急速 | イプロスものづくり

PR畜糞を有機質肥料に。コスト削減事例や事例も掲載！※展示会出展情報有り

当カタログは、公害・汚染・環境破壊のない社会を創り、自然を守り地球上の多様な生命と永久の共生を提案する中部エコテックのカタログです。豚・鶏糞の急速発酵処理に適した「コンポSシリーズ」や「クリーンコンポ」堆肥をペレット化する「マスコン」などを掲載しています。【掲載製品】 ■エコリーフ ■コンポSシリーズ ■コンポDシリーズ ■国内最大級の容量のコンポ発売 ■堆肥のペレットマシン『マスコン...

メーカー・取り扱い企業：中部エコテック株式会社

廃棄太陽光パネルリサイクル装置『PVリサイクルハンマー設備』

PR廃棄太陽光パネルを１回の処理でほぼ完全にガラス、アルミ枠、バックシート…

太陽光パネルは、再生可能エネルギー電力の買取制度（FIT）、地産地消型の独立電源としての期待もあり、急速に普及しましたが、寿命や破損によって、廃棄量は最大年間約80万トン、約4,000万枚が排出されるとの試算もあります。『PVリサイクルハンマー設備』は、廃棄太陽光パネルをゴミとせず、新たな"資源"として再活用するリサイクル装置です。また、アルミ枠分離からガラス分離までの連続運転が可能になりま...

メーカー・取り扱い企業：株式会社タイガーチヨダ

非接触加熱技術を活用したIHはんだ付け装置

手はんだ工程を自動化へ！サイクルタイムの短縮や環境負荷の低減、さらには…

取り扱うIHはんだ付け装置をご紹介します。非接触ではんだ付けが可能な非接触狭局所ヒーティングを搭載。周囲のはんだ部を再溶融させることがありません。また、自動位置合わせ、大小端子の急速加熱、後熱処理が可能で、現在は、φ0.3～φ1.5までの端子に対応しています。【特長】 ■非接触狭局所ヒーティング ■周囲のはんだ部を再溶融させることがない ■定量はんだを実現 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社富山技販

IHはんだ付け装置　S-WAVE【はんだの品質改善や生産量UP】

『触れないはんだ付け』で高品質要求や量産に対応。非接触&局所加熱による…

案が可能です！【特長】 ■φ0.3～1.5mmの端子に対応 ■手はんだの自動化やサイクルタイム短縮に貢献 ■消耗品が少なく、省メンテ＆低ランニングコスト ■温まりにくい箇所も高出力で急速加熱 ■高精度で高速なはんだ付けが実現可能 ■自動位置合わせ、後熱処理が可能 ■廃棄はんだが出ず、消費電力も削減できるため低環境負荷 ■IH電源出力を制御し、加熱特性を1点1点自在に設定可能...

メーカー・取り扱い企業：株式会社富山技販

IHはんだ装置S-WAVE　デモ実演

IHはんだ装置を是非ご自身の目でご確認ください。当社にて実機を確認…

つながります。【特長】 ■φ0.3～1.5mmの端子に対応 ■手はんだの自動化やサイクルタイム短縮に貢献 ■消耗品が少なく、省メンテ＆低ランニングコスト ■温まりにくい箇所も高出力で急速加熱 ■高精度で高速なはんだ付けが実現可能 ■廃棄はんだを大幅削減このような特徴を持った装置を是非ご自身の目でご確認ください。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社富山技販

HumiSealなど防湿剤の乾燥に特化した急速乾燥炉の新機種

最大搬送幅460mm（Lサイズ基板）に対応！HumiSealなど防湿剤…

HumiSealなど防湿剤の急速乾燥炉として発売開始から多くのお客様に支持をいただいております【ELNAS-250】の新機種として、【ELNAS-460】の発売を開始することとなりました。【特徴】 ■最大搬送幅...

メーカー・取り扱い企業：アントム株式会社

特長的な基盤にも対応可能な3D局所加熱装置『S-WAVE』

時代のニーズに応え、進化する3つのラインアップ！3D局所加熱装置をご紹…

『S-WAVE』は、金属ベース基板をはじめ、セラミック基板から低耐熱部品まで対応する3D局所加熱装置です。狭いスポットを急速300℃加熱する「S-WAVE301A」高い連続運転性能を実現する「S-WAVE301」従来機種と比較し2倍の加熱力を実現する「S-WAVE301H」。時代のニーズに応え、進化する3...

メーカー・取り扱い企業：株式会社富山技販

3D局所加熱装置『S-WAVE301A』

狭いスポットを急速300℃加熱！ICNRP、電波法などの各種規制に対応

『S-WAVE301A』は、低消費電力で高い加熱効率を実現した 3D局所加熱装置です。スノーホール端子のはんだ付けに好適。両面基板をはじめ、片面基板やフレキシブル基板、低耐熱部品などに対応しております。また、輻射熱を抑え周辺部品への影響を抑制します。ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。【特長】 ■低消費電力で高い加熱効率を実現 ■スノーホール端子のはん...

メーカー・取り扱い企業：株式会社富山技販

IHはんだ付け装置『S-WAVE』で、廃棄はんだゼロ化を実現

廃棄はんだゼロ＋CO２削減で環境対策に！

2は排出されています。) ＜特長＞ ■消耗品が少ない為、省エネルギー ■非接触狭局所ヒーティング ■下からはんだ付け可能 ■省メンテ＆低ランニングコスト ■温まりにくい箇所も高出力で急速加熱 ■高精度で高速なはんだ付けが実現可能 ※詳しくはPDF資料をご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社富山技販

真空はんだ付け装置（真空リフロー装置）

インターネプコンにも出展！大型製品にも対応した新製品のご紹介＜サン…

【特長】１．N2・H2・蟻酸雰囲気でのリフローが可能２．H2・蟻酸の濃度コントロールにより良質な半田付けを実現３．低酸素濃度（5ppm以下）４．急速加熱・急速冷却だけでなく、ステップ加熱や徐冷にも対応５．バッチ〜中量生産産～大量産まで豊富なラインナップ【主仕様】処理寸法：W310×D320×H150mm（バッチ式）処理温度：...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

ERSA 自動局所噴流はんだ付け装置

世界トップシェアを誇るドイツERSA社セレクティブポイントディップ…

はんだ付け品質には変化はありません。プロペラ式ポンプの様な駆動部品がないため、ゆらぎがなく高精度な噴流制御が可能なうえ、ドロスの発生が少なくメンテナンス頻度が非常に少ないのが特徴です。噴流を急速落下させる独自のピールオフ制御によって、基板端面の狭ピッチパターンでも、オーバーランさせずにブリッジなくはんだを切る事ができます。多様なオプションも搭載可能です。...

メーカー・取り扱い企業：ダイナテックプラス株式会社

真空熱処理装置（ホットプレートタイプ）

急速昇降温が特徴の小型熱処理装置。有機基板の乾燥・脱ガス・ベーキングな…

急速加熱用熱板で３００ｍｍ□の基板の処理に対応。基板冷却機構により短時間・短タクト処理を実現。長時間の加熱によるダメージが問題となる基板に安定した加熱プロセスを提供。標準バッチタイプの評価を基にインラインタイプへのシステムアップが容易 ...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

スルーバッチ式簡易リフロー炉

卓上型の省スペースタイプながら大型コンベア式リフロー炉と同等性能を実現

特　徴・プロファイル作成が自由自在。・独自の加熱方式により急速昇温。高温半田にも対応。・準備時間、クールダウン時間を大幅短縮。余分な電力を使用しない省エネ設計です。・プリヒートゾーンを設け、生産タクトを大幅短縮。・スルーバッチ方式により大型コンベア...

メーカー・取り扱い企業： JMPエンジニアリング株式会社

Φ4対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-100

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『RTP-100』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能です。最大到達温度1200℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（...

メーカー・取り扱い企業：日精株式会社本社

真空・加圧リフロー炉『VPF300』《2023年モデル》

【技術資料付き】最大0.4MPaの加圧で、ボイド率を大幅低減。急速冷却…

4MPaまで加圧できるため、はんだ内部のボイド率を大幅に低減、高品質なはんだ付けを実現する真空・加圧リフロー炉です。チャンバー内の圧力や加熱温度など、ワーク毎にプロセス条件を設定でき、独自の急速冷却機能により、効率的な加熱・冷却が可能。また、ギ酸還元リフロー、フォーミングガスリフローに対応しており、フラックスレスのはんだ付けプロセスを構築することもできます。 2023年モデル...

メーカー・取り扱い企業：株式会社シンアペックス

新技術｜IHはんだ付け装置非接触＆誘導加熱によるはんだ付けを実現

非接触＆局所加熱で周辺部品の温度上昇を抑制。温まりにくい部品も熱に弱い…

つながります。【特長】 ■φ0.3～1.5mmの端子に対応 ■手はんだの自動化やサイクルタイム短縮に貢献 ■消耗品が少なく、省メンテ＆低ランニングコスト ■温まりにくい箇所も高出力で急速加熱 ■高精度で高速なはんだ付けが実現可能 ※詳しくはPDF資料をご覧ください。サンプル加工・デモ機による実演をご希望の方は、　お問い合わせフォームよりご連絡ください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社富山技販

コンベアシステム市場規模、シェア、成長、レポート

コンベアシステム市場は、2023－2035年の予測期間中に6.0％のC…

別の地点に材料を移動させる機械的処理装置です。製造、流通、包装、マテリアルハンドリング業界で使用され、効率を改善し、人件費を削減し、スループットを向上させます。当社の調査によると、eコマース業界の急速な成長は、eコマースの成長は、世界のコンベアシステム市場の主要な原動力です。eコマースが成長し続けるにつれて、効率的で信頼性の高いコンベヤシステムの需要が高まる可能性があり、コンベヤシステム業...

メーカー・取り扱い企業： SDKI Inc.

C(G)FRTP基材加熱・搬送システム

基材加熱・搬送の自動化対応技術！当社は成形機と共に自動化システムを提案…

当社の『C(G)FRTP基材加熱・搬送システム』についてご紹介いたします。基材加熱・搬送の自動化の要求ポイントとして、基材の急速加熱・均一加熱、加熱基材の積重ね機構や付着対策、高速搬送・高精度位置決めが挙げられます。当社は、近赤外線ヒータ加熱をはじめ、加熱炉多点温度制御、X-Yローダー＆保温ステーション、サー...

メーカー・取り扱い企業：株式会社佐藤鉄工所

量産用真空半田付装置（蟻酸対応タイプ）

ボイドレス半田付のスタンダード装置。車載用パワーデバイスモジュールを支…

急速昇降温機構と厳密な雰囲気制御機構を装備、半導体ウェハプロセスで実績のガス供給機構で安定した蟻酸野供給と管理を実現。半田付室の前後に基板搬送機構を追加。ハイスループットと高いレベルのボイドレス半田付を両立。基板・ライン構成・生産量に合わせて最適なハードを提供...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

セレクティブはんだ付け装置『SELBO-III』

多彩な機能を搭載！モジュールの増設、削減がフレキシブルに可能

スを行うノンストップシステム ■はんだ付けプログラム作成ソフトのFreedomをダイナトロン社と共同開発 ■出入口コンベアユニット ■2流体式ノズル又はエアロジェット式ノズルの搭載が可能 ■急速加熱ランプヒータにより予熱時間の短縮が可能 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社弘輝テック

小型スペースシミュレーション・チャンバー

省スペースのスペースシミュレーションチャンバーは宇宙空間における各種研…

・24"×43 "の水平円筒形チャンバー・急速な加熱・冷却時間・16"×32 "のサーマルプラットフォームは、-100℃から150℃までの温度範囲で±1℃以内に制御可能・密閉式冷凍システムの採用により、他のシステムで使用されている液体窒...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マツボー

リワーク装置「ERSA HR600 /2」

ドイツERSA社ダークIRヒーターの進化形！超高効率リワーク装置

クリックで実行し、ペースト印刷治具や転写治具を経由した動作も設定可能です。【特徴】 ○画像処理による全自動IC搭載 ○全自動IC取外し/再リフロー制御 ○コンプレッサーエアーによる基板急速冷却 ○1,000万画素高性能リフロー観察カメラ&LED照明 ○反り防止機能付き基板テーブル詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業：ダイナテックプラス株式会社

ERSA 自動局所噴流はんだ付け装置

世界トップシェアを誇るドイツERSA社セレクティブポイントディップ…

はんだ付け品質には変化はありません。プロペラ式ポンプの様な駆動部品がないため、ゆらぎがなく高精度な噴流制御が可能なうえ、ドロスの発生が少なくメンテナンス頻度が非常に少ないのが特徴です。噴流を急速落下させる独自のピールオフ制御によって、基板端面の狭ピッチパターンでも、オーバーランさせずにブリッジなくはんだを切る事ができます。多様なオプションも搭載可能です。...

メーカー・取り扱い企業：ダイナテックプラス株式会社

真空はんだ付け装置（真空リフロー装置）

国内実績No.1をもつ真空リフロー装置のスタンダード！＜サンプ…

【特長】１．N2・H2・蟻酸雰囲気でのリフローが可能２．H2・蟻酸の濃度コントロールにより良質な半田付けを実現３．低酸素濃度（5ppm以下）４．急速加熱・急速冷却だけでなく、ステップ加熱や徐冷にも対応５．バッチ〜中量生産産～大量産まで豊富なラインナップ【主仕様】処理寸法：W310×D320×H150mm（バッチ式）処理温度：...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

Φ12対応　高速アニール加熱システム VPO-1000-300

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『VPO-1000-300』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、卓上型真空プロセス高速加熱炉です。 Φ12インチ・Φ6インチ・4インチ対応、専用サセプタにより小片サンプルのプロセスも可能。最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。【特長】 ■窒素ガス、酸...

メーカー・取り扱い企業：日精株式会社本社

Φ6対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システムRTP-150

GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケ…

『RTP-150』は、業界最小クラス、研究開発及び試作開発に好適な、卓上型真空プロセス高速加熱炉です。最大到達温度1000℃で多彩なガスパージ環境に対応。 GaNやSiCなどの新材料の結晶成長やペースト材料の焼結など、多目的にお使い頂けます。【特長】 ■窒素ガス、酸素ガス、フォーミングガス（水素＋窒素）パージの他、　高濃度水素ガスパージにも対応 ■上下24本の...

メーカー・取り扱い企業：日精株式会社本社