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8件 - メーカー・取り扱い企業
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PR溶剤の有効成分の回収!運転やバルブ操作は、空気圧や窒素圧による遠隔操作…
本装置は、廃溶剤液から水分や不純物を除去し、溶剤の有効成分の回収を行う装置です。 【特長】 ■溶剤のリサイクル、廃液処理のコスト削減 ■空気圧・窒素ガスによる遠隔操作方式の為、高い安全性確保 ■連続減圧蒸留方式で蒸留ユニットは防爆仕様 ■設置・移動が簡単な省スペース設計 ■簡単操作、自動運転 ■安全に留意した自動停止機構 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお...
メーカー・取り扱い企業: プリテクノジャパン株式会社
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コリオリ式マスフローコントローラ/メータ Quantimシリーズ
PRコリオリ式微小流量の測定と制御の業界標準!幅広い流量レンジで液体・ガス…
『Quantimシリーズ』は、微小流量のガス/流体測定や制御において、高い 精度とゼロ安定性を実現するコリオリ式マスフローコントローラ/メータです。 特許取得済みのコリオリ式センサは、流体のタイプやプロセス変動に関係なく、 低流量の測定が可能。 その結果、条件が変化する場合でも、精度、安定性、繰り返し性、再現性の 高いマスフロー測定と制御を実現し、卓越したパフォーマンスを提供しま...
メーカー・取り扱い企業: ITWジャパン株式会社
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真空装置周辺機器,バルブの修理なら お任せ下さい! メーカーメンテ…
各種メーカー真空バルブ修理 振り子式バルブ修理・ゲートバルブ修理・バタフライバルブ修理・アングルバルブ修理等...
メーカー・取り扱い企業: 大宮工業株式会社 近畿支店
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スリットバルブシール
●半導体、液晶をはじめ多岐の業界で使用されている真空機器のシール材に対し、総合シールメーカーとして長年にわたり培った経験、豊富な材料、独自の最適形状設計を組み合わせ、様々な御要求にお応えし、ソリューションをご提供しております。 ●半導体業界向けには、低発塵性、耐プラズマ性、耐薬 品性、低固着特性に優れた製品を、液晶業界向けには、基板大型化に対応した製品を製造・販売しております。 ●同業...
メーカー・取り扱い企業: 三菱電線工業株式会社
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『流路まるごと事例集』排気ラインの副生成物対策 ※無料進呈中
除害装置前段やCVD排気ラインの副生成物対応にお困りの方必見! 高温…
> 概略 < ・お困りではありませんか? 除害装置前段での副生成物対策 ・⾼コンダクタンスの配管部材は何故良いの? ・CVD排気ラインの改善により、ダウンタイム削減ができる! ・流路を高温(180℃)、かつ均一に加熱する方法とは? 掲載されている製品・技術: #半導体製造用部材 #空圧 ボールバルブ #手動 ボールバルブ #アイソレーションバルブ #L型真空バルブ
メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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配管形状を選ばず、粉体の析出を抑制し配管内の閉塞を局所集中により防止し…
半導体・液晶製造装置の排気ラインは大量のパウダーにより常に汚染や閉塞の危険が伴います。当製品は既設の希釈用N2ガスを利用してこれらの諸問題を簡単且つ低コストで防止、解消します。また、クライオポンプのオーバーホールサイクルの向上、延命の他、ロードロック室のパージにも優れた効果を発揮します。...CVD装置や、ドライエッチング装置の真空ポンプやそこから除害装置間では常にデポ物堆積や、真空ポンプ故障、バ...
メーカー・取り扱い企業: エヴァンリード株式会社
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経済性に優れた高精度ラバーシール
半導体、FPD、データ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガスを使用したアプリケーションが展開されています。 FC-R7700シリーズは、高い信頼性と優れた性能でプロセスおよび装置エンジニアの業務の円滑化に対応いたしま...
メーカー・取り扱い企業: 日立Astemo&ナガノ株式会社
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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