• 高粘度スラリーでも目詰まりしない『W-CELL フィルター装置』 製品画像

    高粘度スラリーでも目詰まりしない『W-CELL フィルター装置』

    PR独自のろ過方式で高粘度液も精密にろ過。100ミクロン以下のスリット幅で…

    『W-CELL フィルター装置』は、インク・塗料・顔料・ラテックス・合成樹脂、 製紙、果実・野菜ジュース、液卵、にごり酒などの分級ろ過や異物除去に適したフィルター装置です。 高粘度・高濃度スラリーでも安定した連続ろ過が可能。 ステンレス製のため耐圧・耐熱性に優れ、長寿命で低ランニングコストを実現します。 スクレーパや逆洗による残渣の除去が容易で、装置の自動化が可能。 大型から小型...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社荒井鉄工所

  • 【SCREEN】”塗る”を極めたスリットコータ  ※カタログ進呈 製品画像

    【SCREEN】”塗る”を極めたスリットコータ ※カタログ進呈

    PRラボスケールでの高精度塗布を実現。低粘度から高粘度まで、実験・試作段階…

    『リサーチコータ』は、液晶や有機ELディスプレー製造工程で 数多くの採用実績を誇る「コーターデベロッパー」の高度な塗布技術を ラボスケールに展開したスリットコータ(ダイコータ)です。 塗布部にはスリット式塗布装置「リニアコータ(TM)」を搭載。 1~10,000mPa・sの低粘度から高粘度の塗布材料を、ガラス基板、樹脂基板、 フィルム、金属箔など様々な基材に高精度にスリットコートでき...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

  • 自動フォトレジスト塗布装置(スピンコーター)Coater 製品画像

    自動フォトレジスト塗布装置(スピンコーター)Coater

    レジスト膜の面内均一性やウエハ間の平均膜厚の差が少ないコーターです。低…

    ロボット搬送による全自動レジスト塗布装置です。 高均一性、省薬液、複数薬液使用可能な仕様です。 低粘度~高粘度レジストまで要求仕様に合わせてカスタムいたします。 ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si(シリコン)、GaAs、I...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • 2サイズ兼用自動レジストコーター・デベロッパー(塗布・現像) 製品画像

    2サイズ兼用自動レジストコーター・デベロッパー(塗布・現像)

    段取り替え不要、2サイズのウエハ兼用装置です。 低粘度~高粘度レジス…

    当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました! ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si(シリコン)、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2(ガラス)など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • フォトレジスト量削減!回転カップ式塗布装置(スピンコーター) 製品画像

    フォトレジスト量削減!回転カップ式塗布装置(スピンコーター)

    ポリイミドや高価な高粘度レジストの削減に有効!回転カップ式スピンコータ…

    回転カップ式スピンコーターは高粘度材料(ポリイミドや高粘度レジスト)の使用量を大幅に削減できます! 弊社取得特許により、最小塗布量の薬液を低回転で均一に塗り広げることで、使用量を削減することに成功しました。 削減の幅は薬液によりますが、使用量3割~7割の削減実績があります。 生産量に合わせて、マニュアル機~フルオート機までのラインアップを揃えています。 設計から製造・販売ま...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • 両面プロセスに最適!両面自動フォトレジスト塗布装置 コーター 製品画像

    両面プロセスに最適!両面自動フォトレジスト塗布装置 コーター

    ウェハ反転ユニットを使うことでウェハの両面塗布を自動で行えます!

    を使い、自動運転が終わる時には両面にレジストが塗られています。 ウェハの処理が律速しないように最適化した塗布・ベーク・反転の搬送手順で処理を行います。 ポジ・ネガどちらのレジストでも、低粘度~高粘度まで対応可能です。 当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 ポリイ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • 自動塗布・露光・現像一貫プロセス装置(フルオートリソグラフィ) 製品画像

    自動塗布・露光・現像一貫プロセス装置(フルオートリソグラフィ)

    レジスト塗布~露光~現像処理を一気通貫。自動で処理可能な装置です。フォ…

    当製品は、スピンコーティング、一括等倍露光、現像処理を自動で行う装置です。HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載可能。 設計から製造・販売まで自社で行い、コーター、アライナ、デベロッパのフォトリソ装置をラインナップしている当社だからこそ実現出来た装置です。 対応レジストは、ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、など、多彩な薬液に実績があります。 Si(シリコン)、GaAs、InP、...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • MAX400℃!高温ベーク対応レジスト塗布装置(スピンコーター) 製品画像

    MAX400℃!高温ベーク対応レジスト塗布装置(スピンコーター)

    BARCやその他薬液をスピン塗布後、MAX400℃でベーク可能!高温ベ…

    当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、高温ベーク(MAX400℃)、低温ベーク(MAX200℃)、クーリング機能を搭載。 低温ベークと高温ベークの組み合わせでステップベークも可能です。 レジスト以外での薬品でもスピン塗布後に高温ベーク可能! その他、ポジレジスト・ネガレジスト、ポリイミド(PI)、シリコーン、SOG、WAXなどなど多数の薬液に実績ございます! シリコン...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • 自動フォトレジスト塗布・現像装置(コーター・デベロッパー) 製品画像

    自動フォトレジスト塗布・現像装置(コーター・デベロッパー)

    低粘度~高粘度レジスト対応!小口径~大口径まで、どのウェハサイズの装置…

    【特長】 ■低価格を実現 ■低~高粘度(1.7cP~10000cP)まで対応 ■2~12インチまで対応 ■複数サイズウエハを処理可能(例、3・4・5インチ兼用、8・12インチ兼用) ■ウエハサイズ自動認識システム ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減(省スペース化) ■レジスト削減で多数のオプション ■生産量に合わせたラインアップ 【ASAPのコーター・デベロッパ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • 角基板対応自動レジスト塗布・現像装置(コーター・デベロッパー) 製品画像

    角基板対応自動レジスト塗布・現像装置(コーター・デベロッパー)

    低粘度~高粘度レジスト対応!どのウェハサイズの装置も作製可能です!

    当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました! ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si(シリコン)、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2(ガラス)など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • 半自動レジスト塗布装置(セミオートスピンコーター)Coater 製品画像

    半自動レジスト塗布装置(セミオートスピンコーター)Coater

    低~高粘度レジスト対応!どのウェハサイズの半自動機(セミオート)も作製…

    当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、自動機を買うには手が届かないというお客様や小ロットのため自動機まではいらないというお客様のために半自動(セミオート機)の製作を低価格で実現しました! ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si(シリコン)、...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • R&Dや少量生産に最適!手動レジスト塗布装置(スピンコーター) 製品画像

    R&Dや少量生産に最適!手動レジスト塗布装置(スピンコーター)

    研究・開発、小ロット対応のマニュアル装置!卓上タイプとは違う自動機と同…

    当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、装置の低価格を実現しました♪ 自動機を買うには手が届かないというお客様や小ロットのため自動機まではいらないというお客様のために最適な手動機(マニュアル)装置です。 卓上タイプとは違い、自動機と同等のレジスト塗布が可能なので、自動機へ移行した際もプロセスの条件出し...

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