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    リチウムイオンバッテリー用 手動積層装置(つづら折りタイプ)

    PR【新製品】正極・負極及びセパレータを交互に精度良く手動で積み重ねる、つ…

    本装置はリチウムイオン二次電池の積層工程において、正極・負極及び セパレータを交互に精度良く手動で積み重ねる装置です。積層の工程は、 ロール供給されるセパレータをつづら折りで繰り返し、折り曲げた間に 正極及び負極を交互に供給し積層を行います。 【特長】 ■つづら折りされたセパレーターの間に正極と負極を交互に重ねる受け台  があり、受け台高さが一定になるよう上下に動作します。 ■積...

    • つづら折りタイプ拡大写真.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サンクメタル 東京営業所

  • 【事例集】レーザー干渉式リニア変位センサによるQA&QC 製品画像

    【事例集】レーザー干渉式リニア変位センサによるQA&QC

    PRナノメートル精度で変位・変形・振動を計測。超高真空・高磁場対応。最大5…

    attocube(アトキューブ)社のレーザー干渉式変位センサは、物体のリニア運動の変動量を測定する装置です。 さまざまな材料や形状をもつ対象物の変位を、数ミリメートルから数メートルまでの広い範囲で測定できます。 小型モジュール式で、3軸まで構成可能です。 位置信号はクローズドループ位置決めシステムのフィードバックシグナルとして利用できます。 回転の振れ測定、振動測定、工作機械の校正など、高度な...

    • attocube_ids_550sq.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本レーザー

  • マスクレスアライナー『MLA150』 製品画像

    マスクレスアライナー『MLA150』

    0.6umの微細描画が可能な高速マスクレスアライナー

    スクレス露光装置です。 2015年に初めてマスクレスアライナーシリーズが発表されて以来、革新的で最先端のマスクレステクノロジーが確立されました。MLA150は従来のマスクアライナーに代わる製品として位置づけられており、出荷台数は130台を超えています。...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • マニュアル露光装置 製品画像

    マニュアル露光装置

    顕微鏡オート移動など、生産性、使い勝手に優れたアライナ

    露光装置です。 オペレータがマニュアルでウエハをセットする露光装置です。4インチのガラスマスクを使用し、フォトマスクとウエハのアライメントマークを顕微鏡で撮像、モニタに写しだされた画像を見ながらの位置合わせと、露光ギャップ設定を行うことで、露光が可能です。 なお、露光スイッチを押すと自動で顕微鏡が退避、ランプハウスが所定の位置に移動し、設定光量露光、自動退避までを行います。...

    メーカー・取り扱い企業: ウシオライティング株式会社

  • 低振動5相ステッピングドライバー 製品画像

    低振動5相ステッピングドライバー

    1軸から3軸一体型までの低振動型ステッピングドライバー

    KPROSシリーズはとにかく振動を抑制して位置決めされたい場合、そして何より超低コストを希望されるユーザー。今までに体験されたことの無い低振動の位置決め技術をご体験下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ケー・プロジェット

  • オート式露光装置 製品画像

    オート式露光装置

    190WPHの高スループットを実現したマスクアライナ

    画像処理により、照度減衰もフィードバックする新機構も搭載しています。 オペレータはフォトマスクとウエハをセットし、あらかじめ記憶されている露光レシピを選択するだけで、ウエハ搬送からフォトマスクとの位置合わせ、露光までをオートで行うことから、オペレータや使用経験に依存しない、安定した精度での露光が可能です。...

    メーカー・取り扱い企業: ウシオライティング株式会社

  • マスクレスアライナー『MLA300』 製品画像

    マスクレスアライナー『MLA300』

    プロダクション向け高性能マスクレスアライナー

    フィーチャサイズ:1.5μm 最小ラインアンドスペース:2 µm 最大書き込み速度:5000 mm2 / min(@405 nm、1モジュール時) リアルタイムオートフォーカス 前面と背面の位置合わせ フルオートローダー 複数モジュール搭載可...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • 半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ 製品画像

    半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

    高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

    『ULTRA』は、半導体用マスク作成に適した、高速高解像度レーザー描画装置です。 『ULTRA』高生産性、高精度性、高均一性、超高精度位置合わせ精度を備えるコスト性の良いマスク描画装置です。...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • ブロックからの掘り出し切削が得意です 製品画像

    ブロックからの掘り出し切削が得意です

    最大φ1000mm、深さ600mmまでの掘り込みが可能です。精度だけで…

    加工サイズ:最大φ1000mm 深さ600mm 材料実績:アルミ、鉄、SUS全般 精度:平面、平行、穴位置精度等 ミクロン台精度保証を対応します。 用途【注文実績】 ・半導体露光装置 ・液晶露光装置 ・車載設備 ・航空宇宙 ・医療用各種診断装置 など まずはお気軽にご相談ください ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三栄精機工業

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