• パレティーナ/メッシュパレット用『防錆ビニールカバー』※特注OK 製品画像

    パレティーナ/メッシュパレット用『防錆ビニールカバー』※特注OK

    PR表面研磨後の金属製品の保管や運搬時の防錆に!金属を約3年間錆から守りま…

    「防錆油&脱脂はコストがかかる」「手軽にサビを防ぎたい」などのお悩みはございませんか? 有限会社シンアイ産業では、金属を約3年間錆から守る『防錆ビニールカバー』を取扱っております。 包む・覆うだけで防錆。防錆成分が気化することで、鉄系金属の表面を保護します。 表面研磨後の金属製品の保管や、運搬時の防錆といった用途に利用可能。 パレティーナ用とメッシュパレット用がございます。 【用途】 ◎金型...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社シンアイ産業

  • プリント基板/半導体パッケージ基板用めっき薬品のご紹介 製品画像

    プリント基板/半導体パッケージ基板用めっき薬品のご紹介

    PR【JPCAShow2024】半導体ウエハ、パッケージ基板、フレキシブル…

    奥野製薬工業は、東京ビッグサイト(東京国際展示場)で、2024年6月12日(水)~6月14日(金)に開催されますJPCA Show 2024に出展いたします。 電子機器の普及とともに急速に発展するプリント基板/半導体パッケージ基板。 その高性能化、多機能化に貢献する表面処理薬品とプロセスをご提案します。 その他新技術として、封止樹脂との高い密着性を有する高信頼性粒状銅めっき、リチウムデンドライ...

    メーカー・取り扱い企業: 奥野製薬工業株式会社 大阪・放出、東京、名古屋など

  • 表面形状・シミュレーション・モジュール(FPSM3D) 製品画像

    表面形状・シミュレーション・モジュール(FPSM3D)

    初期形状はトレンチ、ホールで与えることが可能!基板、堆積膜の経時変化を…

    表面形状・シミュレーション・モジュール(FPSM3D)』は、 粒子モンテカルロ法により、基板表面での様々な反応を考慮し、 基板、堆積膜の経時変化を計算するモジュールです。 セル法特有のシャープ...

    メーカー・取り扱い企業: ペガサスソフトウェア株式会社

  • 表面形状・シミュレーション・モジュール(FPSM2D) 製品画像

    表面形状・シミュレーション・モジュール(FPSM2D)

    PVD、プラズマCVD、そしてエッチングなどどのような反応にも対応可能…

    表面形状・シミュレーション・モジュール(FPSM2D)』は、 粒子モンテカルロ法により、基板表面での様々な反応を考慮し、 基板、堆積膜の経時変化を計算するモジュールです。 PVD、プラズマCV...

    メーカー・取り扱い企業: ペガサスソフトウェア株式会社

  • シース内モンテカルロ・シミュレーション・モジュール(SMCSM) 製品画像

    シース内モンテカルロ・シミュレーション・モジュール(SMCSM)

    内蔵のシースモデルを用いて、短時間で計算することが可能です!

    『シース内モンテカルロ・シミュレーション・モジュール(SMCSM)』は、 プラズマシース端からシースを通ってシース底部(ターゲット表面)に 達するイオン、電子のエネルギー分布、角度分布等を計算します。 PIC-MCCM、PHMとも、計算時間がかかりますが、ターゲット表面のイオンの エネルギーについてのみを評価したい場合、...

    メーカー・取り扱い企業: ペガサスソフトウェア株式会社

  • イオンモンテカルロ・シミュレーション・モジュール(IMCSM) 製品画像

    イオンモンテカルロ・シミュレーション・モジュール(IMCSM)

    プラズマ解析領域全体におけるイオンのエネルギー分布、角度分布等を計算!

    た境界セル での入射エネルギー/角度分布を計算します。 現在のPHMは、装置内のプラズマ分布等を計算しますが、計算モデル上、 イオンのエネルギーは一様としています。しかし、基板/ターゲット表面の イオンエネルギーを求めたい場合が多いと考えられます。 当製品は、PHMの計算結果(空間分布物理量)を用いて、プラズマ解析領域 全体、および基板/ターゲット表面のイオンエネルギー分布等を...

    メーカー・取り扱い企業: ペガサスソフトウェア株式会社

  • シミュレーションソフトウェア『PEGASUS』 製品画像

    シミュレーションソフトウェア『PEGASUS』

    真空技術、プラズマ技術、薄膜技術、微細加工技術を用いる技術者のためのシ…

     技術者のためのシミュレーションソフトウェア ■真空薄膜技術で必要とされる多くのプロセスに関連するシミュレーションを行うことが可能 ■装置サイズの気相シミュレーションからミクロンサイズの基板表面シミュレーションまで行うことが可能 など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: ペガサスソフトウェア株式会社

  • 動的モンテカルロシミュレーションソフトウェア(SASAMAL) 製品画像

    動的モンテカルロシミュレーションソフトウェア(SASAMAL)

    イオン注入、あるいはスパッタリング現象そのものに関する計算を行うことが…

    ギー分布、イオンの ターゲットへの侵入深さ(Depth Profile)を計算。 各種材料のスパッタリング率の、イオンの入射エネルギー依存性や 入射角度依存性の評価、イオン注入による材料の表面改質プロセスの 評価などに利用できます。 【特長】 ■当製品単体のみを用いた場合でも、イオン注入、あるいはスパッタリング  現象そのものに関する計算を行うことが可能 ■PIC-MCCM...

    メーカー・取り扱い企業: ペガサスソフトウェア株式会社

  • スパッタリング・シミュレーション・モジュール(SPUTSM) 製品画像

    スパッタリング・シミュレーション・モジュール(SPUTSM)

    より真実味のある入力データでスパッタリング解析をおこなうことが可能です…

    属のGUIMを使用(PNGファイル出力、印字出力、テキストデータ入出力、表示画面の任意拡大縮小) ■プレポスト:付属のGUIMを使用 ■付属機能 ・PIC-MCCMの計算結果取り込み機能 ・表面結合エネルギーのデータベースを内蔵 ・弾き出しエネルギーのデータベースを内蔵 ・反跳カスケード追跡 ・バックグラウンド計算 ■解析規模:無制限(実際にはメモリー容量と計算時間で制限されます)...

    メーカー・取り扱い企業: ペガサスソフトウェア株式会社

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