【加熱テスト可能】高周波誘導加熱装置

PRワークを持参いただければ加熱テストも可能です！量産工場向け、自動ワーク…

『HEATCUBE』は、誘導加熱により、非接触で金属を加熱する装置です。 一般的なガスバーナーによる加熱に比べ、作業時間の短縮、作業員による 加工精度のバラツキをなくす、CO2排出量の削減が見込まれます。 量産工場向け、自動ワーク供給等にも対応いたします。 なお、ワークを持参いただければ、加熱テスト可能です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■作業時...

メーカー・取り扱い企業： 玉川エンジニアリング株式会社

熱応答性・柔軟性に優れた薄型発熱体『シリコンラバーヒーター』

PR【1枚から製作可能】柔軟性があるので軽量化、小型化が実現！さまざまな形…

オーエムヒーターが取り扱う標準タイプの「シリコンラバーヒーター」を ご紹介します。 丸型、三角、台形、穴あきなど複雑な形状も、手ごろな価格で1枚から 製作でき短納期にも対応。 ヒーター厚はわずか1.5mmなので熱応答性に大変優れています。 今までの金属ヒーターに代わる柔軟性のある薄形の面状発熱体です。 【特長】 ■複雑な形状も、手ごろな価格で1枚から製作でき短納期にも対応...

メーカー・取り扱い企業： オーエムヒーター株式会社

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

【仕様】 ■基板サイズ：最大φ12インチ ■反応ガス：O2、N2、H2O（オプション） ■基板加熱温度：最高1000℃（基板表面） ■加熱源：ハロゲンランプ ■昇温レート：最大150℃/sec ■真空排気：DP ■制御操作 　・制御：PLC 　・操作：タッチパネルまたはPC ■デー...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社