各ランプの光量制御で待機電力削減に貢献！『電子点灯UV照射装置』

PR【省エネ・電力削減】 各ランプ毎に光量調節が可能で１０Aタイプの国産及…

ADPECが提供する電子点灯式UV照射装置は、従来のトランス式の電源を登載したUV照射装置を進化させ、 電子制御方式の電源ユニットを搭載した新UV照射装置です。 本製品はUVランプの調光が可能となり、その範囲は最大10％～100％となっておりますので、 塗装ラインの始動時やセット替え時は10～20%近辺で点灯する事により、待機電力の大幅な削減が可能となります。 また、ランプを複数本...

メーカー・取り扱い企業： J-one（株式会社アドペック/ヤマシン技研株式会社）

特殊仕様対応LED直管ランプ『IFLシリーズ』

PR防滴(防水)仕様可能なLED直管ランプ！特殊サイズはお問い合わせくださ…

『IFLシリーズ』は、力率改善、位相調光が可能な特殊仕様対応 LED直管ランプです。 口金はG13, R17dで、片側給電、非常灯に対応可能。 10, 15, 20, 32, 40, 110型をご用意しています。 防虫チューブ(紫外線カット)となっており、防滴(防水)仕様が可能です。 DC仕様、外部電源、回転口金など、特殊対応は別途、お問い合わせください。 【特長】 ■片...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カネヒロデンシ

フラッシュランプアニーリング装置　FLA

半導体など各種材料に！数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間でアニーリング可…

フラッシュランプアニーリング装置　FLAは、DTF-FLA ウルトラショートタイムアニーリング用にデザインされたスタンドアローン装置です。半導体材料、その他の材料に対して、数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間のアニー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』

ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能！クオーツ製チューブ型チャ…

『MC-050』は、最大50mm径基板対応のDLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大成膜温度は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。 また、マスフローコントローラーは最大8、ターボポンプ搭載可能です。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大5...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

RTP装置『AS-Premium』

最大156mm×156mm基板対応！真空又は大気搬送装置及びロードロッ…

『AS-Premium』は、大気・真空下プロセスに対応しているRTP装置です。 アニール処理後急速冷却機構(上部ランプ加熱式のみ)で、 低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーターとなっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大156mm×156mm基板対...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

各種成膜・アニール装置

ニーズに合わせたラインアップ！成膜装置や、ランプ加熱によるアニール装置

大村技研では、お客様のニーズに合わせて、成膜装置や ランプ加熱によるアニール装置を設計・製作します。 縦型LP-CVD装置、縦型アニール装置、PE-CVD装置、 MO-CVD装置をラインアップしています。 【特長】 ■ニーズに合わせた設計...

メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

RTP装置『AS-Master 200』

ターボポンプ搭載可能！低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメー…

『AS-Master 200』は、アニール処理後急速冷却機構のRTP装置です。 最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式)しており、 真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能。 また、大気・真空下プロセスに対応しており、ターボポンプ搭載可能。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

RTP装置『AS-One 100/150』

アニール処理後急速冷却機構！Annealsys社の高速熱処理装置をご紹…

【仕様】 ■AS-One 100 ・最大100mm径基板対応 ・最大温度：1450℃(基板上部ランプ加熱式) ・最大昇温レート：200℃/秒 ・低温(1100℃)/高温(1450℃)パイロメーター ■AS-One 150 ・最大150mm径基板対応 ・最大温度：1300℃(基板上部ラン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター：Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター：Max1000℃（真空中、不活性ガスのみ） ・SiCコーティングヒーター：Max1000℃（真空、不活性ガス、O2）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

セントロサーム　超高温バルクアニール炉

超高温熱処理と優れた温度均一性の実現により、ブール・インゴット、ウエハ…

セントロサーム（正式名centrotherm international AG）は、1958年に設立された熱処理炉専門の世界的メーカーです。真空リフロー炉はじめ、拡散炉・LPCVD・高速ランプアニール炉など豊富なラインナップを取り揃えており、太陽電池や半導体分野の熱処理工程に貢献しています。 日本国内では、2006年から伯東株式会社が総代理店として同社製品の販売と保守サービスを担って...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

光焼成装置『PulseForge』【瞬間的に加熱、 乾燥、焼成】

耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥、焼成する光焼成装置…

『PulseForge』は、独自開発の高出力キセノンランプの照射光を精密制御することで、材料の表面のみを瞬間的に加熱し、乾燥、焼成させる装置です。材料の速乾、伝導性・密着性の改善にも効果があり、高出力・短パルス照射にて、耐熱性が低い基板でもダメージなく、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ハイテク

◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター：Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター：Max1000℃（真空中、不活性ガスのみ） ・SiCコーティングヒーター：Max1000℃（真空、不活性ガス、O2）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

【仕様】 ■基板サイズ：最大φ12インチ ■反応ガス：O2、N2、H2O（オプション） ■基板加熱温度：最高1000℃（基板表面） ■加熱源：ハロゲンランプ ■昇温レート：最大150℃/sec ■真空排気：DP ■制御操作 　・制御：PLC 　・操作：タッチパネルまたはPC ■データロギング：外部メモリまたはPC ■基板搬送：大気搬送ロ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社