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    電子機器トータルソリューション展2024出展のご案内

    PR高品位微細印字で幅広い素材にも対応できる「新型基板マーキング装置」と「…

    「最先端クラスのプリント基板製造に提供する新たなソリューション」をテーマに 三菱電機株式会社様ブースにて「新型基板マーキング装置」と「基板分割機」の 実機を展示いたします。 「新型基板マーキング装置」はプリント基板のトレーサビリティに必要な二次元コードや 文字の高速微細印字および多様な素材に対応した高精細印字をご提案いたします。  ※ブースにご来場いただいたお客様へ先着順で記念品をプレゼント! ...

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    メーカー・取り扱い企業: 名菱テクニカ株式会社 三菱電機グループ

  • FPD・半導体用 ガラス基板搬送ケース※1個から生産可能 製品画像

    FPD・半導体用 ガラス基板搬送ケース※1個から生産可能

    PRG1~G6hの様々なサイズにも対応。精密・高品質なガラス搬送ケースの製…

    当社の『ケース事業』では、お客様のニーズに合わせて、ケースの製作・ 修理・洗浄・保管から輸送までトータルシステムをご提案します。 精密・高品質なガラス搬送ケースの製造・クリーンルーム洗浄から物流 支援まで幅広く手掛けています。 また、長年培ってきたガラス精密加工技術をベースに、フラットパネル ディスプレイ用(LCD・OLED)フォトマスク用・メタルマスクのケースなどの 先端分野...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ディー・アール・エス(DRS)

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    SUSS MicroTec 手動マスクアライナMA/BAGen4

    最大8インチ対応角基板まで対応可能 セミオートアライメント対応露光…

    ズースマイクロテック MA/BA GEN4 は最大8インチ角基板まで対応可能なセミオートアライメント対応の露光機です。MEMS、光学部品の製造、化合物半導体などのR&D、少量生産用途に対して最適な装備を備えています。最適化されたアライメントマーク観察光学系と画像処理機能によりバラツキの少ないアライメントが行えます。...・対応基板サイズ MABA6 : 小片~最大φ150mm MABA8 : ...

    メーカー・取り扱い企業: 兼松PWS株式会社

  • 高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』 製品画像

    高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

    高速パターン・ジェネレータ

    『VPG+シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。 半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケージング、LED生産、ライフサイエンス、および微細加工を必要とするの分野にお役立て頂けます。 【特長】 ■高分解能 ■高画質 ■高速なスループット ■高速フォトマスク生産に最...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS 製品画像

    ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS

    ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS

    ■ 8インチ以下は「一括露光方式」、   12インチは「ステップ&リピート露光方式」の選択が可能 ■ 露光エリアが広い為、高生産性を実現 ■ 焦点深度が深い為、MEMS、RFフィルター業界に多数の   実績あり ■ TAIKOウエハにも対応 ■ グローバルアライメント方式 ■ 高剛性フレームにより、高精度アライメント露光が実現 ■ フォーカスマップ機構標準装備 ...・装置:露光...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社サーマプレシジョン

  • 【半導体製造装置関連】PETRAナノインプリントステッパー 製品画像

    【半導体製造装置関連】PETRAナノインプリントステッパー

    ナノ単位で、モールドからワークに複数回に分けて転写する装置。 つくば…

    ナノインプリント本体[モールドテーブルαβ調整モールド機構 高精度XYθウエハステージ ウエハ湾曲機構及びXYステージ アライメント顕微鏡×2 恒温恒湿器 イオナイザー マスフローコントローラ×4(TFP、CTFP、窒素、ヘリウム)] UV光源 デジタルカメラ モールドサイズ:□22mm, □50mm, □75mm(有効は70~72mm角) (石英、厚み6.35mm台形) ウエ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ライズワン

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