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PR砥石寿命2倍 砥石切込み5倍 加工抵抗50%減 ファインバブルを…
ナノバブル発生装置 PANDORA(パンドラ)は製造業向けに大量のナノバブルとマイクロバブルを同時発生させる事が出来る装置です。 ナノバブルを現在お使いのクーラントに発生させる事により 冷却効果、洗浄効果を発揮し 飛躍的に砥石の寿命を延ばしたり、冷却性能を上げ寸法精度を向上させたり、 条件UPにて加工能率を向上させることが可能です。 是非、業界最多バブル量にて効果を実感下さい。...国内...
メーカー・取り扱い企業: 昌弘貿易株式会社 関西営業本部
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シングルチャンバーで各種洗浄からスピン乾燥まで完結。省スペース設計で研…
『1チャンバー型薬液スピン・スクラブ洗浄機』は、 高圧スプレーや超音波スプレー、薬液等の非接触洗浄、 ブラシ等の接触洗浄など、様々な組み合わせが可能な洗浄機です。 1つのチャンバーで洗浄からスピン乾燥まで完結し、 省スペース設...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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高圧パルスジェット DP-Gun マスク・ガラス・ウェハー洗浄に
同じ圧力なら水の使用量が1/3、同じ流量なら圧力が3倍、少ない流量で繰…
使用する水の量が少なく水膜のできにくい 既存装置にも後付可能な洗浄ノズルユニット 最大30Hzで駆動する洗浄ノズル 5〜10MPaの高圧水を発生させるポンプ コントロールユニットの組合せ 従来の連続スプレーは、自ら作った水膜の上からスプレーで圧力を加えており、洗浄力を上げる=圧力を上げる=流量が増え水膜も厚くなる、という傾向がありますが、DP-Gunは間欠スプレーのため、同じ圧力(=衝撃)でも...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置
ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…
ポリッシュ後の研磨スラリーをディスクスクラブ洗浄で除去し、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。 強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスクラブ洗浄も対応できます。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 :φ2”~φ4” 厚みについては応相...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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Siナゲット洗浄装置 専用バスケットで自動搬送 化学研磨・酸切・高品位…
本装置は、Siナゲットの洗浄を目的とした装置です。ワーク(Siナゲット)の入ったコンテナは本装置で専用の洗浄バスケットに移し替えられ、洗浄設備内に自動搬送されます。 その後、バスケットは化学研磨・酸切・高品位水洗の処理を通しワークは洗浄されます。このとき、洗浄バスケットを揺動して洗浄効率を向上しています。 洗浄後は乾燥専用バスケットに移され、150℃の温風で予備乾燥されます。 ...<主な仕...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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HDD用モーター部品(HUB・ケース等)の脱脂洗浄装置 構成例:洗剤+…
本装置はHDD用モーター部品(HUB・ケース等)を脱脂洗浄する装置です。 構成:洗剤+US(脱脂洗浄)→純水リンス+US→温風乾燥→真空乾燥 用途に合わせ製作致します...<主な仕様> 1.被洗浄物 : HDD用モーター部品(HUB・ケース等) 2.処理方法 : 専用バスケットによるDip処理 3.処理速度 : 2.5min(2kg×4バスケット) 4.パスライン : FL+...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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ファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用 / 50枚を一括処理 / …
<装置概要> 本装置はファイナルポリッシュ後の化学研磨工程で使用する装置です。特徴は25枚のWfの隙間に25枚を入れハーフピッチにし50枚を一括処理します。19nμm/5個の高清浄度を達成しています。...<主な仕様> 1.被洗浄物 : 300mm 厚み 0.75t 2.処理方法 : カセットレスによるDip処理 3.処理速度 : 50枚/5min(可変) 4.装置内清...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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小径ウェハ(LT・SiC等2〜6インチ)両面同時スクラブ洗浄装置
ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置!独自機構の表…
ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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各種マスクやガラス、ウェハー研磨後の洗浄に!1秒間に30回のノズル開閉…
使用する水の量が少なく水膜のできにくい 既存装置にも後付可能な洗浄ノズルユニット 最大30Hzで駆動する洗浄ノズル 5〜10MPaの高圧水を発生させるポンプ コントロールユニットの組合せ 従来の連続スプレーは、自ら作った水膜の上からスプレーで圧力を加えており、洗浄力を上げる=圧力を上げる=流量が増え水膜も厚くなる、という傾向がありますが、DP-Gunは間欠スプレーのため、同じ圧力(=衝撃)でも...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
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