粉体定量供給機『ロータリーバルブ』＜課題解決事例を進呈中＞

PR自社工場での一貫製作により高品質・短納期を実現。カスタム・フルオーダー…

当社では、粉粒体の定量供給と密閉遮断を担う 『ロータリーバルブ』を提供しています。 食品など高い衛生管理が求められる分野でも実績豊富。 設計・製造から最終加工まで自社工場で一貫対応しているため、 高品質・短納期を実現できます。 課題解決事例を紹介した資料を進呈中。 詳しくはダウンロードボタンよりご覧ください。 【こんな課題を解決します】 ■機械の能力アップをしたいが、サ...

メーカー・取り扱い企業： 尾崎ウェルスチール株式会社 本社、機械加工工場、歌島工場、粉体工学研究所

基材追加いらずのバイオ式生ごみ処理機『バイオクリーン』

PR基材追加・交換なしで10年以上の使用実績！低臭気で良質堆肥もできる家庭…

『バイオクリーン』は東北大学との共同開発で生まれたアシドロ(R) コンポスト分解方式による分解持続性に優れた生ごみ処理機です。 1日で投入した生ごみのほとんどを分解処理します。 【特長】 ■分解力が長期間持続し、低ランニングコストです。 　分解菌（基材）の追加・交換にかかる費用を大幅に削減可能です。10年 　以上、基材の追加・交換せずに使用中のお客様が多数いらっしゃいます。 ■臭...

メーカー・取り扱い企業： スターエンジニアリング株式会社

UV(紫外線)フィルム硬化装置｜LED光源仕様「UVC-708」

波長365nmのUV-LEDを使用、常温照射、低ランニングコストです！

『UVC-708』は、波長365nmのUV-LEDを使用した、コンパクトな LED光源UVフィルム硬化装置です。 UV-LEDの特長である常温照射、低ランニングコストはそのままに、 8インチウェハに対して全面照射を可能としました。 【特長】 ■365nmのUV-LEDを使用し、常温照射、低ランニングコスト ■小型、テーブルトップサイズ ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

ロール両面同時露光装置『BEX-560DR-LED』

ランニングコストの負担軽減に貢献するロール両面同時露光装置！

『BEX-560DR-LED』は、生産性・高精度・大面積・省エネ・拡張性など 1台で多様な生産現場のニーズに対応できるロール両面同時露光装置です。 高品質なLED光源ユニットを搭載し、ランニングコストの負担を軽減。 また、超高精度アライメント機構によりパターン表裏の位置合わせ精度 1μmを実現します。 【特長】 ■露光室のクリーン度を上げる／装置内をクリーン度でクラス分け ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社べアック

精密卓上型半自動テーピング装置

幅広いテープ幅・リール径に対応し、多品種・少量生産にも最適

少量生産に最適 　品種交換はレールのスライド・コテ・ガイド・アダプターリングの交換で簡単にできます。 ●挿入ミスセンサ装備 　部品の挿入ミス（浮き）・有無（歯抜け）をセンサが検出 ●低ランニングコスト ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社極東商会

液体・ガス燃料溶射システム『Met-PCC(HVOF)』

コンパクトで操作も簡単！高い密着力と気孔率の低い皮膜を実現します

『Met-PCC(HVOF)』は、使いやすい直感的な操作者インターフェイスの 溶射システムです。 フロントエンドでは、操作者のインターフェースはグラフィカルユーザー インターフェイス（GUI)を利用しており、オプションとして動画を画面に 取り込むことが可能。 標準の装置はガスと液体に関して、皮膜に適した連続性の為に質量流量で すべて制御されており、すべての溶射パラメーターで装置...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社澤村溶射センター

基板クリーナー　マジッククリーナー3D

基板クリーナー　マジッククリーナー3D

ン) ○静電気除去(50V以下：イオナイザー無し、弊社試験による) ○レーザーマーキングのスス除去に最適 ○5μm異物除去（弊社試験による） ○メンテナンスフリー（定期清掃要) ○低ランニングコスト ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニックス

プロセスガスモニタ『M-080QA-HPM』

真空チャンバの到達圧力から、スパッタプロセス圧力までの広範囲（1～80…

いたします。 プロセス中の品質管理や残留ガス分析などにご活用ください。 【特長】 ■プロセス中に高感度で水素を検出 ■広い圧力領域を高感度で測定 ■メンテナンスサイクルが長く、低ランニングコスト ■さまざまなアラーム機能により、生産中に異常を検出 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 　資料内の動作圧力に関する記載が「​1.3Pa以下」となっ...

メーカー・取り扱い企業： キヤノンアネルバ株式会社 栗木本社

超高出力　UV-LED照射器　ALE/1C

最大50W 超高出力。水銀ランプに代わるLED照射器。ＵＶ硬化、半導体…

製品の特徴 ・超高出力（最大50 W） ・高安定性（クローズドループによる出力制御） ・低ランニングコスト（LED使用で長寿命：10,000 時間） ・水銀ランプと代替可能 ・外付け冷却 　 ...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社

次世代クリーン化技術！超音波 非接触 浮上・搬送装置

超音波でウェーハやガラス基板を非接触搬送！クリーンな搬送技術です！接触…

圧縮エア・コンプレッサーが不要 ◆ クリーンルームにエアーブローしません ◆ エアーブローからの汚染リスク無し ◆ 接触による異物転写リスク無し ◆ 超低エネルギー搬送技術 ◆ 超低ランニングコスト ◆ 基材へ余計な負荷をかけずに搬送・低破損率 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社

e-クリーン　2液1槽式脱脂洗浄機（HC溶剤+HFE溶剤）　

省スペース・低ランニングコスト・低価格の超音波洗浄機！安全・簡単乾燥を…

炭化水素（HC)系洗浄溶剤で洗浄⇒HFE溶剤蒸気でリンス洗浄⇒乾燥工程で速乾性のあるHFE溶剤を回収（乾燥・洗浄終了）⇒取り出し HC溶剤は洗浄中、HFE蒸気に覆われ、直接空気に触れる事が無い為、引火の心配が不要。 リンス洗浄工程で使用するHFE溶剤の沸点は56℃で洗浄物の表面温度は56℃以上には上昇しません。 洗浄後の製品取り扱いが非常に簡単になります。 本装置で使用します溶剤は全て回収...

メーカー・取り扱い企業： 大川興産株式会社

洗浄装置『ダイレクトパス』　【電子基板のフラックス洗浄】

電子基板、電子部品のフラックス洗浄で実績多数！　狭い隙間の汚れを効率的…

間、袋穴、束ねた板状物等の洗浄、乾燥に優れた威力を発揮します！ ○高スループット 　洗浄物多くを充填する事で洗浄・乾燥効率が向上し、一般的な方式の２倍の高スループットを実現します！ ○低ランニングコスト 　効率的な液切りにより、洗浄剤消費量を１／３に低減！ ○最適な洗浄システム 　各種フラックス洗浄剤、ワークサイズ、搬送機構、等お客様ニーズに併せたカスタム対応が可能！...

メーカー・取り扱い企業： 荒川化学工業株式会社 ファイン・エレクトロニクス事業部

液中ジェット洗浄装置PINE JET【電子基板のフラックス洗浄】

電子基板、電子部品のフラックス洗浄に広く利用されている洗浄装置です！

ワーデバイス、etc 等の各種電子部品のフラックス洗浄に最適です。 【特長】 ○洗浄性 　ジェット噴流により効果的案洗浄が可能！ 　独自の整流機構によりムラ無く洗浄可能！ ○低ランニングコスト 　液切り肯定を設けることで洗浄剤消費量を低減。 ○最適な洗浄システム 　各種フラックス洗浄剤、ワークサイズ、搬送機構、等お客様ニーズに併せたカスタム対応が可能！...

メーカー・取り扱い企業： 荒川化学工業株式会社 ファイン・エレクトロニクス事業部

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

Morpher ALDシステムは、業界標準の枚葉ウエハ真空クラスタプラットフォームを組み込み、ウエハバッチを完全自動処理するように設計されています。 米国特許取得済みのウエハバッチフリップ機構により、他の半導体製造ラインとのシステムの統合が可能で、またSEMI S2/S8認定により、当システムが業界の最も厳しい規格と互換性があることが保証されています。 Morpher ALDシステムは、...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

高速フレーム溶射装置『Met-PCC（HVOF）』

インテルデュアルアトムプロセッサーを搭載！操作性・統合性・伝達性に優れ…

『Met-PCC（HVOF）』は、メタライゼーション社以外のガス燃料HVOFガンと つなぐことができる高速フレーム溶射装置です。 インタフェースはインテルデュアルアトムプロセッサーを搭載した タッチスクリーンのウィンドウズのプラットフォームで機能。 ガスと液体に関して、皮膜の好適な連続性の為に質量流量ですべて 制御されており、すべての溶射パラメーターで装置のリアルタイムの 動向...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社澤村溶射センター

UV(紫外線)硬化装置｜高圧水銀ランプ仕様「UVC-408」

小型・軽量・小フットプリント装置

ワークを回転させながら照射させるため、 ウェーハー全領域に均一な照射を行なう事ができるUVフィルム硬化装置...■主な特長 ・独自の高効率、小流量N2パージ機能が搭載 ・N2の使用量が従来装置と比べてはるかに少なく、しかも確実な置換効果が得られる ・低消費電力化、微量なガス消費など、装置のランニングコストの低減に 大きく貢献するばかりでなく、装置コストの削減、高価なクリーンルームの設...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

e-クリーン　2液1槽式脱脂洗浄装置（HC溶剤+HFE溶剤）　

省スペース・低ランニングコスト・低価格の超音波洗浄装置で、安全で、簡単…

炭化水素（HC)系洗浄溶剤で洗浄⇒HFE溶剤蒸気でリンス洗浄⇒乾燥工程で速乾性のあるHFE溶剤を回収（乾燥・洗浄終了）⇒取り出し HC溶剤は洗浄中、HFE蒸気に覆われ、直接空気に触れる事が無い為、引火の心配が不要。 リンス洗浄工程で使用するHFE溶剤の沸点は56℃で洗浄物の表面温度は56℃以上には上昇しません。 洗浄後の製品取り扱いが非常に簡単になります。 本装置で使用します溶剤は全て回収...

メーカー・取り扱い企業： 大川興産株式会社