• マイカ断熱・絶縁コンプレッションパッドPLUS 製品画像

    マイカ断熱・絶縁コンプレッションパッドPLUS

    PREV・産業用リチウムイオンバッテリーの断熱・絶縁対策。セル間の熱暴走対…

    エルメリン社はロンドンを拠点とし、マイカ (雲母) の加工及び他の樹脂や素材と組合せることで、電気自動車や産業用大型蓄電池のリチウムイオン電池や製鉄所などに使用される断熱板や絶縁パッドなどを供給しています。 【本製品が選ばれるポイント】 ■ 約700℃~1,000℃までの耐熱性と不燃性 ■ マイカ0.1mm厚あたり2,000V の絶縁性能 ■ パッド、カバー、シート(硬質・軟質)、スリ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社木村洋行

  • 作業のマルチワークテーブル&収納のマルチパーツハンガーで効率改善 製品画像

    作業のマルチワークテーブル&収納のマルチパーツハンガーで効率改善

    PRシステム製品代表格2商品でこんなに効率UPできるってホント?作業効率U…

    <マルチワークテーブル> ●6種類の天板サイズと豊富なオプションにより、多種多様な作業内容・作業者に合わせてカスタマイズできる作業台です。 ●足元から頭上まで、自由な位置に必要なオプションを取り付けることで効率的な作業を実現できます。 ●50mmピッチのスリット穴付き支柱が作業者の身長に合わせてベストポジションの作業高さを提供します。 【カタログ(チラシ)をダウンロードしていただくとQRコードから...

    • マルチワークテーブル サブ画像-1.jpg
    • マルチワークテーブル サブ画像-2.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 山金工業株式会社 ルート営業部

  • LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置 製品画像

    LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

    ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

    ポリッシュ後の研磨スラリーをディスクスクラブ洗浄で除去し、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。 強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスクラブ洗浄も対応できます。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ4” 厚みについては応相...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクニカルフィット

  • 小径ウェハ(LT・SiC等2〜6インチ)両面同時スクラブ洗浄装置 製品画像

    小径ウェハ(LT・SiC等2〜6インチ)両面同時スクラブ洗浄装置

    ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置!独自機構の表…

    ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクニカルフィット

  • ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(量産型)」 製品画像

    ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(量産型)」

    ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

    ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクニカルフィット

  • ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置(研究開発用)」 製品画像

    ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置(研究開発用)」

    ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

    ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクニカルフィット

  • ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(研究開発用)」 製品画像

    ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(研究開発用)」

    ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

    ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクニカルフィット

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