• 射出成形におけるプロトニクスシステムの効果~マンガ資料進呈~ 製品画像

    射出成形におけるプロトニクスシステムの効果~マンガ資料進呈~

    PR機能特性別に表面処理のご提案!各試験結果や処理実績を詳しく掲載していま…

    当資料では「射出成形におけるプロトニクスシステムの効果」について 写真や図と共に詳しくご紹介しております。 射出成形での様々な問題を表面処理で解決します。 材料の流動性、離型性、耐食性、金型の摺動性、耐摩耗性等 状況に応じた皮膜のご提案で多数の処理実績があります。 本資料では、各表面処理の物性評価や、各表面処理技術、離型性、流動性向上などを掲載。 また、処理実績も多数掲載しております。是非、ダ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本プロトン

  • HVOF /高速フレーム溶射コーティング製品 製品画像

    HVOF /高速フレーム溶射コーティング製品

    PR航空宇宙から一般産業規格までHVOF コーティングの実績 自社による材…

    ■ 自社による材料調達・製品加工・表面処理・超仕上加工までの一貫生産 ■ アメリカカリフォルニア州トーランスに工場 ■ 航空機業界で確立した品質管理 ■ 航空宇宙規格HVOF コーティング製品も実績有り 《HVOF (高速フレーム溶射) と硬質クロムメッキの比較》 ■ 耐腐食性・耐摩耗性・耐衝撃性が向上 ■ 優れた皮膜密度 ■ 高密着力 ■ 高硬度  ■ REACH 準拠...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社木村洋行

  • ソフトエッチング装置【nanoETCH】 製品画像

    ソフトエッチング装置【nanoETCH】

    <30W ローパワー・エッチング制御精度10mW ダメージレス・繊細…

    【特徴・主なアプリケーション】 • 2D(遷移金属カルゴゲナイド, 材料転写後のグラフェン剥離):表面改質クリーニング • PMMA, PPA等のポリマーレジスト除去 • テフロン基板などのダメージを受けやすい基板での表面改質、エッチング • h-BNサイドウオールエッチング(*『フッ化ガス供...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【SH 高温基板ヒーター】PVD, CVD用 Max1100℃ 製品画像

    【SH 高温基板ヒーター】PVD, CVD用 Max1100℃

    CVD, PVD(蒸着, スパッタ等)均熱性・再現性に優れた高真空 超…

    数の採用実績がある信頼性高い超高温真空用 プレートヒーターです。独自の方法で高真空用に放電対策絶縁処理された端子部、超高温均一加熱が得られる様工夫された抵抗発熱式加熱ブロックを内蔵、ヒータープレート表面を短時間で高温まで加熱昇温することができます。 ◆ヒーター仕様◆ ◎ 使用発熱体 ・NiCr(SH-IN型), W/BNコンポジット(SH-BN型) ◎ 最高使用温度 ・850℃(SH...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】 製品画像

    蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

    2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、…

    ロンカソード x 4源同時スパッタ ・DC, RF両電源対応 3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室では「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『ソフトエッチング』技術による<30W 低出力・ダメージレスプラズマエッチングステージも搭載可能。2D(PMMA等のレジスト除去など)、グラフェン剥離、又、テフ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム 製品画像

    【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム

    2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、…

    x 4源同時スパッタ DC, RF両対応 *Chamber-3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室で「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『ソフトエッチング』技術による<30W 低出力・ダメージレスプラズマエッチングステージも搭載可能。2D(PMMA等のレジスト除去など)、グラフェン剥離、又、テフ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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