• ロータリーダイシリンダー、ロータリーダイユニット<テスト受付中> 製品画像

    ロータリーダイシリンダー、ロータリーダイユニット<テスト受付中>

    PR安定した切れ味と長寿命化を実現。高剛性ダイユニットは刃先のクリアランス…

    当社は、紙からチタンまで様々な素材を加工する 技術と製品を有し、多岐にわたる事業を展開しています。 主力製品の1つとして製造を手掛ける「ロータリーダイシリンダー」は、 高精度マシニング加工と独自製法により、安定した切れ味と長寿命化を実現。 印刷、食品包装、医薬品包装、電池、半導体製造など 幅広い分野で採用されており、お客様の生産性向上に貢献しています。 また、本製品を搭載した「...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三條機械製作所

  • ドライポンプ(ドライ真空ポンプ) SST/SSXシリーズ 製品画像

    ドライポンプ(ドライ真空ポンプ) SST/SSXシリーズ

    PR独自設計のスクリューロータによりハードプロセスをこなす、万能ドライポン…

    ◆独自設計のスクリューロータにより、従来ドライポンプでは不向きとされていた凝固性ガス・粉体・生成物・液体などの吸引を含むハードプロセスにおいても安定した運転を実現します。 ●ZEROEDGEスクリュー 排出効率に優れ、堅牢性を重視した構造設計により、ハードプロセスにおいても安定した運転を可能にします。 ●メンテナンス性の追求【省コスト】 設置場所にて、容易に洗浄作業や分解作業ができ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】 製品画像

    小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】

    クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備しているので安定

    『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置(デポアップ)です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系:<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

  • イオンアシスト蒸着用TELEMARKイオンソースシリーズ 製品画像

    イオンアシスト蒸着用TELEMARKイオンソースシリーズ

    イオンアシスト蒸着に最適なイオンソースを提供します

    TELEMARK製のイオンアシスト蒸着に最適なイオンソースを提供いたします。イオンアシスト蒸着(IAD)技術は余分な基板加熱なしに高密度で安定な成膜可能なプロセスです。TELEMARKのグリッドレスイオンソースシステムは独自のデザインのイオン源により、ガラス、プラスチック、金属の様々な基板で安定なイオンアシスト蒸着を可能にしました。...

    メーカー・取り扱い企業: VISTA株式会社

  • 超高性能光学薄膜用蒸着装置 「Sapio 1300/1550」 製品画像

    超高性能光学薄膜用蒸着装置 「Sapio 1300/1550」

    低パーティクル仕様の超高性能光学薄膜用蒸着装置です。

    超高性能光学薄膜用蒸着装置 「Sapio 1300/1550」は、新開発のファイバー式光学モニターの採用や、安定した温度制御が可能な80点モニターガラス機構を搭載することで設計通りの特性が得られる高精度を実現しました。 徹底した放出ガス対策により、槽内が汚れていても特性のみならず、安定した膜質が得られます。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • 化合物半導体用蒸着装置(AAMF-C1650SPB型) 製品画像

    化合物半導体用蒸着装置(AAMF-C1650SPB型)

    先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面…

    蒸発源には水冷式反射電子トラップ付きの電子銃を使用しており、基板への電子の乳を防いだ低ダメージ成膜を実現しています。 実績豊富な6連式電子銃は高融点金属を含む多層膜電極形成に対応しています。また安定した蒸着が特徴でマイクロアークによる基板ダメージやドロップレットによる膜表面の異常を排除 プロセスや生産量に合わせてリフトオフ蒸着にも対応いたします。リフトオフ蒸着時は厚膜電極に対応した基板背面よ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ウェハプロセス用真空蒸着装置 製品画像

    ウェハプロセス用真空蒸着装置

    膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現!高品質の電極膜を安定して形…

    装置です。 ディスクリートIC、化合物IC、MEMSデバイスの量産用途に 豊富な実績を持っています。膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を 実現するオイルフリー排気系により高品質の電極膜を安定して形成が可能。 量産用途の蒸着装置として高い稼働率を誇ります。 【特長】 ■信頼性の高い基本構成 ■豊富なオプション機構  ・蒸発源、多連式電子銃(10kw)、抵抗加熱蒸発源、多...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 『事例』 高温・ALDプロセスで使用可能なバルブ ※無料進呈中 製品画像

    『事例』 高温・ALDプロセスで使用可能なバルブ ※無料進呈中

    『流路まるごと事例集』バルブ全体を最高200℃ の高温環境で使用できる…

    バルブ全体をヒーティングしたい、ハンドルを付けたまま恒温槽に入れられるバルブ、ガス量の安定と再現があるバルブ欲しいなど、お困りごとはありませんか? KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。気になる事例がありましたらイプロスまたは当社ホー...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー

  • 真空蒸着加工サービス 製品画像

    真空蒸着加工サービス

    気化した金属をプラスチック製品の表面に付着(メッキ)させる成膜技術です

    来のアンダー塗装・ トップ塗装を省いたダイレクト蒸着が可能で、高生産性・高品質・ 低コストを実現する『真空蒸着加工』を承っております。 関連会社の美光メック工業作製の蒸着材料を使用し、 安定した蒸着膜を実現。 また、各種成形材への技術を持ち、ABS・PP・PC・PC-HT・PBT-PET・ PR・PAR・PPS・BMCへの実績がございます。 【特長】 ■クラス10,00...

    メーカー・取り扱い企業: 美光九州株式会社

  • 【材料コスト削減をお考えの方必見】光学薄膜用蒸着材料 製品画像

    【材料コスト削減をお考えの方必見】光学薄膜用蒸着材料

    材料には高純度・安定した溶解が要求されます。当社では、蒸着に適した材料…

    光学薄膜の作成には真空蒸着法が多く用いられています。 真空蒸着法は材料を加熱・溶解し、発生した蒸気を基板上に 凝集させ薄膜化する方法です。 材料には高い純度と安定した溶解が要求されます。ソルテックでは 長年の研究の結果、蒸着に適した材料を提供しています。 中国、韓国に関連会社があり、そのネットワークを駆使することで コストを抑えた形での材料提供が可能になっ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ソルテック

  • 直動形電磁弁 製品画像

    直動形電磁弁

    直動形電磁弁

    小形4ポート3位置 直動形電磁弁 真空吸着、真空破壊制御に最適 応答時間 2ms 作動回数 5億回超 禁油仕様標準、安定作動、異物トラブル防止 真空・正圧の両用可能、大流量、インターロック回路標準...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フロー・ジョイント

  • 自動車部品用蒸着装置(AAMF-C1075SR型) 製品画像

    自動車部品用蒸着装置(AAMF-C1075SR型)

    コンパクトな筐体で自動車外装品など大型樹脂成形品の全面成膜に対応 高速…

    ルドライ排気系の採用と前扉型の装置形状によって 排気系のメンテフリー化とシステムのメンテナンス性にも優れており 高い稼働率を実現しています。 【特長】 ■樹脂基板への高速バッチ処理 ■安定した成膜性能と高速排気性能 ■オールドライ排気系による排気系メンテナンスフリー化 ■コンパクトな装置規模による高生産性 ※詳しくはPDF資料をご覧ください。 ※その他、仕様詳細やサンプル...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • BS series 研究開発用 電子ビーム蒸着装置 製品画像

    BS series 研究開発用 電子ビーム蒸着装置

    用途や目的に応じて任意にカスタマイズ可能な真空蒸着装置

    を選択でき、任意に組み合わせて複数台搭載することが可能。 ・電子銃+反射電子トラップ、またはボンバード蒸着減により、低温・低ダメージ蒸着が可能。特にレジストを用いるリフトオフ蒸着に有効。 ・アルミの安定蒸着ができ、繰り返し使用できるライナーもご提供。 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...

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    メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社

  • BS-60310BDS ボンバード蒸着源 製品画像

    BS-60310BDS ボンバード蒸着源

    ダメージレス蒸着

    材料には直接電子ビームを当てません。 〇特長 ・間接加熱方式 ・成膜中の反射電子ダメージとX線ダメージなし ・スプラッシュが抑制され、低欠陥成膜可能 ・分解・組成ずれなし ・光学吸収が少ない。 ・安定成膜可能 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: アズサイエンス株式会社 松本本社

  • 大型樹脂基板用蒸着装置 製品画像

    大型樹脂基板用蒸着装置

    成膜前の高周波プラズマによる放電洗浄により、樹脂基板に対して高い密着力

    膜の低温形成(70℃以下) ■短時間バッチ処理 ■RFボンバードによる樹脂基板への膜の高い密着性 ■各種薄膜・厚膜・多層膜の形成(Cu/Ni Cu1μmNi0.25μm 積層) ■不連続膜の安定した成膜  ■カスタム化対応にて長尺基板(最大1750mm)への全面成膜が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • アークフィラメント式イオンプレーティング装置  製品画像

    アークフィラメント式イオンプレーティング装置 

    緻密な酸化膜厚膜(~10μm)を高速形成。新開発イオン化機構搭載 C…

    電子銃による各種材料の安定蒸発と新型イオン化機構による高密度プラズマで反応膜を高速形成。 各種生成膜 硬質耐酸化性膜:SiC 耐プラズマ性膜:Y²O³ 硬質窒化膜  :TiN,CrN,TiC 硬質酸化膜  :AI²...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 側面電極用イオンプレーティング装置(面実装小型部品対応) 製品画像

    側面電極用イオンプレーティング装置(面実装小型部品対応)

    小型電子部品(面実装タイプ)の側面電極形成をドライ化。PVD(イオンプ…

    端面のみに強い密着力で電極被膜を形成。Sn、Ni等の金属膜をハイスループットで形成。(酸化膜形成にも対応) 実績豊富なハードと独自の成膜プロセスで小型電子部品の生産プロセスのドライ化・低コスト化、安定生産に貢献いたします。...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

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