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【ODM・EMS受託】無線機器、電子機器、装置の設計・製造・修理
PR有線機器の無線化、改版設計、試作など、お気軽にご相談ください。確かな経…
新日本電子は、東京都町田市の無線関連機器メーカーです。 当社では、創業以来36年培った無線技術をコアに 無線応用機器をはじめ、各種電子機器・装置の設計・製造・修理を承っております。 【特長】 ■試作のみや、少量・単発の生産にも柔軟に対応 ■はんだ付けや電子機器組立ての資格保有者による、高品質なものづくり ■既存有線機器の無線化設計(リモコン、センサー、カメラなど) ■部品のE...
メーカー・取り扱い企業: 新日本電子株式会社 本社
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PR高速かつ正確なガラス微細加工が可能。加工時の応力を抑えて、マイクロクラ…
『LPKF Vitrion M 5000 Gen2』は、独自に開発した「LIDEプロセス」を採用し、±5μm以下の高精度でガラス微細加工が可能なレーザーシステムです。 加工時の応力を最小限に抑え、チッピングやマイクロクラックの発生を防止。 アドバンストパッケージングで標準使用される150×150mmから 510×515mmまでの大型パネルに対応し、基板のサイズや 形状に合わせて柔軟に対...
メーカー・取り扱い企業: LPKF Laser&Electronics株式会社
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量産対応バッチタイプスパッタリング装置 (STH10311型)
φ410基板×4枚の自公転基板台を4枚備えたバッチ型のスパッタリング装…
性を実現しました。 量産用途に最適なデータロギングシステムや装置制御や管理を容易にする制御インターフェースソフトなど量産用装置に必須な細かな配慮が組み込まれています。 300ウェハに代表される大型基板の施策・少量生産に抵抗器やセンサーなどの小型電子部品の大量生産に、品質とスループットを両立いたします。 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用と…
搭載可能 ▶各種ターゲットの組み合わせによる、幅広い光学特性フィルターの生産が可能 ■リアクティブ成膜用イオンソースを搭載 ▶成膜時のイオン照射による基板上での酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 ■大型基板への成膜 ▶300mm もしくは 280×330×50 mm サイズの基盤(フラット、曲面)まで対応 ▶基盤加熱機構も組み込み可能...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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水素フリーDLCコーティング装置(高密度スパッタADMS装置)
独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成(水素含有量1%以下)優…
従来に無い水素フリーDLC膜(膜中水素含有量1%以下)を量産装置で実現 成膜プロセスに水素を使用しない高密度プラズマスパッタ技術を採用、新方式PVD装置(ADMS=アーク放電式マグネトロンスパッタリング装置) 水素フリーの緻密なDLC膜は従来の水素含有DLC膜に比べMo添加の潤滑油中の摺動特性を1/15以下に低減(1⇒0.06) 最新成膜プロセスで導電性カーボン薄膜の形成にも対応。バイオ用途...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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半導体、プリント基板、表面処理に!高い密着力を実現する室温スパッタ装置
L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』は、 基板とプラズマ領域が分離されており、熱ダメージを抑えつつ、高い密着力を実現する装置です。 510mm×610mm(最大730mm×920mm)の大型基板に対応し、基板2枚並行処理も可能です。 各種薄膜形成、シード層形成(過マンガン酸・無電解めっきからの置換)などの用途に適しています。 【特長】 ○精密有機パッケージ基板に最適 ○高い生...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サーマプレシジョン
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精密光学用イオンビームスパッター装置 IBS1400/1600
ビューラー・ライボルトオプティクスの真空IBS装置
ビューラー・ライボルトオプティクスが開発したイオンビームスパッター装置です。 搭載基板サイズは4x350mmもしくは最大600mm系の大型基板。可動式ターゲットタワー・RF220 イオン源・OMS5100を用いたダイレクトモニタリング方式にてプラスマイナス0.3% の範囲内で膜厚分布を実現いたします。 詳細はお気軽にお問合せくださ...
メーカー・取り扱い企業: ビューラー株式会社
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ロードロックタイプスパッタリング装置(枚葉搬送タイプ)デモ対応中
ディスクリート素子から先端デバイスまで、R&Dに量産に。コンパクト、ハ…
基板の枚葉搬送を基本としたロードロックタイプスパッタリング装置、上位機種(マルチチャンバタイプ)のプロセスチャンバと搬送機構を共用。 高いレベルの膜質要求に対応、各種IC(ディスクリートIC、カスタムIC,化合物)の量産・試作。 次世代デバイスの開発(強誘電体膜開発、配向性窒化膜形成)に実績のソフト&ハード UV-LED用テンプレート用AlN膜、センサー用酸化膜、高均一性電極膜、薄膜ヒーター...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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研究開発から量産までサポート!
信頼性の高い標準型のハードウェアと豊富な実績に支えられ、神港精機は1967年に1号機を世に送り出して以来、多くの分野で活躍しています。柔軟で先進的なソフトウェアにより常に最先端を切り開く最新型の装置の装置を提供しています。...【特長】 ●金属・合金・絶縁膜など広範囲な材料や反応性成膜の形成が可能です。 ●基板固定での高速成膜や、基板回転での大面積成膜が可能です。 ●タッチパネルによる操作性...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温(400℃以下)で不活性…
独自高密度スパッタ法 アーク放電型マグネトロンスパッタリング法(ADMS法)によりメタル成膜と同等のプロセスで導電性カーボン薄膜を形成。 従来のスパッタカーボン薄膜に比べて格段に緻密で高い密着性が特徴。 導電特性と膜の安定性よりエネルギー・バイオセンサーなどの新分野に対応 導電性カーボン薄膜は硬度や表面の平滑性に優れており、金属への高い密着性より機械部品の表面処理(トライボロジー用途)への応...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ
コンパクトな筐体に3元のカソードを組み込んだ標準バッチタイプスパッタリングシリーズ。広い膜厚分布均一範囲と自動制御機構によって各種電子デバイスや関連材料の成膜工程をの基礎開発から量産までカバーします。 多くの納入実績に支えられた成膜プロセスとオプションにより御要望を確実にサポートします。...シリーズは基本的に4インチカソード、6インチカソード、8インチカソードを装備したバッチタイプ(標準各3元...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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AlNテンプレート作成装置(配向性AlN膜用スパッタリング装置)
UV-LED用AlNテンプレートをスパッタで。高い結晶性とC軸配向性を…
UV-LEDの製造の低コスト化に必要なサファイア基板へのAlNテンプレートをスパッタで作成。100arc/sec以下のC軸配向性を持つAlN膜を低温(700℃以下)でスパッタリングで形成。 シンプルかつ安定したプロセスとハイスループット性でUV-LEDの低コスト化に貢献。 サンプルテストに対応中、高周波デバイスへの展開も開発中。 ...標準型ロードロックタイプスパッタリング装置より成膜系...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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