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新型:ソフトスタータ α-Beat plusアルファビートプラス
PR【納期10日】再突入電流が出ない始動器。インバーターのバックアップにも…
『α-Beat plus:アルファビートプラス』は、2023年9月にデビューした新型ソフトスターターです。 スターデルタ始動方式でみられる再突入電流は出ません。 冷却ファンが必要なく、高調波対策・ノイズ対策も不要で、 インバーターのバックアップにも好適です。 短納期で対応でき、MCB容量も小さく配線も3本と小型軽量で経済的。 固定速の設備に適しています。 ソフトスタート・ソフトストップするので...
メーカー・取り扱い企業: 電光工業株式会社
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PR安定した高速駆動 高精度な制御を実現
■特徴 CA350-011は、直動サーボ弁駆動用サーボアンプです。 指令入力電圧に比例して、サーボ弁のスプール位置を変位制御します。 出力にはPWM方式を採用し、安定した高速駆動が可能です。 サーボ弁のスプール部に設置したLVDTセンサによる変位信号を、電圧値でフィードバックすることにより高精度で制御します。 基板本体は100×139mmの樹脂製ケースに収められ、コンパクトかつ軽量に仕上がっていま...
メーカー・取り扱い企業: ピー・エス・シー株式会社
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EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃
の製造をスウェーデンのストックホルムに移管し、製品、スペアパーツ、サービスサポート等を提供する製造メーカーとして信頼性の高い非常に優れた機器を低価格でご提供しております。 【特⾧】 ■ 高電流密度イオンビーム:サンプル表面のスパッタ洗浄及び薄膜構造の迅速で正確な深さプロファイリングに最適です。 ■ スイッチャブルデュアルフィラメント:真空サイクル中でフィラメントがバーンアウトした場合...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社テク
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ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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多目的真空蒸着装置HEXシステム用抵抗加熱蒸着源
多目的真空蒸着装置HEX/HEX-L用の抵抗加熱蒸着源です。 抵抗加熱蒸着法は、最も一般的な真空蒸着プロセスです。ボート型やルツボ型の加熱容器に材料を置き、加熱容器に電流を流すことで抵抗熱を発生させ、材料を加熱します。加熱容器の温度が充分に上昇すると、容器内の材料が蒸発し始めます。蒸着レートは電流によって制御することが可能です。 抵抗加熱蒸着装置の利点はプロセ...
メーカー・取り扱い企業: テガサイエンス株式会社
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リモートイオンソース型 HR-PVDスパッタリングモジュール
指向性成膜を実現し、リアクティブスパッタリングも可能な高イオン電流ヘリ…
AVP Technology社製 HR-PVDスパッタリングモジュール ・ヘリコンプラズマイオンソースを用いたリモートプラズマソースによりICPソースと比べ高いイオン化効率を実現しています。 ・傾斜角方向からの優れた直進性により、膜厚均一性およびステップカバレッジにおいても優れた結果を得ています。 ・リモートプラズマにより、基盤を低温に保っての成膜を実現します。 ・ターゲット利用効率においても優...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能!
【仕様】 ■電源電圧:AC200V 三相3線式 50/60Hz(電源電圧変動:±10%) ■最大電流:250A ■運転可能周囲温度湿度:+5~+35℃/75%rhまで ■装置本体外形寸法(W×H×Dmm):3940×1980×1550 ■装置システム敷地寸法(W×Dmm):5000×3000...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社愛知真空
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多目的真空蒸着装置HEXシステム用1源および4源電子ビーム蒸着源
偏向マグネットは使用しません。 TAUソースの各ポケットには、蒸気中に含まれるわずかなイオンを検出するための、"フラックスモニタリングプレート"が標準で搭載されています。ここで検出されるイオン電流値は、蒸着レートと比例関係にあり、サブモノレイヤーの膜を精密に成長できるほど高感度です。 4源同時蒸着モデルであるTAU-4には、4つのポケットにそれぞれ独立したフラックスモニタリングプレートが備...
メーカー・取り扱い企業: テガサイエンス株式会社
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信頼性の高いシステムを構築!メンテナンスや改造も当社にお任せください
抜粋)】 <真空成膜装置> ■RFマグネトロンスパッタ装置 ■対向ターゲットスパッタ装置 ■電子ビーム蒸着装置 <各種研究用装置> ■高真空高温炉装置 ■基板加熱装置 ■電流導入端子各種 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヤシマ
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