コリオリ式マスフローコントローラ/メータ　Quantimシリーズ

PRコリオリ式微小流量の測定と制御の業界標準！幅広い流量レンジで液体・ガス…

『Quantimシリーズ』は、微小流量のガス/流体測定や制御において、高い 精度とゼロ安定性を実現するコリオリ式マスフローコントローラ/メータです。 特許取得済みのコリオリ式センサは、流体のタイプやプロセス変動に関係なく、 低流量の測定が可能。 その結果、条件が変化する場合でも、精度、安定性、繰り返し性、再現性の 高いマスフロー測定と制御を実現し、卓越したパフォーマンスを提供しま...

メーカー・取り扱い企業： ITWジャパン株式会社

【サンプル提供可能！】シリコンフォームシート「ハマガスフォーム」

PR広範囲での使用を可能にした、環境に配慮したシリコンフォームシート！

『ハマガスフォーム』は、液状シリコーンゴムの発泡体で 断熱、遮音、耐熱、難燃性において、優れた特性をもつシートです。 －40℃～180℃迄、短時間なら200℃まで物性に変化がないので安心 して使用できます。撥水性にも優れているため、グラスウール、 ウレタンフォームに比べ長期断熱性がよいです。 また、フロン、炭酸ガス等地球環境問題になるものは一切使用して おらず、万一燃焼してもハ...

メーカー・取り扱い企業： 浜松ガスケット株式会社

活性化アニール炉『VF-3000H』

R&D～量産まで使用可能！3～6インチウェーハ対応の自動搬送搭載縦型炉

す。 ハードウェアと制御システムの内容を厳選し、R&D用途から量産ラインにまで お使いいただけます。 また、活性化後の炭化除去も可能な「VF-5100」もご用意しております。 【特長】 ■ミニバッチ、50枚処理、R&Dから量産ラインに対応 ■3～6インチまで幅広いウェーハサイズに対応 ■炉内は当社独自のメタルフリー構造 ■ウェーハ近傍の温度モニターが可能 ■N2ロード...

メーカー・取り扱い企業： 光洋サーモシステム株式会社 営業管理部

アニール機

遠赤外線で各種材質のアニールが可能！複雑形状品、異形材質構成に対応でき…

定、物質値の向上に好適な遠赤外線のアニール機です。 各種材質、形状に対応。熱可塑性、熱硬化性に至り、 各種材質のアニールが可能です。 複雑形状品、異形材質構成に対応できます。 【特長】 ■各種アニール目的に対応 ■成形品残留歪みの除去、成形後の寸法安定、物質値の向上 ■各種材質、形状に対応 ■熱可塑性、熱硬化性に至る ■複雑形状品、異形材質構成に対応できる ※詳...

メーカー・取り扱い企業： 太陽フロロ株式会社

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』

ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能！クオーツ製チューブ型チャ…

は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。 また、マスフローコントローラーは最大8、ターボポンプ搭載可能です。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大50mm径基板対応 ■最大成膜温度：1100℃(ランプ加熱方式) ■最大6x DLI気化器を搭載可能 ■マスフローコントローラー：最大8 ■クオーツ製チューブ型チャンバー ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

連続アニール炉

遠赤外線ヒーターと均一加熱方式を採用した連続搬送タイプのアニール炉

当社製の遠赤外線ヒーターと均一加熱方式を採用した連続搬送タイプのアニール炉です。 処理時間の大幅短縮、コストダウン、インライン化に最適です。 （特長） ●早い加熱処理 　例その１：自動車ヘッドランプ　溶着後の歪除去　６０分⇒５分 　例その２：ＩＣトレー　射出成形後の寸法安定　２４０分⇒６分 　例その３：人工透析器　射出成形後の内部歪除去...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部　東京営業所

RTP装置『AS-Premium』

最大156mm×156mm基板対応！真空又は大気搬送装置及びロードロッ…

アニール処理後急速冷却機構(上部ランプ加熱式のみ)で、 低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーターとなっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大156mm×156mm基板対応 ■低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター ■アニール処理後急速冷却機構(上部ランプ加熱式のみ) ■大気・真空下プロセス対応 ■ターボ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

RTP装置『AS-Master 200』

ターボポンプ搭載可能！低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメー…

加熱式)しており、 真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能。 また、大気・真空下プロセスに対応しており、ターボポンプ搭載可能。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式) ■低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター ■アニール処理後急速冷却機構 ■大気・真空下プロセス対応 ■ターボポンプ搭載...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

真空ガス置換電気炉

真空・不活性ガス雰囲気下で研究・実験できる卓上型電気炉です。 サンプル…

特長 ●温度制御範囲は室温～1100℃（常用1000℃） ●炉内真空に対応 ●不活性ガスの封入が可能 ●サンプルステージは操作性に優れた昇降式 ●プログラム運転による温度制御...

メーカー・取り扱い企業： ハイソル株式会社

単線用バット溶接機（DSシリーズ）【IDEAL社】

創立97年を誇るMade in Germany電気溶接機！！　　ヘビー…

【特長】 ◇どのオペレーター様でも操作が簡単 ◇シンプルな機械設計かつ直観的操作を備えた頑丈で耐久性のある装置 ◇通電する距離（ワイヤーが溶け込む量）・バネの押圧力・ジョー間距離の溶接条件を個別に設...

メーカー・取り扱い企業： 東邦インターナショナル株式会社 本社

横型水素アニール装置（可変雰囲気熱処理装置）

小径ウェハ（４インチ）や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセ…

ハまで対応。 水素雰囲気還元熱処理に加え高真空アニールや減圧中ガスフロー熱処理等各種モードの処理が可能。 社内実験機で大気圧水素アニールにテスト対応可能。 柔軟なハード対応と細やかなサポートが特長のニッチプロセス用アニール装置。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

『フラックス「ポタ落ち」おまもりフィルター』

基板にポタっと落ちるフラックスをキャッチ！廃棄基板の削減に。繰り返し使…

』は、リフロー炉内などで 基板にフラックスが落下するのを防ぎ、不良率の低減に貢献する製品です。 搬送レールの上に設置するだけで簡単に取り付けられ、 洗浄後は繰り返し使用できます。 【特長】 ■最大98％の気孔率を持つ多孔質金属体で落下してきたフラックスを捕捉 ■溶剤を拭き取る手間も削減可能 ■専用の洗浄液をご用意 ■実用新案登録（登録第3216737号） ※「PDFダ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トーヨーコーポレーション

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロセス特有の元素抜けを軽減 ■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能 ■優れた基板温度分布およびガス...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

鋸刃用フラッシュバット溶接機【IDEAL社】

創立97年を誇るMade in Germany電気溶接機！！　　ヘビー…

【特長】 ◇小型で使いやすい卓上タイプからご用意あり ◇大型フラッシュバット溶接機BAS300シリーズはPLC制御による溶接から焼鈍までの一連作業を自動化 ◇多品種、多サイズを製造されても安定した作...

メーカー・取り扱い企業： 東邦インターナショナル株式会社 本社

石英ガラス 高純度アニール炉

熱源はSiCヒーターを採用！高いクリーン性能を実現した高純度アニール炉

ステンレス炉体と高純度断熱材を採用し、高いクリーン性能を実現。 処理製品の大口径化、長尺化に対応するべく炉体の大型化を進めており、 お客様のご要望に応じて専用設計いたします。 【特長】 ■ステンレス炉体と高純度断熱材を採用し、高いクリーン性能を実現 ■熱源はSiCヒーターを採用し温度分布性能の向上を図る ■対象製品の大きさに合わせて専用設計が可能 ※詳しくはPDF資...

メーカー・取り扱い企業： アドバンエンジ株式会社

光焼成装置『PulseForge』【瞬間的に加熱、 乾燥、焼成】

耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥、焼成する光焼成装置…

のみを瞬間的に加熱し、乾燥、焼成させる装置です。材料の速乾、伝導性・密着性の改善にも効果があり、高出力・短パルス照射にて、耐熱性が低い基板でもダメージなく、表面部だけを乾燥・焼成できます。 【特長】 ■自由なパルスシーケンス形成 ■独自ビーム形成技術によりダメージなく乾燥、焼成可能 ■独自開発のソフトにて事前に処理結果を予見可能（独自設計ツールSimPulse） ■R&Dから迅速な量...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ハイテク

各種成膜・アニール装置

ニーズに合わせたラインアップ！成膜装置や、ランプ加熱によるアニール装置

ズに合わせて、成膜装置や ランプ加熱によるアニール装置を設計・製作します。 縦型LP-CVD装置、縦型アニール装置、PE-CVD装置、 MO-CVD装置をラインアップしています。 【特長】 ■ニーズに合わせた設計・製作 ■成膜装置やランプ加熱によるアニール装置 ■多様なラインアップ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社

真空ガス置換オーブン

Class 1のクリーンな環境で複数枚のウェハを加熱処理 最大450…

制御レシピを設定できます。 また、クラス1のクリーンな環境で、温度安定性の高い加熱処理を実現しました。 1×10-5 Torrの高真空に対応したモデルもあります。 (450PB-HV) 【特長】 ・Class 1のクリーンな環境で加熱処理 ・最大450℃加熱、高い温度安定性 ・チャンバー内酸素を確実に除去 　(酸素濃度 10ppm以下、酸素濃度モニタ オプション有り) ・特許...

メーカー・取り扱い企業： ハイソル株式会社

【開発事例】各種磁性材料・機能性材料向け設備

フリーとしながらも優れた磁気特性を実現する異方性希土類鉄系焼結磁石など…

【開発製品特長】 ■等方性希土類鉄系ボンド磁石用磁粉 　・独自のナノ結晶化技術により低希土類含有濃度ながら優れた磁気特性を実現 　・低コスト化、耐食性改善(幅広い応用分野へ適用可能) ■フラッシュアニール...

メーカー・取り扱い企業： BIZYME有限会社

電線・ケーブル製造装置『プラズマアニーラー』

ウォームアップ/クーリングダウン時間なし。高品質な連続アニール処理が可…

、ウォームアップ/クーリングダウン時間は ありません。 小規模設備、低電力で、イニシャルコスト・ランニングコストが リーズナブルです。 また、メンテナンスコストも抑えられます。 【特長】 ■高出力アニーリング ■イニシャルコスト・ランニングコストがリーズナブル ■メンテナンスコストが低い ■小規模設備、低電力 ■ウォームアップ/クーリングダウン時間なし ■品質管理機能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社

RTP装置『AS-One 100/150』

アニール処理後急速冷却機構！Annealsys社の高速熱処理装置をご紹…

』は、大気・真空下プロセス対応のRTP装置です。 ターボポンプを搭載可能で、マスフローコントローラーは最大5と なっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■アニール処理後急速冷却機構 ■大気・真空下プロセス対応 ■ターボポンプ搭載可能 ■マスフローコントローラー：最大5 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

小型遠赤外線アニール炉

携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉

携帯電話部品・車載品など小型部品のアニール処理に最適な連続加熱炉です。 （特長） ●遠赤外線の持つ浸透力により、処理時間の短縮が可能。バッチ炉120分⇒１０分以下 ●高精度な温度分布が可能。温度精度±３℃ ●省スペース化が可能。従来連続炉の３０％ ●前後装置の導入によ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノリタケカンパニー リミテド エンジニアリング事業部　東京営業所

【アルミ旋盤加工・アルミ精密切削】

旋盤加工／アルミ加工／精密部品加工

C旋盤・NCフライス・マシニングセンタ 　・放電加工・レーザー加工・板金・製缶 【拠点】 大阪府守口市　フィリール株式会社　本社 ベトナム(ホーチミン)　フィリールベトナム工場 【特長】 ■国内工場での徹底した検査、品質管理 ■表面処理は、国内での対応 ■安定品質をリーズナブルな価格で実現 ■各週航空便使用により短納期の対応 ■各種証明書の発行もOK ■１個から量産ま...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

【切削加工・アルミ加工】

切削加工/金属加工

C旋盤・NCフライス・マシニングセンタ 　・放電加工・レーザー加工・板金・製缶 【拠点】 大阪府守口市　フィリール株式会社　本社 ベトナム(ホーチミン)　フィリールベトナム工場 【特長】 ■国内工場での徹底した検査、品質管理 ■表面処理は、国内での対応 ■安定品質をリーズナブルな価格で実現 ■各週航空便使用により短納期の対応 ■各種証明書の発行もOK ■１個から量産ま...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

す。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能 ■優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現 ■トレイ搬送にも対...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社