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PR裏面や内層材の影響を受けずに銅の膜厚を測定
【SR-SCOPE DMP30】は、プリント回路基板上の銅の厚さを迅速かつ高精度に非破壊で、基板裏面にある銅層の影響を受けずに測定することができる電気抵抗式の膜厚測定器。堅牢で近代的な新しいデザイン、デジタルプローブと新しいアプリケーションソフトウェアにより、プリント基板表面の銅の膜厚測定に好適。保護等級IP64のアルミ製の筐体、落下などから筐体を保護するソフトバンパー、強化ガラスの液晶ディスプレ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フィッシャー・インストルメンツ
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セラミックス製 超精密測定器具【各種器具・冶具カスタマイズ可能】
PR製造現場の基準を決定する超精密測定器具!高硬度のセラミックス製なので経…
セラミックス製の超精密測定器具は『剛性に優れたわみにくい』『硬く、耐摩耗性に優れる』『温度による寸法が少ない』『耐食性に優れ、化学薬品に強い』『軽量』などのセラミックスの特性を活かし、直角度、平行度などをμ単位で超精密加工した直定規、四直角マスター、三次元セラマスターをお届けします。 各種冶具をはじめ、お客様の測定現場に合わせたカスタマイズも受け賜ります。 ※詳しくはお問い合わせいただくか...
メーカー・取り扱い企業: 新東Vセラックス株式会社
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大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置!
HiPP-Labは、大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置をさします。 差動排気システムを用いて大気圧に近いレベルでの測定環境下で試料の測定が可能となり 今まで測定出来なかった環境制御下における次世代のXPS装置です。 ...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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ARPESでのXPS観察・測定に!次世代のARPES測定装置の紹介です…
ARPES-Lab (ARPES光電子分光分析システム)、XPS観察・測定に使用される装置です。 【用途】 ARPESでのXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The ARPES-Lab brings together the world le...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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直径10mmの電子銃が、影面積を最小限に抑えてLEEDパターン像を取得
『LEED』は、OCI社製の低速電子線回折測定が出来る装置です。 当製品の電子銃は直径10mmで、スクリーンの視野が広く、電子銃による 影面積を最小限に抑えてLEEDパターン像を取得することができます。 また、レンズ部分をシリンダー構...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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"A window to the bulk" 、"ビームタイムをお手元…
入している、次世代の光電子分光(XPS)の一つです。ビームラインより、膜の下地や埋もれた界面、通常のXPSでは届かない深い内殻軌道の情報が得られる手法として注目されています。従来では放射光施設でのみ測定出来たこの手法をお手元のラボにこのシステムを置くことで、表面の情報だけではなく、バルクの情報も得られる次世代の光電子分光測定が可能となります。...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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光電子分光関連装置~超高真空技術を駆使した走査型トンネル顕微鏡(STM…
ボ型硬X線光電子分光分析システム(放射光施設でのみ可能であった硬X線光電子分光がラボでも使用可能に!) 2) HiPP Lab 環境制御型X線光電子分光分析システム(大気圧レベルの圧力での測定を可能にしたXPS分析装置) 3) ARPES XPS観察・測定に使用される装置 4) MBE Systems 真空蒸着装置 5) STM/AFM 冷却加熱系を備えた走...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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極低温環境における走査トンネル顕微鏡の紹介
LT STM(極低温走査トンネル顕微鏡)とは、極低温環境における走査トンネル顕微鏡をさします。 多数の販売実績のある装置で、5K以下の極低温でのSTM測定が可能な装置です。 【用途】 極低温環境におけるナノ領域のSTM観察・測定 【特長】※英語表記です。 ●Increased hold time to >65h at same per...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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冷却加熱系を備えた走査トンネル顕微鏡の紹介です。
VT-STM/AFM (温度可変型走査トンネル顕微鏡)は、冷却加熱系を備えた走査トンネル顕微鏡をさします。 低温から高温までの幅広い温度帯のSTM測定が可能のため、ナノ領域(低温から高温まで)のSTM観察・測定にご利用いただけます。 ※詳細はお問い合わせいただくか、PDF資料をダウンロードしてください。 ...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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放射光施設でのみ可能であった硬X線光電子分光がラボでも使用可能に!
可能だった硬X線の使用が可能になりました。 Ga ka単色化線源により9.25keV励起による高分解能硬X線光電子分光を実現いたしました。 【用途】 表面より深い領域での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 HAXPES-Lab is designed to allow hard X-ray photoelectron spectroscopy (HAXPES)...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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様々なタイプの複合型分析装置をご用意しております
超高真空排気装置 ○複合型分析用超高真空排気装置 MULTISCAN LAB、NanoSAM →SEM/SAM/STM/AFM超高真空排気装置 ○UHV NANOPROBE →UHV中4端子測定法 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: シエンタ オミクロン株式会社
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