特長的な基板にも対応可能な！3D局所加熱のIHはんだ付け装置

PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…

『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富山技販

厚銅バスバー基板・コイル基板【銅厚3.0mmまで実績あり】

PR大電流用途で使用されるバスバー・コイルを基板化することで高い絶縁性と工…

重電や自動車業界で大電流用途として使用されているバスバー・コイルを基板化しました。 基板化したことで以下の効果が見込めます。 ・IGBTやSiCといったパワーデバイスの基板実装 ・基板実装後に装置への取付が可能→組立時の工数削減と誤配線の防止 ・基板化、配線の簡易化による省スペース化→装置全体の小型化 ・一般的に厚銅基板というと銅箔厚が200μ(0.2mm)以上の基板を指しますが...

メーカー・取り扱い企業： 共栄電資株式会社

研究開発用装置　成膜装置･グローブボックス

有機ELデバイス開発などに適した研究開発用装置を紹介します。

当社では、大気にさらすことなく連続処理が可能な 『研究開発用装置　成膜装置･グローブボックス』を設計・製造・販売しております GBOX内部で試料基板を搬送BOXに収納・密閉することで不活性雰囲気を保ち、 基板を大気に曝す事無く蒸着装置に装着・処理しGBOXに戻すことが可能です。 KOREA KIYON製 不活性ガス循環精製式GBOXは、不活性...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイエルエステクノロジー

有機デバイス蒸着装置　真空エリプソメーター蒸着装置

真空蒸着中に光学特性をリアルタイムに測定可能です！

ジ：角度選択可能（100度/120度/140度） ○アルミニウム製扉：覗き窓（有効可視径：Φ96ｍｍ） ○外部フィードスルー用ポート（NW40）3ポート ○真空排気ポート（NW40）1ポート ○最大基板サイズ：Φ110ｍｍ ○基板加熱もしくは基板冷却機構 ○蒸発源：2源（同時2源） ○水晶膜厚計、基板シャッター付き ○高真空ポンプ：ターボポンプ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイエルエステクノロジー

光学特性をリアルタイムに測定「真空エリプソメーター蒸着装置」

真空蒸着中に光学特性をリアルタイムに測定できるエリプソメトリー用蒸着装…

フランジ：角度選択可能　100°/120°/140° →アルミニウム製扉：覗き窓（有効可視径：φ96mm） →外部フィードスルー用ポート（NW40）3ポート →真空廃棄ポート（NW40）1ポート ○基板ホルダー構造 →最大基板サイズ：φ110mm →基板加熱もしくは基板冷却構造...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイエルエステクノロジー

有機デバイス研究を目的とした小型の蒸着機『E-70シリーズ』

マルチチャンバー化に対応可能！有機デバイス研究を目的とした小型の蒸着機

【構成（E-70Basic）】 ■基板サイズ：70x70 max ■ポンプ：ターボＰ ■蒸発源：8源 max ■同時蒸着：3源max 【構成】 ■本体（E-70Basic） ■ターボ排気 ■蒸発源 ８式（同時２源） ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイエルエステクノロジー