大型断裁機『SCシリーズ』を用いたカッティングソリューション

PR様々な素材を重ねて高精度・効率的に断裁できるソリューションを提供。多様…

『SCシリーズ』は、多くのワークを重ねて 高精度に断裁できる多彩な機能を備えた大型断裁機です。 当社従来機と比べてナイフの速度やバックゲージの前進最大速度を向上し、 作業時間の短縮に貢献。また、光電管安全装置を外側に配置してセンサーの 反応エリアを広げることで、保守やナイフ交換時の安全性を向上しているほか、 10インチのタッチパネルにより直感的な操作が可能です。 当社では本製品...

メーカー・取り扱い企業： イトーテック株式会社

新型チルドタワー、常時チラー運転より約５４％の年間電力費ダウン

PR生産プロセス、データセンター空調、ＤＬＣサーバーの冷却水用に　現行機よ…

新型の機種は、「チルドタワー　ＣＴＳーＡ０７５Ｍ」です。新型のカタログ請求はお問い合わせからご請求をお願いします。掲載のカタログは現行機種です。新型チルドタワーはチラーとドライクーラーを一体化させた構造で、春夏秋冬、朝昼夜の外気温度条件に適したハイブリッド運転を行います。必要な冷水温度（10℃~30℃）を設定すれば、省電力で安定した冷水を自動供給します。また、新型チルドタワーは、新冷凍サイクルでＣ...

メーカー・取り扱い企業： 桑名金属工業株式会社

有機EL用蒸着装置

プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、封止室等を自由に選択で…

『有機EL用蒸着装置』は、デバイス開発や材料開発に好適なマルチチャンバ 仕様の装置です。 前処理から成膜、封止までの工程を大気に触れずに処理することが可能。 目的に応じて、プラズマクリーニング室、有機蒸...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

Epitaxial-EB蒸着装置

最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成…

『Epitaxial-EB蒸着装置』は、エピタキシャル促進機構により金属膜や酸化膜の単結晶成膜に適した製品です。 基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現させ、またチャンバの メンテナンスが容易。 リフトオフプロセ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

ロードロック式EB蒸着装置

好適な表面処理によるパーティクル低減！ロードロック式による高真空プロセ…

『ロードロック式EB蒸着装置』は、基板回転による優れた膜厚分布および 再現性を実現しています。 ロードロック式による高真空プロセスをはじめ、リフトオフプロセスや、 トレイ搬送にも対応。 最高900℃の高温プロ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

多元スパッタリング装置

基板温度900℃を実現！基板ステージに3軸機構を搭載し、均一な膜厚分布…

『多元スパッタリング装置』は、最大4台のスパッタカソードを搭載し、 金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能です。 CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能。 また、基板ステージに3軸機構（昇降、公転、自転）を搭載し、 均一な膜厚分布を実現します。 【特長】 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載し、基板温度900℃を...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

ロードロック式スパッタリング装置

CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です！

『ロードロック式スパッタリング装置』は、ムービングマグネットにも対応し 全面エロージョンが可能です。 当社独自のスパッタカソードや急速昇降温基板加熱機構を搭載し 基板温度900℃を実現。 発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、 高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜ができます。 【特長】 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネッ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

PETボトル用プラズマCVD装置

3L容器までコーティング可能！容器軽量化による物流コストの低減などに貢…

当製品は、当社が得意としているプラズマCVDプロセス技術を応用し、 樹脂容器材質として一般的に普及している「PETボトル」への DLCコーティングに特化した成膜装置です。 PETボトル内面へサブミクロンオーダーのDLC薄膜コーティングを施すことで、 内容物の酸化による風味劣化防止や、炭酸成分の溶出防止、 また容器軽量化による物流コストの低減などに貢献します。 【特長】 ■必要...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

『圧電膜形成スパッタリング装置』は、プラズマエミッションモニター搭載により 圧電特性低下に寄与する元素検知可能な製品です。 単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することができます。 また発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、 高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜が可能。 当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載しており、基板温度900℃を...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

【開発者目線を徹底】各種装置のオーダーメイド製造承ります

相談だけでも歓迎！設計から製作、組立まで自社で一貫して対応！各種装置製…

【その他の製作実績】 ■研究開発用バッチ式3元スパッタリング装置 ■研究開発用IBS装置 【取扱製品】 プラズマCVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置、 ドライエッチング装置、アッシング装置、RTA装置、各種複合装置など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

『圧電膜形成スパッタリング装置』は、単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することが可能な製品です。 プラズマエミッションモニターによるプラズマ分析とフィードバック制御により、高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜、圧電特性低下に寄与する元素検知も可能です。 当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載しており、基板温度900℃を実現します。 ※詳しくはPDF資料をご覧...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

【オーダーメイド製作実績】蒸着装置

「2段階複合Pt成膜装置」などの実績を保有！ご用命の際はお問い合わせく…

ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『蒸着装置』のオーダーメイド 製作実績をご紹介します。 「2段階複合Pt成膜装置」や「HDDメディア研究開発用ルブ蒸着装置」、 「ロードロック式高真空超高温EB蒸着装置」の実績を保有。 デモ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社