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20件 - メーカー・取り扱い企業
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コリオリ式マスフローコントローラ/メータ Quantimシリーズ
PRコリオリ式微小流量の測定と制御の業界標準！幅広い流量レンジで液体・ガス…
『Quantimシリーズ』は、微小流量のガス/流体測定や制御において、高い 精度とゼロ安定性を実現するコリオリ式マスフローコントローラ/メータです。 特許取得済みのコリオリ式センサは、流体のタイプやプロセス変動に関係なく、 低流量の測定が可能。 その結果、条件が変化する場合でも、精度、安定性、繰り返し性、再現性の 高いマスフロー測定と制御を実現し、卓越したパフォーマンスを提供しま...
メーカー・取り扱い企業： ITWジャパン株式会社
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PR溶剤の有効成分の回収！運転やバルブ操作は、空気圧や窒素圧による遠隔操作…
本装置は、廃溶剤液から水分や不純物を除去し、溶剤の有効成分の回収を行う装置です。 【特長】 ■溶剤のリサイクル、廃液処理のコスト削減 ■空気圧・窒素ガスによる遠隔操作方式の為、高い安全性確保 ■連続減圧蒸留方式で蒸留ユニットは防爆仕様 ■設置・移動が簡単な省スペース設計 ■簡単操作、自動運転 ■安全に留意した自動停止機構 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお...
メーカー・取り扱い企業： プリテクノジャパン株式会社
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温度制御システムタンク『RKMH シリーズ』（加圧・真空タイプ）
撹拌真空、圧送、温度制御を1台で！加熱撹拌、真空脱泡、加熱などの用途で…
電熱線の内蔵されたマントルヒーターをタンクに取り付け タンクを直接加熱しPID制御にて温度制御を行います。 温度制御は温度制御コントローラーにて調整可能です。 撹拌粘度、撹拌目的に応じて撹拌機・撹拌羽根を設計、製造します。 また、10L以外の容量も製作可能です。その他、ご要望に合わせてオーダーメイド製作致します。 詳しくはお問い合わせください。 ...
メーカー・取り扱い企業： 加藤ステンレス科学株式会社
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高真空加熱マイクロプローバ『HMP-100』【最大500℃対応】
高真空仕様の加熱マイクロプローバ！加熱温度は最大500℃で、10mm形…
『HMP-100』は、排気系により＜10^-4Paでの使用が可能な高真空仕様の 加熱マイクロプローバです。加熱温度は最大500℃で、10mm形状の サンプル加熱に対応します。TRIAXコネクタを採用することにより 1pA以下の電気測定が可能です。 【特長】 ■高真空仕様 排気系により＜10^-4Paでの使用可能 ■加熱温度 最大500℃対応 10mm形状のサンプル加熱対...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所
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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御（ガス流量→ニードルバルブにて手動調整） ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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ユーザーの各種ニーズに対応したカスタマイズ仕様
ユーザーの各種ニーズに対応したカスタマイズ仕様 最大真空到達 10-7 kPa (絶対圧)まで可能 ...-最高温度：200℃ (オプションで300℃も可） -最大真空到達 10-7 kPa (絶対圧) -温度変動：±0.2℃以内 真空制御 PID制御による正確な真空調節：複数の調節設定が可能 ポンプの最大真空調節/一定圧力の維持/排気バルブの自動制御による真空レベル変更 背面に、...
メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社
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卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲…
◉ 卓上サイズ 省スペース：328(W) x 220(D) x 250(H)mm（*2inch用チャンバー参考値） ◉ るつぼ内サンプル焼成用（るつぼΦ50 x 100）, 又はΦ1"〜Φ4"ウエハー焼成用フラットヒーター ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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机上に設置可能なコンパクトサイズ！大学様の研究室に適しています
『SP-1321』は、高真空中で小形の基板を加熱する装置です。 ロードロック室を備えることにより、加熱室を常にクリーンな状態に 保つことが可能。また、高真空での加熱が可能なほか、プログラム温度制御 により、安定した温度制御を実現しています。 机上に設置可能なコンパクトサイズ、研究室などでの実験装置として 適しています。 【特長】 ■高真空中で小形の基板を加熱 ■高真空で...
メーカー・取り扱い企業： サイエンスプラス株式会社
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金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材…
真空ホットプレートチャンバー 「PH-224D型」は、金属、ウエハ等の真空雰囲気および低酸素濃度雰囲気下での加熱プロセス、材料評価に最適です。 【仕様カスタマイズ】 ○温度制御範囲 室温～200℃ ○プレートサイズ 200×200mm ○圧力範囲 -100KPa（真空）~0.02MPa（N2ガス充填時） 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【特徴...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー
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半自動真空ホットプレートチャンバー 「PH-224S-42型」
小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。
半自動真空ホットプレートチャンバー 「PH-224S-42型」は、小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。 加熱源に薄型ヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 ウエハ加熱バッチ炉として、6”ウエハ3枚、8”ウエハ２枚の処理能力があります。 【特徴】 ○最高温度 300℃ 対応 ○温度コントローラーは、専用タイプにより プロセスの確認に必要な...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー
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最高 600 ℃ 迄の真空下の熱処理
密閉型レトルト炉には、温度に相応して直接あるいは間接的加熱方式を採用します。 所定の不活性ガスあるいは反応ガス雰囲気が要求される多様な熱処理プロセスに最適です。 最高 600 ℃ 迄の真空下の熱処理にもこのようなコンパクト機種を応用できます。 炉室は密閉型レトルトで構成されています。ドア領域は特殊シールを保護する水冷方式を採用しています。水素のような反応ガスの使用にも相応の安全技術を採...
メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社
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卓上型 雰囲気電気炉（真空バージョン）『FT-POT300vac-SP…
上部より試料を取り出す方式のポット型電気炉です。 簡単操作でPOT300専用 真空レトルトチャンバーを組み合わせる事で手軽にノーパーティクルで真空/各種ガス雰囲気が得られます。 3層レフレクター標準装備で冷却水不要！電気炉本体も同様SUS仕上げにより耐酸性にも優れています。 ...『FT-POT300』 最大温度：1200℃ 常用温度：RT～1150℃ 内容積：200φ×250H ...
メーカー・取り扱い企業： フルテック株式会社
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最高温度300℃対応！小型ウエハ・ガラス基板用ホットプレート。
加熱工程ウエハホットチャック PH050は小型ウエハ・ガラス基板用ホットプレートです。ウエハ、ガラス基板など極薄のワークを均一に加熱します。ワークは真空吸着により固定いたしますのでワークに固定によるストレスを与えません。プレートはアルミ合金、黒アルマイト処理、レザーマーキングによるガイド表示、MSAデジタル温度コントローラーにて精密温度制御が可能です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー
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低価格・省スペースにて精密焼成が実現！フルテック独自の最先端制御技術に…
低価格・省スペースにて精密焼成が実現。フルテック独自の最先端制御技術によるPID制御で超高速レスポンス。 プログラムコントローラー(9×9) オプションのデジタルマスフローメーターによる精密な温度雰囲気制御が可能。 100V電源で経済性の優れた1,200℃仕様もラインナップ！ ...『FT-1600Rシリーズ』 最大電気炉温度：1,600℃(発熱体温度) 常用温度：250℃～1,5...
メーカー・取り扱い企業： フルテック株式会社
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研究・実験用途に特化した高周波誘導加熱装置の決定版
MUシリーズの加熱性能そのままにオールインワン製品の登場です。 加熱状態が目視確認できます。 【特徴】 ○コンパクト設計でスペースを取らない （460W × 390D × 700H） ○誘導加熱方式で急速加熱が可能 （純鉄50g溶融が2分以内） 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【特徴】 ○導電性ルツボを使用すれば無機材料でも間接加熱...
メーカー・取り扱い企業： ＳＫメディカル電子株式会社
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アルミから希土類磁性材料まで！低炭素鋼から高速度工具鋼まで
浅川熱処理株式会社は、エンジンバルブコッタ国内シェア約35%、 世界シェア約17%を誇る熱処理メーカーです。 日本工業規格表示許可工場の、JIS B6913鉄鋼の焼入焼戻し加工、 JIS B6914鉄鋼の浸炭及び浸炭窒化焼入焼戻し加工の資格を取得。 さらにISO/TS16949自動車生産及び関連サービス部品を扱う組織の 品質マネジメントシステムの認証を取得しております。 各...
メーカー・取り扱い企業： 浅川熱処理株式会社
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アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御（ガス流量→ニードルバルブにて手動調整） ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御（ガス流量→ニードルバルブにて手動調整） ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…
◉Max2000℃（真空中1x10-5Torr, N2, Ar） ◉3種類のヒーター材質： ・高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ・SiC3（炭化珪素）コーティング：Φ4〜Φ8inch ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティング：Φ4〜Φ8inch ◉使用雰囲気： ・真空・不活性ガス（グラファイト） ・還元雰囲気（TiC3コーティング） ◉試料台サイズφ4inch〜φ8inc...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」
最高温度400℃！小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適です。
半自動真空ホットプレートチャンバー「PH-224S-200型」は、加熱源にセラミックヒータを採用しており、高速温度プロファイルプロセスに対応いたします。 温度コントローラーは、専用タイプによりプロセスの確認に必要なデータを取得（アナログ出力）できます。 【特徴】 ○空冷にて、最高温度400℃対応 ○小型バッチ炉タイプで、少量品、研究開発に最適 ○観察窓により、ワークの状態が視認できる...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー
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【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲…
◉ 卓上サイズ 省スペース：328(W) x 220(D) x 250(H)mm（*2inch用チャンバー参考値） ◉ るつぼ内サンプル焼成用（るつぼΦ50 x 100）, 又はΦ1"〜Φ4"ウエハー焼成用フラットヒーター ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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最高温度300℃対応！小型ウエハ・ガラス基板用ホットプレート。
加熱工程ウエハホットチャック PH070は小型ウエハ・ガラス基板用ホットプレートです。ウエハ、ガラス基板など極薄のワークを均一に加熱します。ワークは真空吸着により固定いたしますのでワークに固定によるストレスを与えません。プレートはアルミ合金、黒アルマイト処理、レザーマーキングによるガイド表示、MSAデジタル温度コントローラーにて精密温度制御が可能です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社MSAファクトリー
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