• 半導体・センサパッケージング&カメラモジュールの開発・製造 製品画像

    半導体・センサパッケージング&カメラモジュールの開発・製造

    PR半導体・センサパッケージングや半導体モジュールの開発・試作、小中規模量…

    当社では、半導体ベアチップ実装、マイクロ接合技術による小型実装モジュールの開発から、 小中規模の量産までワンストップでサポートします。 カメラの受託製造も承っています。 こんなことでお困りの方、お気軽にお問い合わせください! 【モジュール開発・実装技術開発サービス】 ■実装基板の小型化をしたいが専門化がいない。 ■新たに実装工法を開発したい。 【試作サービス】 ■原理試作・エンジニアリングサ...

    メーカー・取り扱い企業: マイクロモジュールテクノロジー株式会社

  • 『ビジネス改善支援』 製品画像

    『ビジネス改善支援』

    PR製品開発の期間短縮、意思決定の迅速化を実現。製品の企画・開発プロセスを…

    当社は、製品の企画・開発プロセスを最適化し、 業務の効率化などを実現する『ビジネス改善支援』を行っています。 より良い製品開発に必要な顧客要望の集約や管理、 企画から開発に至るプロジェクトの透明性の向上などを実現し、 製品開発の期間短縮や、意思決定の迅速化を支援します。 Atlassian TEAM TOUR Tokyo は、チームワークのイノベーションについて語り合う、年に一度...

    メーカー・取り扱い企業: INNOOV(イノーブ)株式会社 東京

  • 乾式散布装置「ドライスペーサー散布装置」 製品画像

    乾式散布装置「ドライスペーサー散布装置」

    数百nm〜数十μmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、散布装置…

    散布します。また、壁面への高電圧を印加することで、粒子の壁面付着を抑え、粒子の利用効率を改善するとともに、大きなサイズのワークにおいても均一な分散性能を確保します。 100〜200mm角程度の研究開発用途からG6サイズ等の量産装置まで対応します。(クラスタークリーナー、検査装置などを組合せたインライン装置のご提案・製造も対応可能です。) 20〜30μmなどの大粒径スペーサーの散布、調光ガラ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクニカルフィット

  • シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」 製品画像

    シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」

    1チャンバーで異物・金属汚染を取り除く省スペースな洗浄装置!洗浄方法の…

    各種ウェハの界面活性剤・純水スクラブ洗浄、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までの工程を1つのチャンバーで行う枚葉装置 ◇ シングルチャンバーで完結する省スペース型 ◇ Si(シリコン)、LT(リチウムタンタレート)やSiC(炭化ケイ素)他、   各種ウェハに対応 ◇ 異物(有機物・無機物)の除去、金属イオンの除去 ◇ 洗浄項目・装置構成の変更に柔軟に対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクニカルフィット

  • 省スペース型「スピン洗浄装置(多目的洗浄タイプ)」 製品画像

    省スペース型「スピン洗浄装置(多目的洗浄タイプ)」

    1チャンバー型多目的スクラブ洗浄。1チャンバーで異物、金属汚染を取り除…

    各種サイズ、各種ウエハの、界面活性剤、純水スクラブ、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までを1チャンバーで行う枚葉装置です。 1つの洗浄層の中で洗浄が完結できる省スペース型のためスペースの限られた場所にも適しています。 単機能のスクラブ洗浄装置についてはご相談ください。 【特長】 ■洗浄・リンス・乾燥まで1か所で行える ■被洗浄対象ウエハ:シリコン、石英、酸化物、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクニカルフィット

  • ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(研究開発用)」 製品画像

    ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(研究開発用)」

    ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

    ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクニカルフィット

  • ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置(研究開発用)」 製品画像

    ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置(研究開発用)」

    ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

    ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクニカルフィット

  • 乾式散布装置「微粒子対応 分散・散布装置」 製品画像

    乾式散布装置「微粒子対応 分散・散布装置」

    数μmから数百nmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、乾式散布…

    粒子の壁面付着を抑え、粒子の利用効率を改善するとともに、大きなサイズのワークにおいても均一な分散性能を確保します。 100mm×100mm〜300mm✕300mm程度のワークサイズに対応した、研究開発・試作用の卓上散布機です。 (1500mm✕1500mm等の大型ガラスへの対応、インライン向けの量産装置も製造可能) ※詳しくはお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクニカルフィット

  • 乾式散布装置「卓上型 簡易散布装置」 製品画像

    乾式散布装置「卓上型 簡易散布装置」

    数μmから数百nmの粒子を摩擦帯電により分散、均一に散布する、乾式散布…

    粒子の壁面付着を抑え、粒子の利用効率を改善するとともに、大きなサイズのワークにおいても均一な分散性能を確保します。 100mm×100mm〜300mm✕300mm程度のワークサイズに対応した、研究開発・試作用の卓上散布機です。 (1500mm✕1500mm等の大型ガラスへの対応、インライン向けの量産装置も製造可能) ※詳しくはお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクニカルフィット

1〜7 件 / 全 7 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 修正デザイン2_355337.png
  • 0527_iij_300_300_2111588.jpg

PR