約１秒で結果を出す！高圧1500Vの太陽光発電のIV計測

PR約１秒で結果を表示する短時間計測が可能！発電システムの竣工点検・定期点…

『イプシロン1500V』は、高圧化する太陽光発電システムの メンテナンスに対応したI-Vカーブトレーサーです。 PVアナライザ「イプシロン400/1000」の特長を引き継ぎながら、 1500[V]計測を実現しました 【特長】 ■短時間計測（結果表示まで約1秒・日射や影の急変の影響を受けにくい） ■シンプルな操作性（事前設定が必要なくワンボタンで計測可能） ■本機と計測ユニット...

メーカー・取り扱い企業： 日本カーネルシステム株式会社 本社

熱中症指標計 WBGT-300シリーズ【黒球付 暑さ指数計】

PR■JIS クラス1.5適合　■IP65の防水性能 労働現場や学校、ス…

WBGT-301/302は、測定値のメモリ機能や有線通信機能など、高性能かつ高機能なモデルです。 WBGT-301plus/302plusは、WBGT-301/302に無線通信機能を内蔵したモデルです。 洗練されたデザインにより操作性を向上させるとともに、ハンディタイプの熱中症指標計で最高基準の高精度（クラス1.5）を実現いたしました。 また、防塵防滴構造についてはIP65相当に対応しました...

メーカー・取り扱い企業： 京都電子工業株式会社 東京支店

高電流密度イオンビーム型イオン銃

EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃

の製造をスウェーデンのストックホルムに移管し、製品、スペアパーツ、サービスサポート等を提供する製造メーカーとして信頼性の高い非常に優れた機器を低価格でご提供しております。 【特⾧】 　■ 高電流密度イオンビーム：サンプル表面のスパッタ洗浄及び薄膜構造の迅速で正確な深さプロファイリングに最適です。 　■ スイッチャブルデュアルフィラメント：真空サイクル中でフィラメントがバーンアウトした場合...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テク

高電圧パルス発生器

電圧・電流設定の操作、モニタ-を行う事が可能

・高安定度高圧電源(温度変動50ppm/℃)搭載。 ・電流、温度制御の時定数設定可能。 ・高電圧高速スイッチ(2KV-pp / 40ns)搭載。 ・各電源を機能別にモジュール化。 ・各電源の電圧、電流、温度モニタ機能。 ・負荷短絡時の保護機能。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社Ａ・Ｒ・Ｐ

リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【多目的真空蒸着装置】抵抗加熱蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用抵抗加熱蒸着源

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の抵抗加熱蒸着源です。 抵抗加熱蒸着法は、最も一般的な真空蒸着プロセスです。ボート型やルツボ型の加熱容器に材料を置き、加熱容器に電流を流すことで抵抗熱を発生させ、材料を加熱します。加熱容器の温度が充分に上昇すると、容器内の材料が蒸発し始めます。蒸着レートは電流によって制御することが可能です。 抵抗加熱蒸着装置の利点はプロセ...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

リモートイオンソース型 HR-PVDスパッタリングモジュール

指向性成膜を実現し、リアクティブスパッタリングも可能な高イオン電流ヘリ…

AVP Technology社製 HR-PVDスパッタリングモジュール ・ヘリコンプラズマイオンソースを用いたリモートプラズマソースによりICPソースと比べ高いイオン化効率を実現しています。 ・傾斜角方向からの優れた直進性により、膜厚均一性およびステップカバレッジにおいても優れた結果を得ています。 ・リモートプラズマにより、基盤を低温に保っての成膜を実現します。 ・ターゲット利用効率においても優...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

平行移動式3元RFスパッタリング装置『MSS600-3』

ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能！

【仕様】 ■電源電圧：AC200V　三相3線式　50/60Hz（電源電圧変動：±10％） ■最大電流：250A ■運転可能周囲温度湿度：+5～+35℃/75%rhまで ■装置本体外形寸法(W×H×Dmm)：3940×1980×1550 ■装置システム敷地寸法(W×Dmm)：5000×3000...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社愛知真空

【多目的真空蒸着装置】電子ビーム蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用1源および4源電子ビーム蒸着源

偏向マグネットは使用しません。 TAUソースの各ポケットには、蒸気中に含まれるわずかなイオンを検出するための、"フラックスモニタリングプレート"が標準で搭載されています。ここで検出されるイオン電流値は、蒸着レートと比例関係にあり、サブモノレイヤーの膜を精密に成長できるほど高感度です。 4源同時蒸着モデルであるTAU-4には、4つのポケットにそれぞれ独立したフラックスモニタリングプレートが備...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

研究・開発用機器/超高真空機器

信頼性の高いシステムを構築！メンテナンスや改造も当社にお任せください

抜粋)】 ＜真空成膜装置＞ 　■RFマグネトロンスパッタ装置 　■対向ターゲットスパッタ装置 　■電子ビーム蒸着装置 ＜各種研究用装置＞ 　■高真空高温炉装置 　■基板加熱装置 　■電流導入端子各種 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ