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PRドライ真空ポンプは排気流路に油を用いず、オイルフリーでクリーンな排気を…
関西光量子科学研究所(木津)に、「X線計測実験真空容器用高真空排気 システム」を納入した事例をご紹介いたします。 本排気ユニットは、真空容器に直接取り付けられる300L/sクラスの磁気軸受形 ターボ分子ポンプTG390Mと、ピラニ型と冷陰極電離真空計の複合型真空計、 そしてそれらのコントローラと補助ポンプ等を載せたカートから成ります。 真空容器に取り付けるターボ分子ポンプは磁気軸...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社大阪真空機器製作所
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FOOMA JAPANに実機出展!世界で選ばれ続ける真空ポンプ
PR従来の油回転ポンプと比較し最大30%の省エネ(当社比)!まずは評価機で…
【製品説明】 世界で300万台以上のR5ロータリーベーン真空ポンプが使用されています。ブッシュのロータリーベーン技術が長きにわたり業界のスタンダードとして確固たる地位を築いてきた理由の一つが、その優れた堅牢性と信頼性です。R5 RDシリーズはその優れた特質を受け継いだ最新モデルです。 【特長】 ■ 高いエネルギー効率 従来のロータリーベーン真空ポンプと比較した場合、最大で30%の省エネを実現(...
メーカー・取り扱い企業: 日本ブッシュ株式会社
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原因の早期究明に役立ち、以前よりも信頼いただけるように!当社の製品事例…
装置メーカーの顧客サービス部が『PLAZMARK O2クリーニング用』を 導入した事例をご紹介いたします。 自社製真空プラズマ装置の排気パイプのシーリング部品の劣化が早過ぎると クレームを受け、不具合がないか原因究明を求められました。 そこでチャンバー内のプラズマの様子を確認するため、当製品を導入して 実験したところ、排気...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サクラクレパス PI事業部
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低価格な小型装置!
●シンプルな構造 - メンテナンス、点検が容易 - 電極(消耗品)を簡便に交換 ●均一性 - ハンディタイプのコロナ処理よりも均一 ●処理効率 - 真空プラズマ処理と比べ真空排気が不要 ●ランニングコスト - ガス供給なしで使用可能...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社チェッカーズ
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独自設計による高性能ハニカム触媒を使用し短納期を実現!不燃タイプで安心…
ラズマ洗浄装置の使用時に発生する オゾンの分解装置をスタンドアローンで低価格を実現。 高濃度オゾン除去用に開発されたハニカムオゾンフィルターを採用しており、 本装置一台でオゾンを分解でき、排気ダクトへの接続など面倒な作業が不要です。 【特長】 ■分解率を向上させた反応型触媒タイプのため劣化が少なく 寿命の長いフィルター ■不燃タイプで安心して使用できる ■コンパクトで、設...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社あすみ技研
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光学フイルム分野に好適!高い均一性とフィルムダメージレス(パーティクル…
【特長】 ■グロー放電処理 ■高い処理性能 ■真空不要の常圧プロセス ■対応幅:~2500mm ■処理速度:~100m/min ■Utility:電源、処理ガス(N2、CDA)、排気、冷却水 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 積水化学工業株式会社 P2事業推進部
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対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等!基板加熱機構付き(最高設定…
【仕様(抜粋)】 ■チャンバー材質:ステンレス製 ■到達真空度:1Pa以下 ■真空ポンプ:ロータリーポンプ+メカニカルブースターポンプ ■排気圧力コントロール:手動(オプションで自動可) ■成膜対象物:最大Φ100mm×500mm ■高周波出力:最大1kW ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社DINOVAC
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前処理:フィラーの前処理、焼成粉体の前処理 その他:ハイブリッドマテリ…
ト面の課題で実用化が難しかった工程の産業化を促進できる技術です。 魁半導体独自の大気圧粉体プラズマ処理には、 ・表面処理と分散を同時に行えるので処理時間が大幅に短縮できます。 ・大掛かりな真空排気ユニットが不要です。 ・粉体そのものの劣化がありません ・表面改質効果で一度処理した粉体の再分散も容易です。 などの優れた特徴があります。 粉体の受託加工も承ります。 グラファイトカー...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社魁半導体
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≪特許取得済の新技術≫高速局所加工できるマイクロプラズマ加工技術
【比較資料を無料進呈】深堀平坦加工や局所加工の効率化を実現!局所化プラ…
局所化プラズマにより深堀平坦加工や局所加工が可能となり、 半導体故障解析用試料の前処理時間の大幅な短縮を実現します! この技術を応用した局所プラズマ加工装置では、 反応生成物を直接排気できるので加工残渣の低減を可能とし、 さらに、基板表面にプロセスガスを吹き付けずに局所加工が行えます。 【進呈資料】 ■プラズマ源の比較資料(スポットプラズマの紹介) ■局所プラズマ加工...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三友製作所 テクノセンタ
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ピンポイントでプラズマ照射が可能!LCD端子清掃や電子部品封止前洗浄の…
CDAです。 【特長】 ■高いプロセス処理能力 ■低いランニングコスト ■コンパクト設計、軽い用力 ■局所的処理可能 ■処理幅:~10mm ■Utility:電源、ガス(Air)、排気 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 積水化学工業株式会社 P2事業推進部
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低温処理&電界遮蔽構造でダメージレス!LCD工場を始め数多くの生産工程…
目的で使用されます。 【特長】 ■ダメージレス ■高い処理性能 ■豊富なラインアップ ■実績多数 ■対応幅:160~3400mm ■Utility:電源、処理ガス(N2、CDA)、排気、冷却水 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 積水化学工業株式会社 P2事業推進部
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小片基板の濡れ性改善、密着性向上、表面改質に!実験用途に特化した大気圧…
だけます。 【特長】 ■小型装置 ■様々な処理に対応 ■実験用途に特化 ■対応サイズ:~A4(A4以上のサイズは別途ご相談下さい) ■Utility:電源、処理ガス(N2、CDA)、排気、冷却水 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 積水化学工業株式会社 P2事業推進部
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部分的な接着不良が起こる…、安全の為に溶剤を使わないで処理したい…等の…
【ノズル仕様】 ■回転式 (1本ノズル) ■回転式 マルチタイプ(2本ノズル) ■固定式 (1本ノズル) ■固定式 マルチタイプ(2本ノズル) ※コンプレッサーエアーが必要となります。 ※局所排気をおすすめしております。...
メーカー・取り扱い企業: AETP Japan合同会社
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物理蒸着(PVD)プラズマ源以外に、様々な化学的気相成長(CVD)プラ…
【特長】 ■連続移動する基板には容量結合ダイナミックPECVD ■連続供給シート、キャリア、またはロール・ツー・ロールプロセス ■側面に統合されたガス分布システム ■組込まれたプロセスガス排気システム ■自由な運転姿勢:上向き、下向き、垂直 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: フォンアルデンヌジャパン株式会社
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