• Enapter社「AEM式水電解水素製造装置」 製品画像

    Enapter社「AEM式水電解水素製造装置」

    PRAEM(アニオン交換膜)式水電解を採用。アルカリ水電解・PEM水電解の…

    【AEM式水電解水素製造装置 3つの特長】 1.高圧・高純度の水素を生成   99.999%純度の水素を3.5MPaGの高圧で生成可能。電極反応はアルカリ   水電解と同じですが、腐食性の高い濃アルカリ液を使用しません。セ   ル構造はPEM水電解と同様、膜電極接合体構造で高速応答性、広い運   転範囲、間欠運転を許容する等の優れた特性を持ちます。 2.貴金属不要で低コストを実現  ...

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    メーカー・取り扱い企業: 三國機械工業株式会社

  • CNT面状発熱体「HEATNEX(ヒートネクス)」 製品画像

    CNT面状発熱体「HEATNEX(ヒートネクス)」

    PR【無料サンプル進呈中】新素材のカーボンナノチューブ(CNT)を塗料化し…

    ニクロム線など金属系素材を使用した面状発熱体とは違い、 全面発熱する素材です。 HEATNEXはCNTを抵抗体として使用しフィルムに印刷することで フレキシブルな発熱素材を実現しました。 透明度の調整により透明に近づけ 光を通す仕様にも対応可能です。 【特長】 ■全面で均一に発熱させることが可能なフレキシブルな発熱素材です。 ■面状発熱の伝熱と遠赤外線の輻射熱により効率的に...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アドバネクス

  • 側面電極用イオンプレーティング装置(面実装小型部品対応) 製品画像

    側面電極用イオンプレーティング装置(面実装小型部品対応)

    小型電子部品(面実装タイプ)の側面電極形成をドライ化。PVD(イオンプ…

    面実装タイプの受動電子部品(抵抗器・コンデンサ)などの側面電極をドライプロセスで形成。 廃液処理不要なクリーンプロセス。部品の端面のみに強い密着力で電極被膜を形成。Sn、Ni等の金属膜をハイスループットで形成。(酸化膜形成にも対応) 実績豊富なハードと独自...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • Cuエッチング対応高密度プラズマエッチング装置 製品画像

    Cuエッチング対応高密度プラズマエッチング装置

    新プラズマ源HCD(ホローカソード放電)電極搭載、各種メタルやCu薄膜…

    新開発プラズマ源HCd(ホローカソード放電)型電極搭載。無磁場・無アンテナのシンプルなk構造で従来型電極より一桁高いプラズマを密度を実現。 独自開発高密度プラズマと独自プロセスで各種メタルだけでなくCu薄膜などの難エッチング材のエッチングに対...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • R%D用マルチチャンバスパッタリング装置 製品画像

    R%D用マルチチャンバスパッタリング装置

    R&Dやニッチプロセスへの対応に特化 量産用装置では困難な少量生産や試…

    先端薄膜プロセス開発・少量生産専用の低コスト型マルチチャンバスパッタリング装置。 膜厚制御性に優れた高効率カソードと豊富なオプション機構により幅広い分野に対応 Si半導体の電極・配線膜だけでなく、マイクロ磁気デバイスやMEMS用の磁性体膜・絶縁膜・保護膜など各種プロセスに実績 蒸着・アニール・CVDなどの異種プロセス室も装備可能で実績のあるメインフレーム(搬送システム)...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • SDR型巻取式スパッタリング装置(RtoRタイプスパッタ装置) 製品画像

    SDR型巻取式スパッタリング装置(RtoRタイプスパッタ装置)

    サンプルテスト対応中 フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先…

    ートにより各種の個別要求に確実に対応。 一般的な樹脂フィルムだけでなく金属箔を含む幅広い基板に実績 独自開発による高使用率カソードと実績豊富な搬送機構により安定した稼動を実現。 プラズマ前処理電極や磁性材用カソード、基板加熱用メインロールなど豊富なオプション機構を揃えており多目的なフィルム連続処理装置として運用可能 R&D用小型機やシート対応のバッチ型装置など目的・用途に合わせて柔軟にハー...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 大型プラズマエッチング装置 製品画像

    大型プラズマエッチング装置

    ウェハやガラス・大型基板のエッチング・アッシングに実績豊富なバッチタイ…

    標準500mm□のステージを装備したバッチタイプ平行平板型プラズマエッチング装置。 高周波プラズマを標準とし電極の切替によりRIE・プラズマエッチングのどちらのモードにも対応。 F系ガスによるエッチング・アッシングを標準的なプロセスとしSi系・SiO2系・SiN系のエッチング及びアッシングに対応。またArガ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • HCD型高密度プラズマエッチング装置 製品画像

    HCD型高密度プラズマエッチング装置

    シンプルな機構で高密度プラズマを実現。ウェハから1m□基板まで対応。S…

    従来型の容量結合型プラズマエッチング装置にくらべ一桁高い密度のプラズマを実現。高周波アンテナや磁石を使用せず、電極構造のみの工夫によって高精度エッチングが可能。従来型のエッチング装置(CCP型・ICP型)とのハード上の互換性も高く低コスト・高い信頼、稼働率の実現に寄与。 ウェハレベルの基板だけでなく大型基板の...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 枚葉式プラズマエッチング装置「EXAM-Σ」 製品画像

    枚葉式プラズマエッチング装置「EXAM-Σ」

    ニッチプな要求に細やかに対応。ライトエッチング・アッシングを薄ウェハや…

    3~8インチウェハ対応の大気搬送型CtoCシステム。 平行平板型RIE装置を基本とし、電極切替によるマルチモードプラズマによりソフトモードプラズマ処理を実現 CF系、O2、Ar、H2などのガス系とプラズマモードの組み合わせにより差的なプロセスを選択可能。 オプションで両面処理機能・3...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ロードロックタイプスパッタリング装置(枚葉搬送タイプ)デモ対応中 製品画像

    ロードロックタイプスパッタリング装置(枚葉搬送タイプ)デモ対応中

    ディスクリート素子から先端デバイスまで、R&Dに量産に。コンパクト、ハ…

    リートIC、カスタムIC,化合物)の量産・試作。 次世代デバイスの開発(強誘電体膜開発、配向性窒化膜形成)に実績のソフト&ハード UV-LED用テンプレート用AlN膜、センサー用酸化膜、高均一性電極膜、薄膜ヒーター、強誘電体(PZT)膜、その他多くの実績...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

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