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小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】
PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備しているので安定…
『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置(デポアップ)です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系:<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化:W500×D39...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイブリッジ 東京営業所
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PRAEM(アニオン交換膜)式水電解を採用。アルカリ水電解・PEM水電解の…
【AEM式水電解水素製造装置 3つの特長】 1.高圧・高純度の水素を生成 99.999%純度の水素を3.5MPaGの高圧で生成可能。電極反応はアルカリ 水電解と同じですが、腐食性の高い濃アルカリ液を使用しません。セ ル構造はPEM水電解と同様、膜電極接合体構造で高速応答性、広い運 転範囲、間欠運転を許容する等の優れた特性を持ちます。 2.貴金属不要で低コストを実現 ...
メーカー・取り扱い企業: 三國機械工業株式会社
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新プラズマ源HCD(ホローカソード放電)電極搭載、各種メタルやCu薄膜…
新開発プラズマ源HCd(ホローカソード放電)型電極搭載。無磁場・無アンテナのシンプルなk構造で従来型電極より一桁高いプラズマを密度を実現。 独自開発高密度プラズマと独自プロセスで各種メタルだけでなくCu薄膜などの難エッチング材のエッチングに対...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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シンプルな機構で高密度プラズマを実現。ウェハから1m□基板まで対応。S…
従来型の容量結合型プラズマエッチング装置にくらべ一桁高い密度のプラズマを実現。高周波アンテナや磁石を使用せず、電極構造のみの工夫によって高精度エッチングが可能。従来型のエッチング装置(CCP型・ICP型)とのハード上の互換性も高く低コスト・高い信頼、稼働率の実現に寄与。 ウェハレベルの基板だけでなく大型基板の...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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ニッチプな要求に細やかに対応。ライトエッチング・アッシングを薄ウェハや…
3~8インチウェハ対応の大気搬送型CtoCシステム。 平行平板型RIE装置を基本とし、電極切替によるマルチモードプラズマによりソフトモードプラズマ処理を実現 CF系、O2、Ar、H2などのガス系とプラズマモードの組み合わせにより差的なプロセスを選択可能。 オプションで両面処理機能・3...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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