• 1人用BOX型喫煙ブース『cocopa(ココパ)』 製品画像

    1人用BOX型喫煙ブース『cocopa(ココパ)』

    PRコンパクトでも優れた機能!快適な喫煙空間を省スペース・低コストで実現

    『cocopa』は、省スペースをリーズナブルに実現する改正健康増進法に 対応した1人用BOX型喫煙ブースです。 1人利用なので、感染症対策にも効果的。 喫煙者の来客をないがしろにできない業種の方、特に設置スペースの確保に お困りの方にお勧めの製品です。 【特長】 ■コンパクトな1人用喫煙ブース ■技術に基づいた確かな性能 ■設置工事不要で省スペースを低コストで実現 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日鉄鉱業株式会社 機械・環境営業部 機械営業課

  • カゴ車専用荷崩れ防止バンド『カーゴロジスター』 製品画像

    カゴ車専用荷崩れ防止バンド『カーゴロジスター』

    PR【グリーン物流梱包材】カゴ車専用プロテクター!着脱はワンタッチ、バンド…

    工場内のライン移動や、機器の移送時にも使用されるカゴ車専用荷崩れ防止バンドが「カーゴロジスター」です。 パレバンドシリーズの特徴である、マジックテープを使用し着脱はワンタッチ、 バンド本体はナイロン製で軽量、水濡れにも強い仕様です。 マジックテープにより取扱いが簡単で、何度もリユースできますのでコスト低減、 省人化により、物流の2024年問題にも貢献できます。 【特長】 ●マジックテープの採...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社タカギ・パックス

  • 高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD) 製品画像

    高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD)

    誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

    ラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的な方法により、高レートかつ直進性の高い成膜を実現します。 ターゲット面全体を高効率で利用するため、貴重・希少なターゲットを用いる成膜工程でのコスト削減にも貢献します。 <特長> ■高速・高効率イオンビームスパッタリング  誘電体・強磁性ターゲットへの最適解 ■ヘリコンプラズマイオンソ...

    • 1.PNG
    • 2.PNG
    • 3.PNG

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • スパッタカソード『ONYXシリーズ』販売・修理/メンテも対応可能 製品画像

    スパッタカソード『ONYXシリーズ』販売・修理/メンテも対応可能

    高機能・高品質なマグネトロンスパッタカソード!

    トダウンの両立を実現します。 アメリカオングストローム・サイエンス社製の高機能・高品質な「マグネトロンスパッタカソード」です。 特許技術のShaped Magnet採用により、ターゲットの広い面積を利用するため、エロージョンの進行によるスパッタ状態の変化が起こりにくく、安定した成膜とターゲット交換のためのコスト低減を実現しています。 【特長】 ■Shaped Magnet高効率テクノロジーカソー...

    • 2.PNG
    • 3.PNG

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • スパッタリング装置 製品画像

    スパッタリング装置

    スパッタリング装置

    固体表面にイオン化して加速した原子あるいは分子を衝突させることにより、固体表面から固体材料が飛び出してくる現象(スパッタリング)を利用した成膜装置です。高融点金属や合金材料、誘電体、絶縁材料にも適用できる為に、工業的利用価値が高い。...

    メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社

  • スパージャー【焼結金属フィルター用途事例】 製品画像

    スパージャー【焼結金属フィルター用途事例】

    ■長所 ・ご要望に合わせたオーダーメイド ・均一な気体の拡散 ・…

    複数の理由により、液体に様々な気体が拡散(スパージング)されます。例えば、廃水処理工場や水道水には酸素やオゾ ン、飲料や化学品製造工程においては、窒素や二酸化炭素が利用されます。GKN製エレメントを底に設置し、液体に気 体をスパージングします。 素  材:ステンレス プロセス:フィルター ■アプリケーション詳細 ・気体を均一に拡散するための安定...

    メーカー・取り扱い企業: ダイアエンタプライズ株式会社 本社

  • リモートイオンソース型 HR-PVDスパッタリングモジュール 製品画像

    リモートイオンソース型 HR-PVDスパッタリングモジュール

    指向性成膜を実現し、リアクティブスパッタリングも可能な高イオン電流ヘリ…

    ています。 ・傾斜角方向からの優れた直進性により、膜厚均一性およびステップカバレッジにおいても優れた結果を得ています。 ・リモートプラズマにより、基盤を低温に保っての成膜を実現します。 ・ターゲット利用効率においても優れた結果が得られています。 *詳細はお問い合わせください。...

    • HR-PVD2.jpg
    • HR-PVD3.jpg
    • HR-PVD4.jpg

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 多層膜スパッタリング装置『S600』 製品画像

    多層膜スパッタリング装置『S600』

    ヒーターステージ(1000℃)搭載!開発工程~量産工程まで様々な用途へ…

    ・積層成膜プロセスの改善により電子部品の品質強化と 生産性向上に貢献する多層膜スパッタリング装置です。 高品質・高精度な成膜によりデバイス品質の向上。高スループット、 生産歩留り向上、材料利用効率の最適化によりコスト競争力をアップします。 多様な成膜条件に対応したオプションにより多品種少量生産、柔軟な 生産計画へ対応可能です。 【特長】 ■最大5基のカソード搭載により多様...

    メーカー・取り扱い企業: パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社

  • 粉体スパッタリング装置 製品画像

    粉体スパッタリング装置

    お客様ご依頼サンプルによる受託成膜、立会実験にも対応いたします!

    【応用例】 ■二次電池電極材料の特性向上 ■レアメタルの有効利用(触媒用途の白金使用量低減) ■粉体の表面修飾(導電性・ぬれ性制御) ■粉体の保護(酸化防止・耐摩耗性) ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: エイ・エス・ディ株式会社 技術研究所

  • スパッタリング成膜 製品画像

    スパッタリング成膜

    高エネルギーを利用して材料そのものを叩き出す、再現性に優れた成膜技術!

    スパッタリング法は、プラズマ等により高いエネルギーをもった粒子(アルゴン)を成膜材料(ターゲット)に衝突させ、 その衝撃で材料成分をたたき出し、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させることで、薄膜を形成する方法です。 弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、 スパッタリング法によるコーティングサービスも行っております。 現在、スパッタリング法での対応膜種は、Ti...

    メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社

  • 【技術資料無料贈呈!】粉体スパッタリングとは 製品画像

    【技術資料無料贈呈!】粉体スパッタリングとは

    表面改質から触媒利用まで!成膜事例付きで密着性が高い粉体スパッタ技術を…

    当資料は、エイ・エス・ディ株式会社の取り扱う『粉体スパッタ技術』 についてご紹介しています。 「粉体コーティングにおけるめっき(湿式)とスパッタ(乾式)の比較について」や、 「成膜事例(光学顕微鏡観察像)」「粉体スパッタリング装置外観図」などを 掲載しています。 【掲載内容】 ■粉体コーティングにおけるめっき(湿式)とスパッタ(乾式)の比較について ■応用性の広がり ■粉体...

    メーカー・取り扱い企業: エイ・エス・ディ株式会社 技術研究所

1〜9 件 / 全 9 件
表示件数
60件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 構造計画研究所バナー画像再提出_128541.jpg
  • IPROS12974597166697767058 (1).jpg

PR