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    処理効率は98%以上のアンモニア分解装置!省エネルギーを実現

    PR某化学メーカー等、導入実績多数! 排ガスの風量に合わせて小風量~大風量…

    当製品は、NH3を使用した試験を実施されており、 その排ガスを処理する試験用アンモニア分解装置です。 処理効率は98%以上で、自社製バーナを使用しており、安全に処理します。 また高濃度のアンモニアの場合は、直接燃焼することも可能です。 ご用命の際はお気軽にご相談ください。 【特長】 ■某化学メーカー等、導入実績多数有り ■排ガスの風量に合わせて小風量~大風量まで対応可能 ■省スペース、省エネル...

    メーカー・取り扱い企業: サンレー冷熱株式会社

  • F2600 Portable Power Station 製品画像

    F2600 Portable Power Station

    PR弊社販路限定品!2000W出力と2560Whの容量を備えた超大容量モデ…

    『Anker Solix F2600 Portable Power Station』は、高耐久キャスター& 伸縮ハンドル付きで、超大容量ながら持ち運び簡単なポータブル電源です。 2560Whの容量と2000Wの出力でほぼ全ての家電製品を使える仕様。 大人数で利用可能な13ポートを搭載し、13台まで同時に充電・給電が可能。 直径約12cmの大型ホイールは段差を越えやすく、路面状況を気...

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    メーカー・取り扱い企業: 丸紅エネブル株式会社

  • Cuエッチング対応高密度プラズマエッチング装置 製品画像

    Cuエッチング対応高密度プラズマエッチング装置

    新プラズマ源HCD(ホローカソード放電)電極搭載、各種メタルやCu薄膜…

    高いプラズマを密度を実現。 独自開発高密度プラズマと独自プロセスで各種メタルだけでなくCu薄膜などの難エッチング材のエッチングに対応。 新開発HCD型ヘッドはスケールアップが容易で矩形基板や型基板の高精度エッチングが可能。 300mmウェハや積層基板、最1m□までの基板のメタルエッチングに対応。 近年ニーズが高まっている半導体周辺部材(フォトマスク、高密度実装基板)をカバーする従...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • バッチタイプSWPアッシング装置 製品画像

    バッチタイプSWPアッシング装置

    ダメージレス、ハイレート、面積対応、イオンダメージを完全除去、完全ラ…

    物除去以外に基板の酸化にも対応可能。 オプションにてH2ガスの使用により、半田の表面酸化膜の除去も可能。 ウェハ・基板のバンプ・パッドのの表面酸化膜除去・還元クリーニングに効果 オプションにて型ステージ(400×500mm)対応可能...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • HCD型高密度プラズマエッチング装置 製品画像

    HCD型高密度プラズマエッチング装置

    シンプルな機構で高密度プラズマを実現。ウェハから1m□基板まで対応。S…

    せず、電極構造のみの工夫によって高精度エッチングが可能。従来型のエッチング装置(CCP型・ICP型)とのハード上の互換性も高く低コスト・高い信頼、稼働率の実現に寄与。 ウェハレベルの基板だけでなく型基板のエッチングにも対応可能 基板の型化にスムースに対応可能な新型高密度プラズマエッチング装置...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

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