フォークリフト安全支援システム『BFV202』

PRディープラーニングAI推論処理により、接近する作業者を検知し運転者にモ…

フォークリフトの前方2カメラ、後方2カメラを進行方向により切り替えて撮像し、AI推論処理します。 ■運用中のフォークリフトに後付け可能 ■高速処理によるリアルタイム判定 ■検知エリアを任意で設定可能 ■移動速度、旋回方向に連動して検知エリアが変化 　※当該機能の有効/無効は前方・後方のカメラ毎に選択可能 ...【仕様】 　電　源　：DC9～16V(標準) 　　　　　　DC9～7...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パル技研

ケーブルベヤ 小形ROBOTRAX 【面ファスナー仕様追加】

PR新登場の"ブラケットホルダ"により、曲面のアームに…

『ROBOTRAX TKRB14H10』は、小形ロボットの ケーブル保護に好適なミニサイズのケーブルベヤです。 新たに追加した"ブラケットホルダ"は、面ファスナー仕様かつ様々な形状・サイズに沿うデザインです。 そのため曲面にもカンタンに固定できます。 サイズダウンしつつも、ケーブルの保護効果やカスタマーフレンドリな 設計といった基本性能をそのままに踏襲。 従来品のラインアップでは大きすぎて取...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社椿本チエイン　パワートランスミッション事業部門

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・最大100枚/h...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適 　・枚葉式Face-do...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・～56枚/hの高...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高周波RF電源・高効率パルスRF電源

高効率高周波電源【ローコスト・省電力・コンパクト設計】600W以上の耐…

効率アンプの弱点は、構造上、反射電力に弱いことでしたが、、NRFの高効率RF電源は、出力3kWに対して、実に600W以上の耐反射能力を持ち、短絡・開放の急激な負荷変動に耐えます。 また、各種保護回路を設けており、NRFが自信をもってお勧めできる1台です。 ＝特長＝ ■コンパクト設計 ■高耐反射 ■高電力マージン ■ハンディーコンによる操作 ■安全設計 ■各種保護回路 ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノダRFテクノロジーズ 営業本部

半導体用トランスデューサー

半導体用トランスデューサー

コンパクトなデザイン 防爆指令対応（ATEX Zone2） 保護等級NEMA4（IP67）を備え、ケースサイドから出来る 優れたEMC対応品、優れた温度補正...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フロー・ジョイント

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

・省フットプリント 　・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】 　・層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG) 　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 　・太陽電池(セル)向け固相拡散用ソース膜(BSG,PSG)/キャップ膜(NSG) ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

RIBER社 分子線エピタキシー（MBE）装置

パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…

パッシベーション用MBE装置は、表面パッシベーションまたはレーザーファセットパッシベーションのために特別に設計された各種チャンバーで構成されております。表面やファセット面を保護するために、さまざまなコーティングを使用することが可能です。代表的な材料としてZnSe、SiN、酸化物等がある。 構成例として、クリーニングとパッシベーションを行うレーザーの両端でデバイスホルダー...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

シャッター

ビューイングポートへの蒸着保護および光・ビームの遮断にご利用ください。

ビューイングポートへの蒸着保護および光・ビームの遮断にご利用ください。真空機器向けに設計したシャッターです。手動タイプと自動タイプ(エアー駆動)の2タイプを用意しています。...

メーカー・取り扱い企業： 入江工研株式会社

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

・156mm角/125mm角ウェハ対応 　・1500枚/hの高生産性 　・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】 　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 　・固相拡散用ソース膜(BSG,PSG)/キャップ膜(NSG) ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

GaN半導体 MOCVD用機能部品

高温アンモニアに耐性があり、容易に高温が得られる機能部品、高温用ヒータ…

Momentiveの『超高温用ヒータ』、『窒化ホウ素製品群』および『グラファイト保護コーティング』は、高温の腐食性ガス雰囲気に耐性があり、窒化物単結晶成長やエピタキシャル装置の機能部品として多くの実績を有しております。 ■超高温ヒータ ・超高温（1500℃以上）での使用が可...

メーカー・取り扱い企業： モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社

直流電源

熟練したリターン技術による、安定放電が可能な直流(充電）電源です。

・負荷短絡時、高速で出力を停止させる内部保護機能付 ・高速立上がり、短パルス幅を実現...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

ポーラスシリコン形成装置（陽極酸化装置）

従来の陽極酸化装置をさらに応用したポーラスシリコン形成装置。使用薬液・…

【特長】 ■多孔質シリコンを全自動にて形成します。 ■裏面保護用治具を使用しない為カセットto カセットを可能にしました。 ■N型、P型両方に対応出来ます。 ■2～6インチまで各種サイズ対応いたします。8インチ以上はご相談ください。 ナノシリコン技術...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

ハイブリッドフィルター

ガス配管コンポーネント保護用ガスケット付きメタルフィルター

■配管の面シール継手部のガスケットとして単体で装着出来ます。 ■既存の配管にも改造無しで取り付けることが出来ます。...半導体製造ガスラインなどに用いられる(株)ピュアロンジャパン製ハイブリッドフィルターです。ガスケット型ガスフィルターを精密濾過精度のガスフィルターの入口/出口の継手部に装着することでハイブリットとし、０.３μｍ以上又は１μｍ以上の配管中の大きなパーティクルを粗取りすることで、精...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

高効率高周波電源

高効率高周波電源【NR3N-13】【NR3N-13】

効率アンプの弱点は、構造上、反射電力に弱いことでしたが、、NRFの高効率RF電源は、出力3kWに対して、実に600W以上の耐反射能力を持ち、短絡・開放の急激な負荷変動に耐えます。 また、各種保護回路を設けており、NRFが自信をもってお勧めできる1台です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノダRFテクノロジーズ 営業本部

常圧CVD装置「AMAX800V」

優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送機構の改良により高スループットを実現しました。 SiCトレーの採用により重金属汚染は発生しにくくなり、また熱による経年変化が少なく安定したプロセス性能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所