絞り込み条件
製品分類
メーカー・取扱い企業
  • 溶接ヒューム回収に！局所排気装置に好適な難燃性耐熱ホース！ 製品画像

    溶接ヒューム回収に！局所排気装置に好適な難燃性耐熱ホース！

    PR難燃性・屈曲性に優れた高機能耐熱ホース（最高1,100℃）は、プラズマ…

    弊社ドイツ製高機能耐熱ホースは、125℃～最高1,100℃に対応可能な約20種類の豊富なラインナップがございます。 中でも難燃性・屈曲性・耐久性に優れた耐熱ホース製品は、プラズマ切断機、ガス切断機、溶接ロボットのヒューム回収用で実績があります。 その他、フレキシブル性に富んだ高温排気ガス抽出用ホースもご用意をしています！ 【実現できること】 ◎ヒューム吸引用の塩ビ（PVC）ダクトホース...

    メーカー・取り扱い企業： エフ・アイ・ティー・パシフィック株式会社

  • SDカード/MicroSDカード　～仕様一覧・課題解決事例進呈～ 製品画像

    SDカード/MicroSDカード　～仕様一覧・課題解決事例進呈～

    PR自社F/Wと高い解析能力を活用し高品質を維持しています。お客様に好適な…

    『GT02/GT04シリーズ』は高い解析能力と高品質を維持した「SDカード/MicroSDカード」です。 [GT02] 従来の製品と比較し、速度を遥かに向上させた製品で、ラズベリーパイ・車載機器・産業機器分野などで多数の採用実績があります。 →従来品と比較し、2倍以上にする事により、速度の下げ幅を軽減させています。 製品ラインナップ：16GB～256GB U1/U3 [GT04]...

    メーカー・取り扱い企業： GTS株式会社

  • 実験用ドライエッチング、成膜装置 製品画像

    実験用ドライエッチング、成膜装置

    ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対応…

    当社は汎用性の高いエッチング装置や、低温低圧条件でも緻密に成膜できる堆積式の成膜装置を取り揃えております。 【ドライエッチング機種（一例）】 Pishowシリーズ： ■シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能 ■幅広い温度の工程に対応可能 ■エッチングの速度と均一性を精密制御 ■BOSOH工程に対応可能 【成膜機種（一例）】 Shale Cシリーズ： ■IC...

    メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

  • ドライエッチング装置 製品画像

    ドライエッチング装置

    MRAM用ドライエッチング装置！

    反応性イオンエッチング装置(RIE)、誘導結合プラズマ (ICP)エッチング装置、イオンビームエッチング装置(IBE)等のドライエッチング装置など各種取り揃えております。...RIE、IBE、PECVDチャンバーを一つの真空制御装置に統合など各種カスタマイズも対応可能。 ご要望・お見積もりなど、お気軽にご相談ください。...

    メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

  • Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ 製品画像

    Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

    経済性に優れた高精度ラバーシール

    半導体、FPD、データ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐...

    メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

  • 『流路まるごと事例集』排気ラインの副生成物対策 ※無料進呈中 製品画像

    『流路まるごと事例集』排気ラインの副生成物対策 ※無料進呈中

    除害装置前段やCVD排気ラインの副生成物対応にお困りの方必見！ 高温…

    大手バルブメーカーKITZグループの一員である当社は、⽇々進化するエレクトロニクス産業おいてタイムリーな提案こそがお客様にとっての価値と考え、新製品開発とサービス向上に取り組み、お客様と共に成⻑を⽬指します。 CVDやMOCVDの後段、除害装置の前段での副生成物の堆積に起因するトラブルにお悩みではないでしょうか。 KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行って...

    メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

  • 電子グレードCVD 製品画像

    電子グレードCVD

    横の許容は+0.2/0-0mm、厚さの許容は+/-0.05mm！電子グ…

    ダイヤモンド合成のCVD法の目覚ましい進歩により、放射線検出に適した 特性を持つダイヤモンドを定常的に製造することが可能になりました。 CVD法の継続的な改善により、将来的にはエキサイティングな進歩を遂げ、 大面積のホモエピタキシャル成長単結晶ダイヤモンドプレート/フィルムを 提供しています。 CVDダイヤモンドが示す有望な結果により、RFダイオード、BJT、FET、MEMS、 ...

    メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

  • 実験用ドライエッチング、成膜装置 製品画像

    実験用ドライエッチング、成膜装置

    ヨーロッパ 発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対…

    ・ドライエッチング機種 Pishowシリーズ： シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能； 幅広く温度の工程に対応可能； エッチングの速度と均一性を精密制御； BOSOH工程に対応可能 ・成膜機種 Shale Cシリーズ： ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） 低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える ...

    メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

1〜6 件 / 全 6 件
表示件数
30件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 4校_0513_tsubakimoto_300_300_226979.jpg
  • bnr_2403_300x300m_ur-dg2_dz_ja_33566.png

PR