• ばね入りCリング・メタルシール『ヘリコフレックスシール』 製品画像

    ばね入りCリング・メタルシール『ヘリコフレックスシール』

    PR非常に優れた許容漏れ量と耐食性!お客様の用途に沿うシール特性にカスタマ…

    『HELICOFLEXヘリコフレックスシール』は、フランス原子力庁(CEA)と 共同で開発された、弾性を持つばね入りCリング・メタルシールです。 本製品の驚くべきパフォーマンスは、原子力、航空宇宙、高真空分野、 石油精製/化学、ガスやその他一般産業等の市場において長年の研究開発、 実験や実用における結果です。 柔軟な設計対応で、お客様のご用途に沿うシール特性にカスタマイズした製品を提供します。...

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    メーカー・取り扱い企業: テクネティクス・グループ・ジャパン株式会社

  • 【FOOMA2024出展】オートフィーダー直結タイプ_粉体供給機 製品画像

    【FOOMA2024出展】オートフィーダー直結タイプ_粉体供給機

    PRオイルレス、工具レスでメンテナンス性抜群!

    従来のフンケンオートフィーダーに搭載されているベルトユニットを省くことで、ベルトカスが発生せず、オイル不要の構造としました。 ≪特徴≫ ・工具レスの簡易分解仕様で、分解時間の短縮&メンテナンス性が向上。 ・各部品のクリアランスは調整不要のため部品交換が簡単。 ・モーター直結のため省スペース。 ・モーターへの電動効率が上がるため、消費電力を抑えます。 ・消耗品を削減できるため、廃...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社粉研パウテックス 東京営業部

  • 静止空気より優れた断熱性能!高性能断熱材のメリットを解説 製品画像

    静止空気より優れた断熱性能!高性能断熱材のメリットを解説

    なぜ断熱材『シルサーム』を導入するのか?そのメリットを解説します。

    ム断熱材』を原料から最終製品まで、一貫して製造しております。 『シルサーム断熱材』の特徴 ■ ヒュームドシリカを原料とした断熱材 ■ ナノ粒子による微細な多孔質構造体 ■ 最高1600℃用途で使用可能 ■ 従来の断熱材より5~10倍の断熱性能 『シルサーム』を導入するメリット ■ 断熱改善によりCO2削減 ■ 省エネ性向上による燃料費削減 ■ 熱効率の最適化による歩留まり...

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    メーカー・取り扱い企業: シルサーム・ジャパン株式会社

  • 大型真空オーブン 製品画像

    大型真空オーブン

     高真空でも大気圧でも均一加熱、安定加熱 乾燥・脱ガス・ベーキング・ア…

    800mm□×800mmH/バッチの大量処理が可能な多用途対応の真空オーブン。 高真空処理・真空置換後の不活性大気圧処理、低真空ガスフロー処理、複数の処理モードを1台で実現。 高真空中の均一加熱で脱ガス・ベーキング。 低真空・ガスフロー雰囲気で脱泡・...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 水素雰囲気コンベア炉(還元雰囲気連続熱処理装置) 製品画像

    水素雰囲気コンベア炉(還元雰囲気連続熱処理装置)

    豊富な実績を誇るベストセラータイプ、高温半田付やペースト焼成・金属粒子…

    応のCtoCタイプでシステムLSIのウェハバンプのリフロー工程もカバー 従来の半田付・ロー付・ペースト焼成工程だけでなく次世代接合材(金属ナノペースト)の燒結接合にも実績対応。 デモ機を常設し各用途の初期テストから量産まで確実にサポート。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 縦型真空アニール装置 製品画像

    縦型真空アニール装置

    ウェハプロセス対応 本格量産システム アニール・シンター・ポリイミドキ…

    Siウェハへの対応を基本とし各種基板・用途に柔軟に対応カスタマイズ サファイア、石英、ガラス、PCB等多用途対応。 雰囲気も真空(低真空・高真空)不活性(N2,Ar)酸化、還元(H2,フォーミングガス)等豊富な実績機能より選択可能。...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • スーパータル シングルウェハーリアクター 製品画像

    スーパータル シングルウェハーリアクター

    電子・半導体業界用!1枚のウェハー製造用ヒーターモジュール

    従来のシリコンデバイス用途のみならず、シリコン系パワーデバイス(IGBT)の熱処理用途や化合物半導体(GaN、SiC)のアニール処理、エピ成長装置としてご検討下さい。 ...

    メーカー・取り扱い企業: アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー

  • 水素アニール装置(電子デバイス用、サンプルテスト対応中) 製品画像

    水素アニール装置(電子デバイス用、サンプルテスト対応中)

    大気圧水素雰囲気中で均一加熱、。薄膜・ウェハ・化合物・セラミック基板、…

    体基板の熱処理(べーく・アニール)に最適。 実績と経験に支えられた信頼性の高いハード構成で安全性も確保 電極・配線膜の高品質化に、高融点金属膜の抵抗値・応力制御に研磨後のウェハの終端処理に、特殊用途の熱処理に多くの実績を元に初期段階からテストを含めて対応...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 化合物半導体用電極膜アニール装置(可変雰囲気熱処理装置) 製品画像

    化合物半導体用電極膜アニール装置(可変雰囲気熱処理装置)

    化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのア…

    横型石英管タイプを標準とし400~1000℃程度の加熱に対応しています。 4~6インチウェハの本格量産用途に対応した縦型タイプ(ウェハ自動搬送機構付)と4インチ以下のウェハに対応した横型タイプの2機種をラインナップ。 目的に合わせて開閉型の加熱炉体や急冷用空冷ファンの装備が可能で、高真空排気系・O2ガ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 単線用バット溶接機(DSシリーズ)【IDEAL社】 製品画像

    単線用バット溶接機(DSシリーズ)【IDEAL社】

    創立97年を誇るMade in Germany電気溶接機!!  ヘビー…

    む量)・バネの押圧力・ジョー間距離の溶接条件を個別に設定可能 ◇突合せ溶接を高めるデュアルフォース溶接(DD)をオプションあり ◇ミドルカーボン/ハイカーボン線の溶接に必要なアニール装置を  用途に応じて選択可能。 ・EGV:ボリュームスイッチにてアニール電流を無段階に調整する事ができ、自動オフするタイマー付き ・GSR:サイリスタ自動焼鈍+サイリスタ温度計付で、温度1、温度2、温度3 ...

    メーカー・取り扱い企業: 東邦インターナショナル株式会社 本社

  • 横型水素アニール装置(可変雰囲気熱処理装置) 製品画像

    横型水素アニール装置(可変雰囲気熱処理装置)

    小径ウェハ(4インチ)や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセ…

    化合物半導体のエピタキシャル層や研磨後のSiウェハのアニールなど特殊な用途に対応した専用アニール装置。 高真空排気後に大気圧まで水素のみで雰囲気置換を実施、高純度還元雰囲気中で高温(1000℃)均一加熱 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ポリイミドキュア装置(300mmウェハ対応 クリーンベーク装置) 製品画像

    ポリイミドキュア装置(300mmウェハ対応 クリーンベーク装置)

    300mmウェハ対応ポリイミドキュア、ベーキング、低温アニール、多層基…

    素雰囲気中で熱風加熱。温度均一性とクリーンネスを両立。先端デバイスの量産ラインで採用実績豊富な高信頼性装置。 半導体用ポリイミドキュアだけでなくフレキシブル基板ベーク・太陽電池セルアニール等幅広い用途に対応。 オプションにて高真空タイプ。高温処理タイプ対応。 ウェハプロセス対応の石英管型CtoCタイプもラインアップ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 真空熱処理装置(ホットプレートタイプ) 製品画像

    真空熱処理装置(ホットプレートタイプ)

    急速昇降温が特徴の小型熱処理装置。有機基板の乾燥・脱ガス・ベーキングな…

    実績豊富な真空半田付装置の基本構成を応用。半田付用の熱板加熱で高速熱処理。 高密度実装基板・プリント板の成膜前の脱ガス・乾燥。セラミックス材料の乾燥など多用途に最適。 太陽電池セルの低温べ―クや薄膜のアニールにも有効でインライン化にも対応。...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 2,000℃を超えるカーボン加熱炉の開発・設計・試作支援 製品画像

    2,000℃を超えるカーボン加熱炉の開発・設計・試作支援

    光ファイバの線引炉やガラス化炉で30年の実績がある加熱炉・加熱システム…

    カーボンヒータ加熱システムの設計技術の概要 以下の5以降は具体的な事例(目的や用途、サイズなど)で設計は変わります。 1.加熱炉の筐体など主要部品の設計・溶接設計・検査方法 2.水路設計 3.簡易熱計算(電源容量、断熱材、冷却水量などの設計) 4.カーボンヒータの抵抗値の...

    メーカー・取り扱い企業: プロセスD&Tラボ 千葉

  • 加圧RTA装置 製品画像

    加圧RTA装置

    基板加熱温度最高1000℃!基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減!

    ことができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロセス特有の元素抜けを軽減 ■減圧プロセスから加圧プロセス(0.9MPaG)まで対応...

    メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社

  • 活性化アニール炉『VF-3000H』 製品画像

    活性化アニール炉『VF-3000H』

    R&D~量産まで使用可能!3~6インチウェーハ対応の自動搬送搭載縦型炉

    ス製造に適した 活性化アニール炉です。 ミニバッチ、50枚の処理が可能で、3インチ~6インチまで幅広い ウェーハサイズに対応します。 ハードウェアと制御システムの内容を厳選し、R&D用途から量産ラインにまで お使いいただけます。 また、活性化後の炭化除去も可能な「VF-5100」もご用意しております。 【特長】 ■ミニバッチ、50枚処理、R&Dから量産ラインに対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: 光洋サーモシステム株式会社 営業管理部

  • 高出力円筒形ヒーターモジュール スパータルSMU 製品画像

    高出力円筒形ヒーターモジュール スパータルSMU

    発熱体最高使用温度:1550℃!モジュールヒーター

    形状は、シリンダータイプで径、長さはカスタマイズ可能 ■SMUが提供できる機能 ・急速な昇降温  ・正確な温度プロファイル ・長寿命 ・高出力での局部加熱 ・設置、交換の容易性 ・特殊用途向けユニット ■詳細は、お問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー

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