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PR電力ロスの原因である「高調波」をカットし電気料金を削減!『パワーガード…
必要以上の電力を消費していませんか? 電気を使う様々な場所で、高調波と呼ばれる電気ノイズが発生しており、このノイズが電力の流れを阻害し電気料金のロスにつながります。パワーガードは従来のフェライトコアの金属配合や製造方法を変え、電力ロスに直結する高調波のみを削減するために開発されました。 高調波の抑制に特化した製品として、現在実用新案/特許出願中です。 ※当製品は実地でのデモ(有償)を実施...
メーカー・取り扱い企業: トーホーエンジニアリング株式会社 本社
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PR装置全体をコンパクト化し組立た状態で運搬する為設置工事を簡略化 !生…
『Deopo(デオポ)』は、従来の蓄熱燃焼式脱臭装置「RTO」の3塔式と回転式の 優れている要素を併せ持ち、ワンユニットにパッケージ化した装置です。 VOCの処理効率は98%以上、温度効率は95%以上の性能を持ち、従来品に比べ、 パージ部分の体積を最小にすることによりコンパクト化することが出来ました。 また、工場で組立した状態で運搬可能なサイズなので、標準装置の場合は 現地の荷降...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サーマルプラント
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MOCVD装置 VEECO K465i G2用排気フィルター
MOCVD装置 VEECO K465i G2
環境に最適。 1、寸法: 高さ:322mm, 内径:233mm,外径:359mm 2、Oリング: 内径:270mm,外径:340mm。 3、ろ過精度:粗いろ過100um,微細ろ過25um,全体ろ過効率15um@98%。 4、有効ろ過面積:粗いろ過3.456m2,微細ろ過3.456m2,1セット全体ろ過面積6.912 m2 5、適用温度:<400℃。 6、包装:1本粗いろ過+1...
メーカー・取り扱い企業: 愛鋭精密科技(大連)有限公司(AIRY TECHNOLOGY CO., LTD.) 中国大連本社
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パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…
機能が含むチャンバ、パッシベーション膜前の自然酸化膜除去する為の水素(H2)プラズマクリーニングチャンバ等を含む事も可能です。 ウエハは、高真空条件下でチャンバーからチャンバーへと移動し、プロセス全体を通して清浄度が維持されています。 お客様のご要望とプロセス時間等に応じて、プロセスチャンバーを追加することができます。...
メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社
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枚葉プロセスレベルの成膜品質をバッチ装置で!クラスタシステムにより生産…
存の製造ラインまたはクラスターに統合できるスタンドアロンモジュールとして購入することもできます。 オペレーティングシステムソフトウェアは、直感的でユーザーフレンドリーなHMI一つを介してクラスター全体を制御し、 SECS-II / GEMプロトコルを介してシステムとお客様のファクトリーオートメーション間のスムーズな接続を保証します。 SEMI S2 / S8認定は、システムが業界の厳しい規...
メーカー・取り扱い企業: PICOSUN JAPAN株式会社
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デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供!
ローディング 〇オプションSMIFステーション <主なソフトウェア機能> 〇レシピエディター:プロセスの実行中にレシピの作成と変更が可能 〇1つの通信プロトコル(Ethercat)でクラスタ全体を制御 〇マルチタスクが可能な、1/20ミリ秒のデータログレート固定ループ制御サイクル 〇リモートアクセス可能なデータロガー、全データエクスポート可能 〇工場ホストへのSECS/GEM統合...
メーカー・取り扱い企業: PICOSUN JAPAN株式会社
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