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もやもやを解決！エンコーダ付きステッピングモータの「使い分け」

PR【何となくで選んでいませんか？】エンコーダ付きステッピングモーターの…

一括りにされがちな”エンコーダ付きステッピングモータ”ですが、実は機能も種類も様々です。本冊子ではエンコーダ付き2相ステッピングモータを「センシング化の歴史」「メリット」「ラインアップと比較」の観点から、分かりやすくご紹介します。初めてエンコーダ付きステッピングモータを使用する方にも、何となく使用していたけど改めて知りたい方にも活用のヒントになるお役立ち情報が詰まった一冊です。【掲...
メーカー・取り扱い企業：ミネベアミツミ株式会社回転機器
資料『次世代半導体の今を説く～SiC・GaN解説～』【進呈中！】

PR次世代半導体SiC・GaNの新情報がここに！

エネルギーの効率的な利用と環境への配慮が今後ますます重要となる中で従来のシリコン半導体よりも優れた特性を持つ次世代半導体が大きな注目を浴びています。その中でSiC(シリコンカーバイト)・GaN(窒化ガリウム)の特徴や課題を解説しております。次世代半導体に触れ、未来の製品開発のヒントとなれば幸いです。ぜひご活用ください。技術革命の先駆けとなる情報が今すぐあなたの手に。お見逃しなく！ ...

メーカー・取り扱い企業：ジェルグループ【株式会社ジェルシステム／株式会社ナカアンドカンパニー】
【分析事例】半導体基板中軽元素の高感度分析

SIMS分析によりH, C, N, O, Fなどを1ppm以下まで評価…

他手法では評価が難しい半導体基板中のH,C,N,Oを1ppm(約5E16atoms/cm3)以下まで、Fを1ppb(約5E13atoms/cm3)以下の濃度まで検出可能です。実際のFZ-Si中における測定例（図1）とIII-...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
第一原理計算によるワイドギャップ半導体GaNにおける欠陥準位解析

点欠陥の形成エネルギー、電荷、光学遷移など様々な物性情報が得られます

ワイドギャップ半導体である窒化ガリウム（GaN）は主にパワーデバイスの分野で用いられ、近年では急速充電器や5G通信基地局用途としての需要が高まっています。高信頼性を有するGaNの開発にあたっては、結晶中の欠陥量の低減...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】半導体パッケージのはんだ濡れ性試験_C0699

劣化加速試験後の電極のはんだ濡れ性試験が可能です。

半導体を多く使う電子機器では各部品をはんだ付けにより実装しています。このはんだ接合部に不良が生じると電子機器に不具合が生じます。その為はんだに関して濡れ性を評価することは部品の信頼性を評価するうえで重要です。今回は疑似的に試料を劣化させ、はんだの濡れ性がどうなるかを検証しました。恒温恒湿試験後、電極表面の濡れ性が変化することが分かりました。測定法：恒温恒湿試験,はんだ濡れ性試験製品分野：パワーデ...
メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】ワイドギャップ半導体β-Ga2O3のドーパント存在

ミクロな原子構造を計算シミュレーションによって評価可能

β-Ga2O3は広いバンドギャップを有し、優れた送電効率や低コスト化の面で次世代パワーデバイスや酸化物半導体の材料として期待されています。近年、β-Ga2O3はSiまたはSnのドーピングでn型化することが報告されています。本資料では、β-Ga2O3にSiもしくはSnをドープしたモデルに対して構造最適化計...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】SIMSによる化合物半導体の組成分析

化合物半導体の主成分元素の組成を深さ方向に評価可能

一般的にSIMSでは含有量が％を超える主成分レベルの元素の定量性は低いとされていますが、一次イオンにCs+を用いたMCs+(M:着目元素）検出モードを用いることで、主成分元素の深さ方向の組成分布を求めることが可能です。 AlGaAs中のAl,Gaについて、深さ方向の組成評価を行った例を示します。...詳しいデータはカタログをご覧ください...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
［SCM］［SNDM］

キャリア分布を二次元的に可視化

SCM/SNDMは、導電性の探針を用いて半導体表面を走査し、キャリア分布を二次元的に可視化する手法です。・SCM：1015～1020cm-3, SNDM：1014～1020cm-3程度のキャリア濃度に感度がある・半導体の極性（...
メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】半導体のイオン化ポテンシャル評価

UPS：紫外光電子分光法

半導体では、価電子帯立ち上がり位置(VBM)と高束縛エネルギー側の立上り位置(Ek(min))より、イオン化ポテンシャルを求めることが可能です。表面有機汚染除去程度のArイオンスパッタクリーニング後に測定を行っています。 ■価電子帯立ち上がり位置(VBM)の決定価電子帯頂点近傍のスペクトルを直線で外挿し、バックグラウンドとの交点を求めます。 ■イオン化ポテンシャルの算出イオン化ポテンシ...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】GaN基板の表面形状分析

AFMによるステップ-テラス構造の可視化

ワイドギャップ半導体である窒化ガリウム(GaN)は、パワーデバイスや通信・光デバイスなどの幅広い分野で用いられています。デバイスを作製するうえで、ウエハ表面の形状と粗さはデバイス性能に大きく影響します。GaNウエハを...
メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
［SSRM］走査型広がり抵抗顕微鏡法

ナノメートルレベルでの局所抵抗測定が可能

SSRMは、バイアスが印加された試料の表面を導電性探針で走査し、抵抗値の分布を二次元的に計測することで探針直下の広がり抵抗を可視化する手法です。シリコン半導体素子を計測した場合、空間分解能に依存しますが、キャリア濃度1016個/cm3以上に感度があります。・ナノメートルレベルでの局所抵抗測定が可能・半導体のドーパント濃度分布計測に有効・...
メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
SIMS分析データの再現性

再現性の高い不純物量評価が可能です

半導体デバイスの製造において、ドーパント等の不純物の制御は重要な工程となります。イオン注入に着目した場合、僅かな差が品質や性能に影響を及ぼすため、正確な制御が必要となります。SIMS分析の高い再現性は、それらの開発・維持管理に最適です。...
メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
［EBIC］電子線誘起電流

試料内部の電界構造（半導体の接合構造）に関する情報を得ることができる手…

■概要 EBIC信号を測定することにより試料内部の電界構造（半導体の接合構造）に関する情報を得ることができます。結晶中に少数キャリアのライフタイムが短くなるような箇所に敏感で、転位や積層欠陥の位置も特定できます。 ■測定原理試料に電子線を照射すると価電...
メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
MIを用いた新規有機半導体材料の構造探索

データ駆動型アプローチから高効率に新材料の候補を提案可能です

有機材料に限っても、存在し得る化合物構造の組み合わせは膨大であり、従来の特性を超える新材料の多くは未知の状態にあるといえます。このような膨大な組み合わせから有効な特性を持つ新材料の探索には、機械学習を用いたアプローチが適しています。本資料では、実際に課題の設定から達成まで、インフォマティクスを活用した事例を紹介します。化合物データセット、目的の特性をお客様の課題に合わせて設定することにより、同様の...
メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】IGZO薄膜のXAFSによる局所構造解析

酸化物半導体中、金属元素の価数・配位数・構造秩序性の評価

透明酸化物半導体のIGZO薄膜はディスプレイ用TFT材料として研究開発が進められていますが、TFT特性の安定性の面で実用に課題が残されております。この課題を解決するためにはIGZO成膜メカニズムの解明が重要です。...

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【分析事例】IGZO 薄膜の結晶性・膜密度評価

酸化物半導体のXRD・XRR分析事例

透明酸化物半導体であるIGZO薄膜はディスプレイ用TFT材料として研究開発が進んでいます。 IGZOは膜の組成・酸素欠損の有無・結晶性で大きく特性が変化する材料でもあり、膜質との相関を考慮することが重要です。加...

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【分析事例】白色LEDのフォトルミネッセンス分析

白色LED中のチップ、蛍光体の発光特性の確認

白色LEDは長寿命・省エネルギーであるため、近年需要が照明用途を中心に急激に増加しています。白色LEDは青色の半導体チップを電気によって発光させ、その発光によって周囲の蛍光体（主に黄色）を光らせることにより白色を演出しています。そのため、発光特性の向上や劣化原因の調査においては半導体チップ・蛍光体それぞれの発光...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
走査型マイクロ波顕微鏡法_SMM

Scanning Microwave Microscopy

SMM は、導電性プローブを用いて計測試料を走査し、その凹凸形状を観察します。同時に、マイクロ波を探針から試料に照射して、その反射応答を計測することで、特に半導体の場合にはキャリア濃度に相関した信号を得ることができる手法です。SMM 信号の強度はキャリア濃度に線形に相関するため、定量性が高いことが特徴です。・Si デバイスの場合、1015～1020...
メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
固体分析　新サービス開始（GDMS）

「多くの元素を感度よく測りたい!」というご要望にお応えします。主成…

ワイドギャップ半導体材料として用いられるSiCやGaNは耐薬性が高いため完全溶解することができず、化学分析での不純物分析が困難でした。一方、ワイドギャップ半導体市場が年々増加する中で、多くの元素を感度よく測りたい...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】α-アルミナ（α-Al2O3）のTDS分析

セラミックスの昇温脱離ガス分析

熱的に安定なα-アルミナは耐熱材料、半導体パッケージ、半導体製造装置の部品など、幅広い用途で利用されており、中でも緻密質のα-アルミナは真空装置の部材としても用いられます。しかしこのような部材が昇温された際に発生するガスは製品や装...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】有機薄膜太陽電池電極界面および有機膜の分散状態評価

雰囲気の影響を最小限に抑えた総合的な評価解析が可能です

析で有機膜と電極の界面の状態評価を評価しました。有機膜表面に存在するチタニアの組成、結合状態を確認できます。TOF-SIMS分析でバルク・へテロ構造有機薄膜太陽電池の有機膜中のP3HT (p型有機半導体)とPCBM (n型有機半導体)の分散状態を深さ方向で確認しました。...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
研究開発を強力サポート　「受託分析サービス」

お客様からお預かりした材料・製品の受託分析を行います。前処理から測定ま…

MSTでは各種材料や研究の受託分析、受託解析、受託評価サービスを行なっています。知識豊富な営業担当が、最適な分析プランをご提案！確かな品質と安心のサポートで、お客様に疑問を残しません。 半導体・金属・電池などのエレクトロニクス分野、医薬品・化粧品・食品などのライフサイエンス分野の受託分析・受託解析に幅広く対応します。・分析手法のご相談から承っております。・分析費用のお見...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
『X線・超音波を用いた非破壊分析の基礎と事例』※希望者全員に進呈

非破壊分析の手法（超音波顕微鏡法・X線CT法）の基礎的な解説や、代表的…

【受託サービス分析対象】 ◎LSI・メモリ　◎パワーデバイス　◎光デバイス ◎電子部品　◎太陽電池　◎二次電池 ◎燃料電池　◎照明　◎ディスプレイ ◎製造装置・部品　◎酸化物半導体 ◎バイオテクノロジ　◎医薬品　◎化粧品 ◎日用品　◎食品　◎環境 ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
NMR分析サービス

NMRで有機物から無機物まで、組成や分子構造を幅広く分析！検討から…

【分析事例】・電池/半導体：電解液の溶液 NMR や大気非曝露での多核・固体 NMR 測定・樹脂/ポリマー：樹脂成分やポリマーの組成・劣化解析が可能・食品/環境：食品・サプリメント中の成分の定量や劣化状態の分析 ...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
［SEM］走査電子顕微鏡法

高倍率観察(30万倍程度まで)が可能

6インチまで装置に搬入可能（装置による）・SEMにオプションを組み合わせることにより、様々な情報を得ることが可能　EDX検出器による元素分析が可能　電子線誘起電流（EBIC）を測定し、半導体の接合位置・形状を評価　電子後方散乱回折（EBSD)法により、結晶情報を取得可能　FIB加工とSEM観察の繰り返しにより、立体的な構造情報を取得可能（Slice & View）　冷却観...
メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
ロックイン発熱解析法

ロックイン発熱解析法は、電流経路中の僅かな温度上昇を検出します

デバイスの内部で発生する熱を検出し、故障箇所を特定する半導体故障解析装置となります。高感度赤外検出器にて検出した発熱画像と、IRコンフォーカルレーザ顕微鏡で取得した高解像度なパターン画像を重ね合わせて表示することにより、高感度かつ高い位置精度で故障箇所を迅...
メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
［AFM］原子間力顕微鏡法

ナノスケールの凹凸形状を三次元的に計測

AFMは、微細な探針で試料表面を走査し、ナノスケールの凹凸形状を三次元的に計測する手法です。・金属・半導体・酸化物など、絶縁体から軟質の有機物まで幅広い試料を測定可能・接触圧力が弱いタッピングモードを用いることで、試料ダメージを最小限に抑えることが可能...
メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
EMS分析（エミッション顕微鏡法）

故障箇所を迅速に特定

EMSは、半導体デバイスの異常動作に伴い発生する微弱な発光を検出することで、故障箇所を迅速に特定できる手法です。EMMS、PEM、EMIとも呼ばれます。・測定波長領域（可視域から近赤外域）に対して透明な材...
メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
『TEMの基礎』『TEMの応用と事例』※希望者全員にプレゼント

高分子や半導体など、幅広い分野の研究開発に活躍するTEM（透過電子顕微…

TEM（透過電子顕微鏡法）は、薄片化した試料に電子を照射し、試料を透過した電子や散乱した電子を結像し、高倍率で観察する手法です。 MSTでは、TEMの特徴や試料作製方法など基礎知識を掲載した『TEMの基礎』と代表的な分析事例や他手法との複合解析例などを掲載した『TEMの応用と事例』を進呈中！写真や図を用いてわかりやすく紹介した資料です。【掲載内容（一部）】 <TEM...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】酸化・窒化薄膜のバンドギャップ評価

XAFSとXPSの複合解析によって高精度なバンドギャップ評価が可能

本手法は特に各種酸化膜・窒化膜の評価に対して有効です。本資料では窒化シリコン（SiN）膜のバンドギャップ評価事例をご紹介します。測定法：XAFS・XPS 製品分野：太陽電池・照明・酸化物半導体・パワーデバイス分析目的：電子状態評価詳しくは資料をダウンロード、またはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【事例】GCIBを用いたSiO2中アルカリ金属の深さ方向濃度分布

SiO2膜の不純物の評価

アルカリ金属であるLi,Na,Kは半導体における各種故障原因の要の元素です。これらは測定時に膜中を移動してしまう可動イオンと言われており、正確な分布を得ることが困難とされてきました。今回、スパッタイオン源にGCIB(Arクラスター)...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】SiGe中不純物の高精度定量評価

SIMS：二次イオン質量分析法

SIMSによる半導体素材SiGeの不純物の定量・組成評価では、分析時に下記を考慮する必要があります。 ●Ge濃度に応じた適切な定量補正を行わないと不純物定量値は本来の値に比べて50%以上異なることがある。定量評...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】SiC基板表面および内部の不純物濃度測定

ICP-MS, GDMSにより基板表面と内部とを切り分けて分析

半導体材料に含まれる不純物は、リーク電流の発生やデバイスの早期故障等、製品の品質に影響する場合があります。従って、材料に含まれる不純物量を把握することは、製品の品質向上において重要です。本資料では、パワーデバイス材料として注目されているSiC基板について、基板表面に付着した不純物をICP-MS、基板中の不純物をGDMSで分析した事例をご紹介します。測定法：ICP-MS・GDMS 製品分野：パワーデ...
メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】粘着シートによる電子部品の汚染評価

有機汚染の定性・定量・分布を複数手法の組み合わせで評価

半導体デバイスの製造工程では、ダイシング用テープなど様々な粘着シートが使用されます。粘着シートは異物・汚染の原因となることがあります。そこで、本事例ではTOF-SIMS・SWA-GC/MSを用いて複合的に評価した結果をご紹介します。TOF-SIMSでは、粘着シート各材料の定性を行うことで、異物・汚染がどの粘着シートに起因するのか、また粘着シートのどの層に起因するのか同定が可能です。またSWA-GC/...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】CFRP炭素繊維強化プラスチック内部の繊維配向解析

X線CTによるCFRPの解析事例

FRP内部の繊維構造についてX線CTを用いて観察しました。その結果、直径約7μmの炭素繊維の集まりを観察することができ、また繊維の配向性解析を行いました。測定法：C-SAM 製品分野：酸化物半導体・パワーデバイス・LSI・メモリ分析目的：形状評価・故障解析・不良解析・製品調査詳しくは資料をダウンロード、またはお問い合わせください。 ...
メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】分子動力学計算を用いたアモルファスSiNx膜構造解析

シミュレーションによってアモルファス膜のミクロな構造解析が可能です

アモルファスSiNx（a-SiNx）膜は、N/Si比などの組成変化によって半導体から絶縁体まで物性が大きく変化することから、トランジスタ用ゲート絶縁膜など幅広い用途で用いられています。一方、結晶性のないアモルファス構造の材料に対し、原子レベルのミクロな構造解析を行える実験手法...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】汚染原因となる工程の調査

手袋由来の汚染の評価

半導体デバイス製造において汚染工程を調べるため、不良の原因となる薄い付着物が何に起因するかを調べる必要があります。EDXでCが検出され、XPSで定量を行った付着物について、TOF-SIMSで分析を行いました。各工程で使用している標準試料の手袋と比較をしたところ、手袋A, Bと似た傾向が見られました。更に、標準試料の手袋をSiウエハに付着させて検証をしました。その結果、手袋Aに類似していることがわかりまし...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】成膜成分のウエハ裏面への回り込み評価

ベベル部近傍にて金属成分の定量的な評価が可能

半導体デバイス製造において、歩留まり向上の観点からウエハ裏面に残留する金属を除去することが求められており、金属成分の残留量を定量的に把握することが重要です。ベベル部から500umの範囲で裏面に残留する金属濃度分布を調査するため、TOF-SIMSを用いて評価を行いました。TOF-SIMSはベベル部近傍のみの金属成分を検出する空間分解能を有しており、濃度既知の標準試料を用いることで濃度を定量的に算出する...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】HF処理前後における骨の状態評価

ラマン分析を用いた薬液処理前後の状態評価

HF（フッ化水素）は、SiO2のウェットエッチング処理等で広く用いられており、半導体製造プロセスにおいて非常に重要な役割を果たします。しかし、一方で皮膚に触れてしまうと浸透し、骨を侵してしまうため非常に危険な薬品であり取り扱いには注意が必要です。このHFによる骨の侵食は、アパ...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】多元系金属微粒子の結晶構造観察

InGaZnO4粒子の超高分解能STEM観察

面収差補正機能）付きSTEM装置により、超高分解能観察（分解能0.10nm）が可能となりました。原子量に敏感なHAADF※-STEM像は多元系結晶構造を直接理解できる有効なツールです。今回、酸化物半導体中微粒子の評価を行いましたので紹介します。異種材料界面・化合物界面の原子配列、粒界偏析評価などに応用できます。 ※High-Angle Annular Dark-Field：原子量（Z)に比例...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】IGZO（粉末・バルク・薄膜）の組成・不純物分析

主成分及び金属不純物元素の定量分析

透明酸化物半導体であるIGZO薄膜はディスプレイ用TFT材料として研究開発が進んでいます。 IGZOは薄膜の組成や膜中の不純物量で特性が変化する材料であり、組成・不純物の情報を得ることは重要です。今回は薄膜...
メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】クリーンルーム内有機化合物の評価方法

GC/MS：ガスクロマトグラフィー質量分析法

半導体や液晶などの製造が行われているクリーンルームでは、パーティクルだけでなく分子レベルの化学汚染（分子状汚染）を把握することが重要です。浮遊分子状汚染物質としては酸・塩基性ガスや凝集性有機物質、ドーパント、金属などが挙げられ、成分に応じて分析方法は異なります。ここでは凝集性有機物質の詳細と、代表的な捕集方法である“吸着剤捕集”と“ウエハ暴露捕集”について紹介します。...

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【分析事例】エポキシ樹脂のTDS分析

真空中での有機物からの脱ガス挙動を調査可能です

エポキシ樹脂は半導体封止材として、また真空装置内外で接着剤や真空リーク対策として使用されています。しかし硬化後であっても加熱により脱ガスが発生する場合があり、製品や装置に悪影響を及ぼす可能性があります。TDS（昇温脱...

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【分析事例】IC法による溶液中の有機酸の分析

溶液中の有機酸の定性・定量分析が可能です

クエン酸やリンゴ酸などの有機酸は半導体分野においてエッチング液やメッキ液の添加剤として、また食品中の酸味剤・乳化安定剤として、化学工業・医薬・食品などの分野で幅広く利用されています。特にメッキ液中の有機酸濃度は、使用の過程でバラン...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】薄膜表面処理後の仕事関数評価

ITO表面プラズマ処理後のUPS分析

半導体デバイスでは、構成される各種材料の仕事関数の組み合わせにより、その性能が大きく左右されます。このため、表面処理や表面修飾等によって仕事関数を制御しようとする試みがなされており、それらの効果を検証することは重要です。本資料では、有機ELや太陽電池等の電極材料として用いられるITO（SnドープIn2O3）について、表面プラズマ処理前後での仕事関数変化をUPS分析により評価した例をご紹介します。...
メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】イオン注入及びアニール処理を行ったSiの低温PL

照射欠陥やアニールによる結晶性の回復を確認することが可能です

Si系半導体デバイスの作製ではイオン注入やアニール処理といった様々な処理が行われます。これらの処理前後における照射欠陥の度合いや結晶性の回復度合いを確認することは、製造プロセスを制御するにあたり重要と考えられ...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】XPSによる単結晶Si表面のダメージ評価

高分解能測定と波形解析を利用してc-Siとa-Siの状態別定量が可能

半導体の製造工程において表面改質を目的としたイオン照射を行うことがあります。その中で、単結晶 Si表面に不活性元素のイオンを照射することで構造の損傷が生じ、アモルファス層が形成されることが知られています。高分解能なXPSスペクトルではc(単結晶)-Siとa(アモルファス)-Siが異なったピーク形状で検出されることを利用して、この損傷由来のa-Siをc-Siと分離して定量評価した事例をご紹介します...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST