無料で！レーザ樹脂溶着テストを実施中です。

PRレーザ溶着はそんなに難しくない！溶着テストについて紹介した資料を進呈中…

当社常設のラボで、溶着実験可能です。 樹脂プレート(平板)をご準備頂けましたら、無料で溶着実験を承っています。 また、下記ファシリティを用いた、溶着結果の評価も可能です。 ・マイクロスコープ（ライカ社製） ・強度試験機（自動） ・簡易工作機（切断／穴あけ） ・リークテスト 本体のみの見学やデモンストレーションも、お気軽にお問い合わせください。 ※お手数ですが、御来社に際しては、事前...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社広島

小型通気式固体培養装置

PRシンプルな構造とすぐれた操作性！微生物によるものづくり

『小型通気式固体培養装置』は、実用規模の固体培養装置と同質の 基質通気式品温制御を採用した製品です。 産業化を想定した通気式固体培養を再現性高く行うことが可能。 また、品温制御が連続基質通風方式のため、産業化を見据えた培養実験を 小規模で再現性高く行うことが出来ます。 原料投入から洗浄までの全ての工程を一人で対応できるシンプルな 構造と優れた操作性は、高い評価を得ています。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フジワラテクノアート

レジスト現像アナライザ　RDA-Qz3

現像速度測定・評価装置。現像中のレジストの膨潤挙動も評価できます。

レジスト現像アナライザ　RDA-Qz3はQCM（クォーツマイクロバランス）法を用いた現像速度測定・評価装置。現像中のレジストの膨潤挙動も評価できます。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

脱保護反応解析装置　PAGAシリーズ

フォトレジストの高度な評価を行う、さまざまな装置を提供します。

脱保護反応解析装置　PAGAシリーズはPEB及び248mm露光によるin-situ反応解析、脱保護反応パラメータ算出機能。FT-IR室内にベークプレートを配置し、加熱し ながら官能基の変化を観察で来ます。また、紫外線(248nm)照射装置も搭載されており、露光中における酸発生のメカニズムなどの解析にも利用できます。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○P...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズ

最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。

フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズはフォトレジストの研究開発用露光ツールです。ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォトレジストの材料開発やプロセス開発を加速します。さらに、オプションの脱ガス捕集ユニットを用いることにより、露光中のレジストからのアウトガスの成分分析...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

レジスト現像アナライザ RDAリシーズ

フォトレジスト現像速度解析評価装置

レジスト現像アナライザRDAシリーズは、フォトレジストの現像速度測定、コントラストカーブ、感度の算出などの現像特性解析が迅速に行えます。また、リソグラフィシミュレータに必要なレジストモデリングパラメータを正確に決定することができます。...【主な特徴】 ●高速現像速度測定機能 ●現像特性解析機能 ●パラメータ計算機能 ●パラメータ用データベース機能...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社