•  特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置 製品画像

    特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置

    PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…

    『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社富山技販

  • 真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』 製品画像

    真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』

    PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…

    ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...

    • gisan.png
    • images2021040516155314.png
    • screen2.jpg
    • images2021052016285434.gif

    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

  • ボンベ真空加熱炉 製品画像

    ボンベ真空加熱

    半導体製造工程などで使用する高純度ガスボンベ内に付着している不純物を除…

    ボンベの内壁に付着している不純物を加熱真空引きにより取り除きます。 ボンベサイズ、同時処理本数はカスタマイズにて対応します。 自動機、手動機など予算に合わせご提案します。 【特長】 ■ボンベの均一な加熱が可能です(Max20...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダルトン

  • NEW温度可変レーザ三次元測定機 製品画像

    NEW温度可変レーザ三次元測定機

    リフロー時における熱変形を高精度測定 半導体パッケージ・プリント基板・…

    鉛フリー化対応 高速昇温機能  窒化アルミ製加熱ヒータ採用により最大で10℃/secでの加熱が可能となり、リフロー時の温度プロファイルを忠実に再現できます。 幅広い温度範囲 正確な温度制御  試料の加熱・冷却・温度保持をおこなう恒温チャン...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日立テクノロジーアンドサービス

  • エレクトロニクス・半導体業界向け硬さ・弾性率・粘弾性評価 製品画像

    エレクトロニクス・半導体業界向け硬さ・弾性率・粘弾性評価

    セミコンダクタ・スマートフォンなどの研究開発のためのナノインデンテーシ…

    の押し込み深さ」と「荷重制御」モードが可能。 -超高分解能と超低ノイズフロア。 -高品質光学ビデオマイクロスコープやオプションの原子間力顕微鏡(AFM)により位置を完全に同期。 -オプションの加熱ステージにより200℃までの高温測定が可能。 ヘッドと、光学顕微鏡及びAFM対物レンズの組み合わせにより、高いフレキシビリティーと使い勝手の良さ、ナノメータスケールでの正確な3次元イメージング...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アントンパール・ジャパン

  • 分子線エピタキシー(MBE)装置 製品画像

    分子線エピタキシー(MBE)装置

    コンパクトなサイズ(1インチ〜2インチ)対応のMBE装置です。

    ●特徴 本装置は10-8Pa以下の超高真空中に置いた基板を加熱し、基板上に堆積させたい原料を独立に供給して基板上に結晶を成長させる真空蒸着法で、蒸発原料に固体を使用して分子線蒸着源(クヌーセン・セル)により原料の蒸発を行う固体ソースMBE装置と、原料に気体や有...

    メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社

  • ガスフィルター用ジャケットヒーター 製品画像

    ガスフィルター用ジャケットヒーター

    200℃の高温でガスフィルターをベーキングする画期的なベーキングヒータ…

    (株)ピュアロンジャパン製ジャケットヒーターです。 コントローラーユニットには、加熱防止インターロック機能と断線検出機能がついているため安全です。フィルターから簡単に着脱できます。温度・時間などの設定は遠隔操作できるデジタル式コントローラーにより操作が簡単です。ヒーターユニットは薄...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ピー・ジェイ

  • 分極装置(実験用) 製品画像

    分極装置(実験用)

    圧電素子の分極を行う為の実験用分極装置をご紹介!

    『分極装置(実験用)』は、圧電素子の分極を行う為の装置です。 シリコンオイル中にてデバイスに高電圧を印加し、分極を行います。 また、シリコンオイルは付属のサーモメイトにて加熱します。 【特長】 ■シリコンオイル中にてデバイスに高電圧を印加し、分極を行う ■シリコンオイルは付属のサーモメイトにて加熱 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わ...

    メーカー・取り扱い企業: リードテクノ株式会社

  • 真空装置設計・製作からサポートまで短納期でご対応 製品画像

    真空装置設計・製作からサポートまで短納期でご対応

    真空装置の設計・製作から保守作業までお任せを!

    形成・膜厚強度(強化)・温度制御 ・ドーピング・材料研究評価用 【製作例】 ・実験装置設計製作(カスタム仕様)・実験装置改造設計製作(カスタム仕様) ・不活性ガス環境装置・真空乾燥装置(加熱/冷却) ・グローブボックス対応装置(高純度雰囲気室+真空チャンバ) ・各種精製機の設計製作 【各種FA関連装置】 ・真空室内可動装置・大気/真空/グローブボックス室関連装置 ・有機E...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社コスモ・サイエンス

  • 高温テストハンドラー『TH233C』 製品画像

    高温テストハンドラー『TH233C』

    TO220系デバイス 高温測定検査 装置

    『TH233C』は、大型テストボックスが接続できる大量生産タイプの TO220用高温テストハンドラーです。 アルミまたはプラスチックチューブにより供給されたデバイスを、 加熱後個別に測定部へ送り、高温状態で測定し、その結果に基づき 指定のチューブに分類収納します。 3ヵ所の測定部を持ち、各種テストボックスに接続可能なほか、 リード検査機構がオプションで搭載でき...

    メーカー・取り扱い企業: 綜和機電株式会社

  • プローバー 熱電特性評価用真空プローバーシステム 製品画像

    プローバー 熱電特性評価用真空プローバーシステム

    ・ゼーベック係数を測定に最適 ・真空プローバーシステムをベースにサン…

    ・ゼーベック係数を測定に最適 ・真空プローバーシステムをベースにサンプル表面の温度を測定可能に致しました。 ・表面温度測定機構:サンプル表面温度を測定することが可能(オプション) ・加熱冷却機構搭載:サンプルの両端で温度差を付けることが可能 ・低温または高温の仕様に変更可能(オプション)...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社システムブレイン 東京営業所

  • 熱制御システム E-Flux 超高熱流束温度コントローラー 製品画像

    熱制御システム E-Flux 超高熱流束温度コントローラー

    評価テストに適用、チラー不要でマイナス40℃まで対応可能!

    Flux Thermal Controller  超高熱流束温度コントローラー E-Fluxは高消費電力チップに対して高温/低温テスト環境を提供します。冷凍サイクル技術によって、DUTを直接加熱/冷却させることができます。 温度:-40~150℃ アプリケーション:ソケット蓋/プランジャ/カンチレバー 適用範囲 : 高消費電力デバイス / 広い温度範囲 ...

    メーカー・取り扱い企業: WinWay Technology Co., Ltd.

1〜10 件 / 全 10 件
表示件数
15件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • bnr_2403_300x300m_ur-dg2_dz_ja_33566.png
  • 修正デザイン2_355337.png

PR