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PR柔軟性に優れた架橋ウレタン微粒子です。硬質樹脂の応力緩和に貢献します。
ダイミックビーズは懸濁重合反応によって合成するウレタン微粒子です。真球状でマイクロメートルオーダーの粒子径であり、組成や硬さ、粒子径の調整が可能です。 【特長】 ・ウレタンの高い柔軟性と復元性 ・シャープな粒度分布 ・硬質樹脂の応力緩和、低反り、加工時の割れ防止 ・各種有機溶剤に対する優れた分散性 ・架橋微粒子のため、高い耐熱性や湿熱信頼性 ・光拡散性 ・艶消し性...【製品ラインナップ】 粒径...
メーカー・取り扱い企業: 大日精化工業株式会社
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PR今までの3ton仕様 (ISB-S型)より軽荷重かつ安価な製品としてラ…
お客様よりお問い合わせが多かった製品を標準品としてラインナップ致しました。回転式作業台やコンベヤの方向転換、ディスプレイや撮影用として使用されています。 ■回転速度:Φ600 1~6r.p.m(速度調整可能) Φ1000 1~7r.p.m(速度調整可能) ■アンカーで固定したり、簡易的であればそのまま置いて使用できます。 ■フットスイッチなどのオプション品などもあり...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社井口機工製作所 本社
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真空装置の設計・製作から保守作業までお任せを!
【各種FA関連装置】 ・真空室内可動装置・大気/真空/グローブボックス室関連装置 ・有機EL、FPD、太陽電池、他設備の設計製作 【図面支給による製作】 ・部品加工、購入、組立、調整、検査、据付調整 ・量産装置向け組立、調整、検査、据付調整 【半導体プロセス応用製品】 ・実験用蒸着装置・有機EL蒸着基板用実験装置・スパッタ装置(実験設備/生産設備)・CVD装置(実験設...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社コスモ・サイエンス
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
ャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) 寸法:1,120(W) x 800(D) ●プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれへも設置可能です。 ●抵抗加...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター
各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…
/GaAsなどの低格子不整合材料系にも対応可能 6) 数mmまでの厚膜ウェハに対応可能 7) 高い安定性とアライメントフリー測定を実現 8) 白色光源の採用、反射率の変化に影響無し、露光時間の調整が不要。 9) ウェーハの平坦性に影響せず、パターニングされたウェーハでも測定可能 10) 他のソフトウェアとデータを共有可能。 仕様 1) 曲率測定レンジ 0.0008~200,000...
メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社
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液漏れを早期に発見し事故を最小限に防止!油、有機溶剤検知器にRoHSお…
を最小限に防止することができます。 【特徴】 ■検知方法は抵抗変化方式を採用 ■液漏れと断線の警報を各々別の外部接点から出力することが可能 ■対象液体や液漏れ状態に合わせて液漏れ検知感度調整可能 ■自己診断機能付き ■RoHS対応 ※詳しくはお問い合わせ、またはPDFをダウンロードしてご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: ラポールプラントエンジニアリング株式会社
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特殊ガス用途に開発された静電容量方式の圧力センサ
mLと小さくパージが容易に行えます。 接ガス部はSUS316LのVAR材を0.18Raの電解研磨処理しており、全品ヘリウムリークテストを行っています。 スライド式カバーになっておりゼロ、スパンの調整が容易に行えます。 わずかなダイヤフラムの変化の静電容量を検出し独自のチャージバランス原理を使用したカスタムICにより高精度のリニアな直流電気信号に変換します。 電気接続は1.8m多芯ケーブル又...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部
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AtomSpectraDBViewer 高速便利に検索!新バージョン登…
ぐに探せる ・CSVファイルへのエクスポート ・エクスポート時の文字置き換え機能 ・発光強度の切替 真空時/エア混じり ・波長の単位切替 ・データのスクロールアウト防止 ・フォントサイズ調整可 ・カラーサンプルでわかりやすい! その他、便利な機能を搭載しています。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クレブ
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ICPパワーによるイオン密度の制御!低温成膜、低ダメージ、高コンフォマ…
【特長】 ■ICPパワーによるイオン密度の制御 ■オプションのバイアスパワーによるイオンエネルギーの制御 ■リアクター圧力、分離されたガス供給ラインとICPソースと基板電極間の 間隔調整によるプロセスの最適化 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
ャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) 寸法:1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着などの混在仕様も構成可能です。...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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PLAD-150Y PLDシステム
ます。 YAGレーザによるPLDは容易に集光が得やすいことが特徴です。 金属材料などもアブレートしやすいですが、逆にドロップレット発生が起きやすくもあります。 AOVでは光軸も据付調整を協力致します。...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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PLAD-250E PLDシステム
PLAD-250E PLDシステムはエキシマレーザ(KrF,650mJ,10Hz)を用います。 AOVでは光軸も据付調整を協力致します。 ...
メーカー・取り扱い企業: AOV株式会社
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