調整 | イプロスものづくり

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TAITOH プラチェーンコンベア・フリーフローチェーンコンベア

PR～搬送コンベアを活用し、省人化と作業効率UP～

≪提案するフリーフローチェーンコンベアの特長≫ ・お客様のニーズに沿ってコンベアの機長・ピッチの長さを調整可能です。・倍速チェーン・モーター変更による速度調整可能です。・使い勝手を考慮した自社規格アルミフレームを採用しております。 ...※現地据付も承っておりますので、お問合せください。 ※納期は、別途ご相談ください。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社タイトウトレーディング草津本社工場
各ランプの光量制御で待機電力削減に貢献！『電子点灯UV照射装置』

PR【省エネ・電力削減】各ランプ毎に光量調節が可能で１０Aタイプの国産及…

ADPECが提供する電子点灯式UV照射装置は、従来のトランス式の電源を登載したUV照射装置を進化させ、電子制御方式の電源ユニットを搭載した新UV照射装置です。本製品はUVランプの調光が可能となり、その範囲は最大10％～100％となっておりますので、塗装ラインの始動時やセット替え時は10～20%近辺で点灯する事により、待機電力の大幅な削減が可能となります。また、ランプを複数本...
メーカー・取り扱い企業： J-one（株式会社アドペック/ヤマシン技研株式会社）
多機能スパッタリング装置【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

ャンバー）基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート）基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整）寸法：1,120(W) x 800(D) ●プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれへも設置可能です。 ●抵抗加...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御超高温実験炉（カーボン炉、…

Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御（ガス流量→ニードルバルブにて手動調整） ◉作業中の安全を確保冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース幅603 x ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…

成』専用超高温ウエハーアニール炉。 ◆主な特徴◆ ・セミオート：真空・パージ（3 cycle）〜ベントまでを自動シーケンス制御（標準）・手動プロセス圧力制御（標準）：手動ベローズバルブ調整・有効加熱範囲：φ4-φ8inch（その他サイズ可能）・高真空対応（ターボ分子ポンプ） ◆オプション◆ ・フルオート自動プロセス運転（オプション）・自動APC制御（オプション）： ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

どの全てを7"タッチパネルで一元管理。 ◉ ユーザの登録したフィルムレシピ、プロセス制御（真空引/ベント、成膜時間、出力/時間、MFC流量圧力自動制御、カソード切替、シャッター開閉、加熱・昇降回転調整など）を全自動運転（手動も可能）〜Windows PCでデータロギングができます。【主な仕様】・RF/DCマグネトロン方式・2inchマグネトロンカソードx3源（標準1源）・RF...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

ー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

ャンバー）基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート）基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整）寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着などの混在仕様も構成可能です。...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…

成』専用超高温ウエハーアニール炉。 ◆主な特徴◆ ・セミオート：真空・パージ（3 cycle）〜ベントまでを自動シーケンス制御（標準）・手動プロセス圧力制御（標準）：手動ベローズバルブ調整・有効加熱範囲：φ4-φ8inch（その他サイズ可能）・高真空対応（ターボ分子ポンプ） ◆オプション◆ ・フルオート自動プロセス運転（オプション）・自動APC制御（オプション）： ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御超高温実験炉（カーボン炉、…

Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御（ガス流量→ニードルバルブにて手動調整） ◉作業中の安全を確保冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース幅603 x ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

・レシピ管理などの全てを7"タッチパネルで一元管理。 ◉ ユーザの登録したフィルムレシピ、プロセス制御（真空引/ベント、成膜レート、APC自動圧力制御、カソード切替、シャッター開閉、加熱・昇降回転調整など）を全自動運転（手動も可能） Windows PC用付属ソフト（IntelliLink）で装置モニター、データロギングができます。【主な仕様】・RF/DCマグネトロン方式・2i...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

ー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社