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115件 - メーカー・取り扱い企業
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【初展示製品多数】医薬品・化粧品の開発に関わるご担当者様必見！
PRインターフェックスWeek東京に出展します。ニッチだけど新しい、費用対…
ジャパンマシナリーは、「インターフェックスWeek東京」に出展いたします。 一つのカテゴリーに収まりきらない製品群を持つ当社のブースでは、 商品開発、プロセス開発、生産技術、製造、保全までのすべての ご担当者様必見です。 わずか1μL/秒の極小領域対応のシングルユース対応シングルユースマイクロ ドージングポンプ「QB2-SD」や、ゲームチェンジャーとなる世界最小クラスの 顕微ラマン分光センサー...
メーカー・取り扱い企業： ジャパンマシナリー株式会社
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PRナノメートル精度で変位・変形・振動を計測。超高真空・高磁場対応。最大５…
attocube(アトキューブ)社のレーザー干渉式変位センサは、物体のリニア運動の変動量を測定する装置です。 さまざまな材料や形状をもつ対象物の変位を、数ミリメートルから数メートルまでの広い範囲で測定できます。 小型モジュール式で、3軸まで構成可能です。 位置信号はクローズドループ位置決めシステムのフィードバックシグナルとして利用できます。 回転の振れ測定、振動測定、工作機械の校正など、高度な...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本レーザー
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Model 1200卓上リフロー装置は、プロセス開発、マイクロエレクト…
SST社はマイクロエレクトロニクス組立工程に対するソリューションと装置を提供するグローバルリーダーです。 真空及び処理ガスによる加圧を含めた高精度な圧力管理を行い、ボイドレスはんだ付け、ろう付、ガラス封止、高気密封止、水分ゲッター活性化処理、ウェハーボンディングなどの工程にソリューションを提供します。...業界屈指”小型で高性能な卓上型真空/加圧リフロー装置” SST Vacuum Reflow...
メーカー・取り扱い企業： テクノアルファ株式会社
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ELID搭載 研削盤『ヒカリオン(R)・ラップ研削盤III型』
ELID（電解インプロセスドレッシング）搭載型のラップ研削盤。片面／両…
ELID（電解インプロセスドレッシング）搭載型 ラップ研削盤 ■□■特徴■□■ ■片面ラップ、両面ラップ研削が可能 ■一定圧での研削が可能（圧力転写型加工） ■強制切込みによる研削が可能（運転転写型加工） ■ワークの保持に真空チャックを採用、ワークの着脱が簡便 【ヒカリオンラップ研削盤の研削加工形態】 １）高能率研削 粗粒メタルボンド砥石を用いた強制研削 ２...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社
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膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現！高品質の電極膜を安定して形…
『ウェハプロセス用真空蒸着装置』は、6インチまでのウェハへの 電極膜形成に対応したバッチタイプ蒸着装置です。 ディスクリートIC、化合物IC、MEMSデバイスの量産用途に 豊富な実績を持っています。膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を 実現するオイルフリー排気系により高品質の電極膜を安定して形成が可能。 量産用途の蒸着装置として高い稼働率を誇ります。 【特長】 ■信頼性...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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ＣＶＤ装置用真空排気装置（塩素系ガス対応真空ポンプユニット）
熱ＣＶＤ装置の排気に実績多数。Ｃｌ系ガスの排気に特に有効、大量排気と塩…
ケミカルプロセスに多大な実績を持つ真空ポンプ（水封式真空ポンプとメカニカルブースタ）をユニット化。 ＣＶＤ装置のプロセス特性・ガス種・排気量に合わせてポンプ材質と周辺機器を最適化。 主排気ポンプの水封式真空ポンプを封液循環式とし、循環式封液にアルカリ性溶液を使用し、塩素系ガスの排気と中和を両立。後段のガス処理装置の負荷を大きく削減。 特に表面処理用の熱ＣＶＤ装置の塩素系ガスの排気系に有効で工...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター
各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…
です。 特徴 1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能 2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。 4) 従来のレーザー反射計測法と比較して本計測器の計測法は10倍以上の反り測定感度、高速計測周波数(100Hz)を実現 5) AlGaAs/G...
メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社
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ウェハプロセス対応 本格量産システム アニール・シンター・ポリイミドキ…
クリーンな真空中で均一加熱。高いクリーンネスや低酸素濃度を求められるプロセスに最適。縦型石英管型アニール装置。 最大８インチ相当のウェハや各種基板に対応。ＣｔｏＣシステム採用による自動化＆クリーンシステム。 中温から高温まで安定した温度分布性能と急令機構による短タクト処理 真空だけでなく各種雰囲気（不活性、酸化、還元）雰囲気処理も可能な多機能型熱処理装置 ...Ｓｉウェハへの対応を基本とし...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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光ファイバの線引炉やガラス化炉で30年の実績がある加熱炉・加熱システム…
古河電気工業（株）でコーポレートの生産技術部門に26年間所属し、生産技術開発センター長を５年勤めました。主に光ファイバの開発・量産ラインへの装置導入の業務を行ない、現在も導入した装置が現役で活躍しています。 私が担当した1980年後半から通信バブル崩壊するまでは毎年線引速度が高速化しプリフォーム径も大型化してゆく時代でした。私が担当した当時は、購入した線引炉の水漏れがたびたび起きて、自社で線引炉...
メーカー・取り扱い企業： プロセスD&Tラボ 千葉
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高周波・通信デバイスに多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置で…
『リフトオフプロセス対応真空蒸着装置』は、 化合物半導体やSAWデバイスなど光デバイスや高周波・通信デバイスに 多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置です。 蒸発源に電子銃と抵抗加熱電極を装備しており、高融電極膜や貴金属を含む 厚膜の形成が可能。 基板への蒸発粒子の入射角の垂直性に優れており、成膜時の基板の温度上昇を 防ぐ各種機構（基板水冷機構、電子銃用反射電子トラップ...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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ボイドレス半田付のスタンダード装置。車載用パワーデバイスモジュールを支…
豊富な実績を誇るバッチ式真空半田付装置を本格量産用に展開。 従来のＨ２雰囲気プロセスに加え蟻酸対応をプラス。より高い信頼性を持つボイドレス半田付を量産ラインで実現。 車載用パワーデバイスモジュールの半田付の標準装置。 社内デモ機によるプロセスサポートと柔軟なハード対応で要求に対応。...急速昇降温機構と厳密な雰囲気制御機構を装備、半導体ウェハプロセスで実績のガス供給機構で安定した蟻酸野供給と...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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実績と信頼の排気系ユニット。単一のポンプでは困難な用途に対応。目的に合…
業界でトップクラスの真空ポンプの組合せユニット。 長年に渡り多数の納入台数を誇る水封式真空ポンプ/油回転式真空ポンプ/ドライポンプとメカニカルブースタの組合せにより新たな性能と価値を実現。 乾燥・蒸留・脱気などのケミカルプロセス、脱ガスなどの冶金用途、硬質膜コーティング装置やＣＶＤ装置、樹脂成型などの一般工業用途など、幅広い用途の真空排気の問題を解決！...信頼性と目的にあわせた個別設計が特徴...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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お客様のニーズに合わせた形でカスタマイズ可能な高性能真空装置
高真空装置で定評のあったMECA2000社の技術を引き継いだ高真空度を実現...真空成膜装置とは、半導体の製造工程のうち薄膜成形のプロセスに用いられる装置で、手法によってPVD、CVD、PLD、MBEなど各種の成膜装置が存在しており、真空度の高さが半導体の品質を決める大きな要因となっています。西華デジタルイメージでは、長年薄膜素材の評価装置として定評のあるVINCI社の製品を取り扱ってまいりました...
メーカー・取り扱い企業： 西華デジタルイメージ株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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高耐久性ドライ真空ポンプ SDEシリーズ
耐久性と省エネを実現し、ランニングコストを低減 あらゆるプロセスに対応する高耐久性ドライ真空ポンプ 【特徴】 ○独自のスクリュー圧縮技術により ハードなプロセスでの安定稼動を実現 ○ポンプ構造材は耐食材料を使用。腐食性ガスの排気にも対応 ○スクリュー形状、及び駆動系の改良により 従来製品に対し、消費電流を40%低減 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード...
メーカー・取り扱い企業： 樫山工業株式会社
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【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜
Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…
半導体製造工程の一つであるドライエッチングプロセスにおいてウェハ処理を行うと、プロセスガス自体からの生成物やエッチング時の副生成物がチャンバ内壁やチャンバ内のパーツ表面に付着するといった現象が発生すします。これら堆積物の付着によってプロセスの初期と処理後のチャンバ内表面状態が変化することにより、プロセス条件の変動が発生します。このようなプロセス条件の変動を緩和するため、従来技術では製品処理前に類似...
メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー
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