エアベアリング ステージ

PRエアステージLBTシリーズ

エアステージLBTシリーズ Class1クリーンルーム対応 ストロークは50ｍｍ～500ｍｍ エンコーダは用途により1um～0.05umまで選択可能 真直度、平面度は0.5um/300mm ピッチング、ヨーイングは±2arc sec コイル、マグネット、エンコーダ無しの状態から全て組込み済み状態での納入も可能 半導体検査装置用途として海外での納入実績は豊富にあり国内では初めての紹...

メーカー・取り扱い企業： TOYO ROBOTICS株式会社

アルミ・鋼の金属部品加工＜事例集進呈＞

PR高品質・高精度の製品を製作。アルミ部品は平行・平坦度2/100mmに対…

アルミ・鋼の角物の加工を手掛ける当社は、高性能な立型マシニングセンタや 横型マシニングセンタをはじめとする設備を多数導入しており、 高品質・高精度の製品ニーズにお応えしています。 アルミで2/100mm、鋼で1/100mm（研磨込み）の平行・平坦度を誇るなど、 高い技術力を保有。半導体業界水準のキズの無い美しい仕上がりを提供します。 手のひらサイズから約20kgまでの幅広い製品に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジーエスピー

【イオンクロマトグラフィー資料】水酸化アンモニウムの不純物測定

イオンクロマトグラフで中和とマトリックス除去を伴う濃縮工程を自動化して…

半導体産業では、超高純度試薬が必要とされます。イオン性不純物が含まれていると製品の品質を損なう可能性があります。 このアプリケーションでは、28%の半導体グレードの水酸化アンモニウム溶液中の陰イオン不純物の測定結果を示します。 マトリックスの影響を避けるために、インライン中和とマトリックス除去を伴う濃縮テクニックを用いて測定を行ないました。...

メーカー・取り扱い企業： メトロームジャパン株式会社

【プロセス分析計 技術資料】現像液中のTMAHをオンライン分析

半導体産業向け！プロセス分析計 / オンライン分析計で現像液中の水酸化…

CD）の製造に用いられる第4級アモニウム塩で、これらのデバイス製造時のフォトリソグラフィ工程で最もよく使用されます。 この工程では、フォトレジスト現像液を使用して、基板上にパターンを転写します。半導体産業で使用される薬品は、極めて純粋でなければなりません。なぜなら、微量の汚染物質でさえ、電気的特性に悪影響を及ぼすからです。 現像工程はフォトリソグラフィにおける重要な段階であり、生産効率を上げ...

メーカー・取り扱い企業： メトロームジャパン株式会社

【技術資料】高濃度水酸化ナトリウム溶液中の陰イオンの定量

イオンクロマトグラフィーによる半導体製造用【高濃度水酸化ナトリウム】溶…

イオンクロマトグラフを使用して、半導体製造分野などで使われる、高濃度水酸化ナトリウム溶液を、中和化を自動化しつつ、溶液中の陰イオン分析を行ったアプリケーション資料です。...

メーカー・取り扱い企業： メトロームジャパン株式会社

プロセス分析計 2035（滴定/水分/pH/イオン計/吸光度）

滴定、水分、イオン測定、pHなどのオンライン測定が、現場で自動でおこな…

メトロームのプロセス用オンライン分析計 2035プロセスアナライザーは、石油化学、鉱物　半導体、紙/パルプ、廃水/排水、その他各種プロセス用湿式分析装置。滴定、水分測定、イオン、吸光度のオンライン分析が行えます。 排水の管理や製造工程のモニタリングに最適です。 ...

メーカー・取り扱い企業： メトロームジャパン株式会社

【プロセス分析計 技術資料】ウェハ用洗浄槽の品質管理

ウェハ用洗浄槽の水酸化アンモニウム、過酸化水素、塩酸の同時分析をインラ…

半導体メーカーではクリーンルーム内のウェットベンチで標準的な洗浄工程を行い、環境を管理し、さらなる汚染を防いでいます。しかし、このような環境では分析装置を設置するためのスペースが非常に限定的であることが一般的です。 試薬を使わず、より安全で効率的、かつ迅速に洗浄液の主要パラメータを同時にモニタリングするには近赤外分光法（NIRS）によるインライン分析が有効です。 オンライン分析計　プロセス分析計　イ...

メーカー・取り扱い企業： メトロームジャパン株式会社