でこんな機能が欲しい！などのご要望の声もお待ちいたしております。...

メーカー・取り扱い企業： 国際振音計装株式会社 加古川試験所

レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

も広いため、MEMSやマイクロ光学など マイクロストラクチャ製作が必要なアプリケーションの研究開発に貢献します。 【特長】 ■マスクレス露光やマスク作成用 ■2.5Dグレースケール露光モード（標準128階調、オプション255階調または1000階調） ■豊富な機能と拡張性により複数用途に対応 ■6つの描画モード（0.3um-4.0um)まで（ピクセルサイズ）切替が可能 ■裏面アラ...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

【基本性能】 ■最小図形寸法：　500nm ■描画速度: 580mm2/分（FXモード時）、325mm2/分（QXモード） ■ラインエッジラフネス：20nm(QXモード） ■CD均一性：30nm(QXモード） ■オーバーレイ: 30nm（QXモード） ■ポジション精度:40...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

す。 グレイスケールリソグラフィー用途において表面粗さ精度を高めるために、1000階調のグレイスレベルをサポートしています。 【特長】 ■高い安定性・高速高解像度露光 ■5つの描画モードまで切替が可能 ■高精度アライメントカメラシステム ■グレースケール描画モード ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

マスクレスアライナー『uMLA』（マイクロ・エム・エル・エー）

テーブルトップサイズのオートフォーカス付きマスクレスアライナー

1um, 3umレンズセット有り） リアルタイムオートフォーカスシステム（標準：空圧式、オプション：光学式） 使いやすい操作ソフトウェア オプション多数有り：フィールドアライメント、ベクターモード、ドローモード、高速化、専用テーブル。 キーワード：レーザー露光装置、直描装置、直接描画装置、マスクレス...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

マスクレスアライナー『MLA150』

0.6umの微細描画が可能な高速マスクレスアライナー

ンチ） 0.6μmまでの最小構造サイズ リアルタイムオートフォーカス（標準：空圧式、オプション：光学式） 前面と背面の位置合わせ（オプション：バックサイドアライメント機構） 高アスペクト比モード（超厚レジスト露光） 使いやすい操作ソフトウェア キーワード：レーザー露光装置、レーザー描画装置、直描装置、直接描画装置、マスクレス、微細加工...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社